保护薄膜用基材薄膜及保护薄膜积层偏光板制造技术

本发明专利技术是提供一种双折射率小，且具优异耐溶剂性、加热时的耐热性的保护薄膜用基材薄膜，以及由层积此膜所形成的保护薄膜积层偏光板。其中，是在聚碳酸酯膜的两面层积聚酯膜而形成的无配向三层膜，且构成所述三层膜的聚碳酸酯膜膜厚对聚酯膜膜厚的比率（聚碳酸酯膜膜厚／聚酯膜膜厚）为大于０．１、小于５的保护薄膜用基材薄膜，以及在偏光板的单面或两面上层积保护薄膜用基材薄膜所形成的保护薄膜积层偏光板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及层积于液晶显示设备所使用的偏光板的保护薄膜用基材薄膜，以 及层积了保护薄膜用基材薄膜的保护薄膜积层偏光板。
技术介绍
一般使用于液晶显示设备的偏光板是如图1所示，在偏光子1的两面层积偏光子保护薄膜2，构成偏光板3。接着在偏光板3的单面上，设有贴合用的黏着剂 层4,在偏光板3的另一单面上，层积有保护耐刮伤性不佳的偏光子保护薄膜2、 且防止于液晶显示设备制造工程中在操作中的刮伤和尘埃附着的用的黏着保护薄 膜5。再者，在黏着剂层4的表面亦层积了防止在操作中的刮伤和尘埃附着之用 的离型保护薄膜6。偏光板3是以如上述的表里层积了保护薄膜的保护薄膜积层 偏光板的形式出货。近年的液晶显示设备渐趋大画面化及高亮度化，在液晶显示设备中所存在极 为微小的亮点遂成为缺陷。此亮点缺陷是起因于混入偏光子1或偏光子保护薄膜 2的极微小异物或刮伤等缺陷，必须在出货前确实去除使用包含了此缺陷的偏光 子1或偏光子保护薄膜2的偏光板3。偏光板3的缺陷检査， 一般而言是使用正 交偏光法进行目视检查。亦即，重叠两片偏光板，令其各自的配向轴正交使之暗 化，则可目视确认成为缺陷部分的亮点，可检测出缺陷部分。在此偏光板3的缺陷检査中，层积于偏光板3两面的黏着保护薄膜5和离型 保护薄膜6原本并不需要，可除去此膜后再进行检查即可，但在缺陷检查的操作 中，偏光板3出现刮伤，或黏着剂层11上附着异物是无法避免，因此在层积了黏 着保护薄膜5和离型保护薄膜6的状态进行缺陷检査。黏着保护薄膜5和离型保护薄膜6，以往多使用透明性优异，且坚硬不易刮 伤的二轴延伸聚酯膜，但二轴延伸聚酯膜在延伸令其配向时，产生因延伸轴弯曲 现象使配向不一致，使用正交偏光法进行检查时令其正交重叠后，暗化的对比并 不一致的缺点，以及由于呈现因膜的双折射率产生的干扰色，故难以用目视确认异物的缺点。为了消除使用此配向膜时的缺点，专利文献1中揭示了 -种在具有光学性等 方性的聚碳酸酯膜的两面上层积了聚酯膜的三层无延伸、无配向的双折射率小的 膜，将其作为偏光板表里的保护薄膜，层积于偏光板上。然而，在此三层膜中构成各个层的聚酯/聚碳酸酯/聚酯的个别厚度以及厚度的比率若超过一定范围，已知会发生异常现象。亦即，聚碳酸酯膜8的厚度若 过厚，则层积于偏光板上下使用正交偏光法进行检查时，将产生暗化对比不均的 问题。关于本专利技术的先行技术文献是如下。专利文献1特开2004 — 077783号公报
技术实现思路
本专利技术的目的是提供双折射率小，且具优异耐溶剂性、加热时的耐热性(耐 延伸配向性)的保护薄膜用基材薄膜，以及由层积保护薄膜用基材薄膜所形成的 易于检测出光学性缺陷的保护薄膜积层偏光板。另外，本专利技术的另一目的，是提供使用正交偏光法检查时，不会产生暗化对 比不均的保护薄膜用基材薄膜。(1) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征是 在聚碳酸酯膜的两面层积聚酯膜而成的无配向三层膜所形成，且构成所述三层膜的聚碳酸酯膜膜厚对聚酯膜膜厚的比率(聚碳酸酯膜膜厚/聚酯膜膜厚)为 大于O.l、小于5。(2) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征，是在上述(1)中，上述聚碳酸 酯膜的厚度为5 50nm。(3) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征，是在上述(1)或(2)中，上述 聚酯膜的厚度为1 50"m。(4) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征，是在上述(1) (3)的任一中， 上述聚碳酸酯的玻璃转变温度为IOO'C以上。(5) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征，是在上述(1) (4)的任一中， 以微差扫描热量仪测定构成上述聚酯膜的聚酯树脂的升温时的13(TC时的半结晶 化时间(Tc)为1 3000秒。 (6) 本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的特征，是在上述(1) (5)的任一中， 匕述聚酯膜是对苯二甲酸乙二酯'间苯二甲酸乙二酯共聚物、对苯二甲酸丁二酯 ■间苯二甲酸丁二酯共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯的任一 种膜。(7) 本专利技术的保护薄膜积层偏光板的特征，是在偏光板的单面或两面上层积 上述保护薄膜用基材薄膜所形成。附图说明图1所示是保护薄膜偏光板构成的一例的概略剖面图； 图2所示是本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的一实施例的概略剖面图； 图3所示是本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的一实施例的概略剖面图； 图4所示是本专利技术的保护薄膜用基材薄膜的一实施例的概略剖面图。 附图标记说明l偏光子；2偏光子保护薄膜；3偏光板；4黏着剂层；5保护薄 膜；6保护薄膜；7保护薄膜积层偏光板；8聚碳酸酯膜；9聚酯膜；10保护薄膜 用基材薄膜；ll黏着剂层；12离型剂层。具体实施方式以下将说明本专利技术的实施形态。保护薄膜用基材薄膜IO，使用挤压法等，如 图2所示，在聚碳酸酯膜8的两面层积了聚酯膜9。通过使用挤压法，可制作得 到无延伸、无配向膜的三层膜。此外，在黏着保护薄膜5上，如图3所示，于上述的三层的保护薄膜用基材 薄膜10的任一聚酯膜9的表面，以有机溶媒稀释黏着剂，使用滚筒涂布法等涂布 方法进行涂布，令其干燥固化形成黏着剂层11。在离型保护薄膜6上，如第四图所示，于上述的保护薄膜用基材薄膜IO的任 一聚酯膜9的表面，以有机溶剂稀释离型剂，使用滚筒涂布法等涂布方法进行涂 布，令其干燥固化而构成。为了提升偏光板3的缺点检查性，实施形态的保护薄膜用基材薄膜10，必须 为无色透明。此外，亦必须无延伸、无配向，且双折射率小。再者，层积于偏光 板时，将黏着剂和离型剂涂布于保护薄膜用基材薄膜，此涂布工程中由于使用了 溶剂系涂布剂，因此亦需要为耐溶剂性。而涂布黏着剂和离型剂后，由于需令其通过加热炉所进行的干燥工程，因此 保护薄膜用基材薄膜亦必须具有耐热性，令其不会在加热炉所进行的干燥工程中， 因负担的张力而延伸。在本实施形态中，作为保护薄膜用基材薄膜io的芯层使用的聚碳酸酯，耐热 性佳、机械强度大，更进一步的是以玻璃转变温度为IO(TC以上为佳，15(TC以上 为更佳。若玻璃转变温度小于IO(TC，通过在涂布黏着剂和离型剂后的干燥工程 中的热及张力，使薄膜产生延伸増加双折射率，故并不理想。聚碳酸酯为由二环二价酚类和光气(Phosgene)所衍生的碳酸酯树脂，具有高玻 璃转变温度和耐热性，由双(4一氧苯基)甲烷、l，l一双(4一氧苯基)乙烷、1,1 一双(4—氧苯基)丁烷、l，l一双(4 —氧苯基)异丁烷、l,l一双(4 —氧苯基) 环己垸、2，2 —双(4 —氧苯基)丙垸、2，2 —双(4一氧苯基)丁垸等的任一双酚所 衍生，使用混合了一种或两种以上玻璃转变温度为123 17rC的聚碳酸酯所形成 为佳。另外，聚碳酸酯膜8为张力大，且于使用挤压法制膜成长尺带状的三层膜的 聚酯膜表面涂布离型剂， 一边搬送一边加热，使其干燥固化之际，即使负担薄膜 本身的重量及搬送时所需的些微张力亦不易延伸，以使用具有分枝构造的聚碳酸 酯所形成的薄膜为更佳。具有分枝构造的聚碳酸酯，可令分枝剂存在，聚合二环二酚类和光气而得。 分枝剂可为例如具有三个以上羟基、羧基、胺基、亚胺基、甲酰基、卤化酰基、 卤化甲酸酯(halideformate)基等官能基的化合物。具有分枝构造的聚碳酸酯可为例 如使用双酚A作为二环二价酚、l,l，l一三(4 —羟基苯基)乙烷作为分枝剂、对 一三级一丁酚作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保护薄膜用基材薄膜，其特征在于：是由在聚碳酸酯膜的两面层积聚酯膜而成的无配向三层膜所形成，构成所述三层膜的聚碳酸酯膜膜厚对聚酯膜膜厚的比率（聚碳酸酯膜膜厚／聚酯膜膜厚）为大于０．１、小于５。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤井行治，中村琢司，稻沢弘志，池永启昭，今关敏雄，
申请(专利权)人：东洋钢钣株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]