光固化性组合物以及使用该组合物的防反射膜制造技术

本发明专利技术提供一种光固化性组合物，其包含：含有至少１种由通式（１）所示的化合物（Ａ）的光固化性材料、以及具有１．６０以上的折射率的填料（Ｂ），式中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［３］分别独立地表示氢原子或甲基，Ｒ↑［４］～Ｒ↑［６］分别独立地表示未取代或取代的、直链或支链的亚烷基，Ｒ↑［７］表示氢或１价的有机基团，Ｒ↑［８］表示４价的芳香基。其中Ｒ↑［７］和Ｒ↑［８］中的至少一个含有联苯骨架。本发明专利技术还提供一种防反射膜，其中在塑料基材的一个面上，依次层叠有由上述的光固化性组合物形成的高折射率硬涂层、以及折射率为１．２０～１．５０的低折射率层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种兼具高折射率、高铅笔硬度和高耐划伤性等硬涂性，同时耐光性亦优良的光固化性组合物。此外，本专利技术还涉及用于保护文字处理器、计算机、电视等的显示设备的表面，例如等离子体显示设备、CRT显示设备、液晶显示设备、投影显示设备、EL显示设备的表面的防反射膜。
技术介绍
近年来，高折射率塑料材料的光学设备的研发进展迅速，对于各种显示设备用的防反射膜的研究正在积极进行之中。对于用于防反射膜的高折射率材料，除了具有高折射率之外，还需要具有高铅笔硬度和高耐划伤性等硬涂性、透明性、低比重和耐光性等，迄今为止已经研发出各种材料。例如，作为显示高折射率的材料，公开了具有2个(甲基)丙烯酸酯和联苯骨架的化合物。其虽然表现出由联苯骨架所带来的高折射率，但由于分子内仅有2个(甲基)丙烯酸酯，所以光照时进入聚合体系的几率很低，结果具有铅笔硬度等硬涂性容易降低的缺点，此外，即使在光照时能够高效率地进入聚合体系，也仍然具有光固化时的体积收缩剧烈，与基材的密合性变差的缺点。为了改善上述缺陷，曾经对延长分子内的联苯骨架和(甲基)丙烯酸酯之间的距离进行过研究，结果虽然铅笔硬度等硬涂性提升，但是具有体系内的联苯骨架的浓度降低，得不到足够的折射率的缺点。此外，作为别的方法，当与其它的光聚合性材料联用时，同样地具有体系内的联苯骨架的浓度降低，结果得不到足够的折射率的缺点(特开2003-64025号公报，特开2003-64026号公报)。如上所述，在现有技术中，还没有得到一种能够兼具高折射率、高铅笔硬度和高耐划伤性等硬涂性和耐光性的光固化性材料。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种兼具高折射率、优良的硬涂性和耐光性的光固化性组合物。此外，本专利技术还旨在提供一种兼具优良的硬涂性和耐光性、并具有良好的光学性能的防反射膜。根据本专利技术的第1方面，提供一种光固化性组合物，其包含含有由通式(1)所示的化合物(A)的光固化性材料、以及折射率为1.60以上的填料(B)。通式(1) (式中，R1～R3分别独立地表示氢原子或甲基，R4～R6分别独立地表示未取代或取代的、直链或支链的亚烷基，R7表示氢或1价的有机基团，R8表示4价的芳香基。其中R7和R8中的至少一个含有联苯骨架。) 本专利技术的光固化性组合物中，优选通式(1)中的R7和R8两者都含有联苯骨架。此外，本专利技术的光固化性组合物中，填料(B)优选是金属氧化物。根据本专利技术的第2方面，提供一种防反射膜，其中，在塑料基材的一个面上，依次层叠有由本专利技术的第1方面所述的光固化性组合物形成的高折射率硬涂层以及折射率为1.20～1.50的低折射率层。本专利技术的防反射膜中，高折射率硬涂层的折射率优选在1.60～1.75的范围内，高折射率硬涂层的铅笔硬度优选为2H以上。具体实施例方式首先对本专利技术的光固化性组合物进行说明。本专利技术的光固化性组合物包含含有上述通式(1)所示的化合物(A)的光固化性材料、以及具有1.60以上的折射率的填料(B)。上述通式(1)所示的化合物(A)是赋予高折射率和优良的硬涂性的成分，在不含卤原子的情况下极少变黄等，耐光性优良。在上述通式(1)所示的化合物(A)中，特别是每一个聚合性不饱和双键基团的数均分子量大于300的化合物可以得到优良的硬涂性，因而是优选的。在通式(1)中，R1～R3分别独立地是氢原子或甲基。R4～R6分别独立地表示未取代或取代的、直链或支链的亚烷基。作为该亚烷基可任选具有的取代基，包括含芳族的基团(例如苯氧基)、卤原子和羟基。亚烷基优选具有1～8个碳原子。R6通常具有1个羟基作为取代基，该羟基通常与相对于R6所结合的酰基的-O-基在β位的碳原子结合。R7表示氢或1价的有机基团。后者的有机基团可以是由式-R6-OC(O)-C(R3)＝CH2(其中R6和R3的定义与通式(1)中的相同)所示的基团，也可以是由式-CH2-C(OH)CH2-O-R71(其中R71为取代或未取代的联苯基)所示的基团。作为联苯基可任选具有的取代基的例子，包括羟基、氰基和乙烯基。R8为4价的芳香基。作为芳香基的例子，包括苯、二苯甲酮、联苯、苯基醚、二苯砜、二苯硫醚、苝和萘。在本专利技术中，R7和R8中的任一个含有联苯基，优选R7和R8分别都含有联苯基。为了制备由通式(1)所示的化合物(A)，首先，使由下式(A) (其中R8的定义与通式(1)中的相同)所示的芳香族四羧酸二酐与由下式(B)CH2＝C(R1)COOR4OH(其中R1和R4的定义与通式(1)中的相同)所示的第1含羟基(甲基)丙烯酸酯和由下式(C)CH2＝C(R2)COOR5OH(其中R2和R5的定义与通式(1)中的相同)所示的第2含羟基(甲基)丙烯酸酯反应，可以制得由式(D)所示的化合物 (其中R1、R2、R4、R5和R8的定义与通式(1)中的相同)。作为由式(A)所示的芳香族四羧酸二酐的例子，包括均苯四酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐、羟基联苯二甲酸二酐、二苯砜四羧酸二酐、二苯硫醚四羧酸二酐、苝四羧酸二酐和萘四羧酸二酐。上述芳香族四羧酸二酐中，联苯四羧酸二酐由于具有联苯骨架，可以高效率地将联苯骨架引入到化合物(A)的分子内，可以进一步将化合物(A)的折射率提高到1.57以上，因而是特别优选的。第1和第2含羟基(甲基)丙烯酸酯可相同或不同。作为所述含羟基(甲基)丙烯酸酯的例子，包括丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸2-羟基丁酯、甲基丙烯酸2-羟基丁酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯和甲基丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯。上述芳香族四羧酸二酐与第1和第2含羟基(甲基)丙烯酸酯的反应是芳香族四羧酸二酐具有的2个羧酸酐基与第1与第2含羟基(甲基)丙烯酸酯分别具有的羟基之间的反应，该反应本身为本领域技术人员所熟知。例如可以在环己酮之类的溶剂中，在1，8-二氮杂双环-7-十一碳烯等催化剂的存在下，使芳香族四羧酸二酐与第1和第2含羟基(甲基)丙烯酸酯在50～120℃的温度下反应。此时，可以向反应体系中添加诸如甲基醌(methoquinone)那样的阻聚剂。上述反应后，含有作为反应产物的式(D)的化合物的反应混合物可以不进行精制，而向其中添加例如下式(E)的含环氧基化合物，使其反应得到通式(1)所示的化合物。 (其中R0为CH2＝C(R3)-C(O)O-基(其中R3的定义如上所述)或R71-O-基(其中R71的定义如上所述))。作为由式(E)所示的化合物的例子，包括甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯那样的含有环氧基的(甲基)丙烯酸酯；邻苯基苯酚缩水甘油醚、对苯基苯酚缩水甘油醚、单苯乙烯化苯酚缩水甘油醚、4-氰基-4-羟基联苯基缩水甘油醚、4，4’-双酚单缩水甘油醚、4，4’-双酚二缩水甘油醚那样的芳香族缩水甘油醚化合物。式(D)所示的化合物与式(E)所示的化合物的反应是式(D)所示的化合物所具有的羧基与式(E)所示的化合物所具有的环氧基之间的反应，该反应本身为本领域技术人员所熟知。该反应例如可以在二甲基苄基胺等胺催化剂的存在下，在50～120℃的温度下进行。含有通式(1)所示的化合物(A)的光固化性组合物可以通过以下的方法适当地调整折射率和硬涂性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光固化性组合物，包含：含有至少１种由通式（１）所示的化合物（Ａ）的光固化性材料、以及具有１．６０以上的折射率的填料（Ｂ），通式（１）：＊＊＊式中，Ｒ↑［１］～Ｒ↑［３］分别独立地表示氢原子或甲基，Ｒ↑［４］～Ｒ↑［６］分别独立地表示未取代或取代的、直链或支链的亚烷基，Ｒ↑［７］表示氢或１价的有机基团，Ｒ↑［８］表示４价的芳香基，其中Ｒ↑［７］和Ｒ↑［８］中的至少一个含有联苯骨架。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：望月正一，富永浩史，重森一范，秦野望，落合英树，天野幸雄，
申请(专利权)人：东洋油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]