【技术实现步骤摘要】
一种半导体芯片除湿方法
本专利技术涉及半导体芯片加工领域,具体为一种半导体芯片除湿方法。
技术介绍
半导体芯片:在半导体片材上进行浸蚀,布线,制成的能实现某种功能的半导体器件。不只是硅芯片,常见的还包括砷化镓(砷化镓有毒,所以一些劣质电路板不要好奇分解它),锗等半导体材料。半导体也像汽车有潮流。二十世纪七十年代,英特尔等美国企业在动态随机存取内存(D-RAM)市场占上风。但由于大型计算机的出现,需要高性能D-RAM的二十世纪八十年代,日本企业名列前茅。现有的半导体芯片在生产加工的过程中,需要进行清洗,清洗过后需要进行干燥除湿,从而需要使用除湿装置,利用现有的除湿方法进行除湿,但是现有的除湿方法比较简单,只是利用风机将在传送带表面传送的芯片进行风干,然而和传送带接触的面无法干燥,而且除湿干燥效果不佳,除湿不彻底,影响后续工艺。为此,需要设计新的技术方案给予解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种半导体芯片除湿方法,解决了
技术介绍
中所提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术 ...
【技术保护点】
1.一种半导体芯片除湿方法,所述除湿方法所用的除湿系统包括第一传送带(1)、第一风机(2)、第二传送带(4)和第二风机(6),其特征在于:所述第一传送带(1)的表面上侧安装有第一风机(2)且第一风机(2)的出风口正对第一传送带(1)上表面,所述第一传送带(1)的下侧安装有第二传送带(4),所述第二传送带(4)的上表面右侧安装有第二风机(6),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)之间右侧安装有导向板(5),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)的下表面分别安装有第一加热辊(3)和第二加热辊(7),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)的表面均安装有吸水棉层(8);/n所述除 ...
【技术特征摘要】
1.一种半导体芯片除湿方法,所述除湿方法所用的除湿系统包括第一传送带(1)、第一风机(2)、第二传送带(4)和第二风机(6),其特征在于:所述第一传送带(1)的表面上侧安装有第一风机(2)且第一风机(2)的出风口正对第一传送带(1)上表面,所述第一传送带(1)的下侧安装有第二传送带(4),所述第二传送带(4)的上表面右侧安装有第二风机(6),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)之间右侧安装有导向板(5),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)的下表面分别安装有第一加热辊(3)和第二加热辊(7),所述第一传送带(1)和第二传送带(4)的表面均安装有吸水棉层(8);
所述除湿方法步骤如下:
步骤一:启动第一传送带(1)、第一风机(2)、第一加热辊(3)、第二传送带(4)、第二风机(6)和第二加热辊(7)进行预热一段时间;
步骤二:将半导体芯片至于第一传送带(1)表面向右侧移动,通过第一风机(2)进行初次风干,同时第一传送带(1)的表面的吸水棉层(8)会吸收半导体芯片背面的水分;
步骤三:导向板(5)将掉落的半导体芯片进行导向,而且使得翻面后移动至第二传送带(4)表面,从而使得向左侧移动,然后通过第二风机(6)再次风干,同时再次通过第二传送带(4)表面吸水棉层(8)进行再次吸收水分,实现二...
【专利技术属性】
技术研发人员:李双玉,
申请(专利权)人:涌明科技上海有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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