【技术实现步骤摘要】
一种晶元烘烤用烘箱
本专利技术涉及晶元生产
，尤其涉及一种晶元烘烤用烘箱。
技术介绍
晶元一般指晶圆，是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。目前国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主。在晶元的生产过程中通常需要用到烘干装置对晶元进行烘烤工作。但是，传统的晶圆烘烤装置是线性烘烤制程，晶圆依序排列在线性的路径上，依序经机械手臂传输置入烤盘，进行烘烤完成后再经机械手臂传输出烘烤装置，一次只能对一片晶圆进行烘烤，这对晶圆烘烤产率也有较大影响。
技术实现思路
为解决上述
技术介绍
中提出的问题。本专利技术提供了一种晶元烘烤用烘箱，具有往复、升降、调节和保温功能解决了烘干效果不够理想和效率低的问题。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：设计一种晶元烘烤用烘箱，包括保温箱体，所述保温箱体内壁的一侧固定设有安装隔板一，所述安装隔板一的上表面设有两个弧...
【技术保护点】
1.一种晶元烘烤用烘箱，包括保温箱体(1)，其特征在于，所述保温箱体(1)内壁的一侧固定设有安装隔板一(2)，所述安装隔板一(2)的上表面设有两个弧形贯穿滑槽一(3)，两个所述弧形贯穿滑槽一(3)的内壁滑动连接设有安装板(4)，所述保温箱体(1)和安装隔板一(2)之间固定设有使其产生角度位移的往复装置(5)，所述安装板(4)的上表面固定设有两个导向柱(6)，所述保温箱体(1)内壁远离安装隔板一(2)的一侧固定设有安装隔板二(7)，所述安装隔板二(7)的上表面设有两个弧形贯穿滑槽二(8)，所述弧形贯穿滑槽二(8)的内壁均滑动连接设有滑座(9)，且滑座(9)分别与导向柱(6)固...
【技术特征摘要】
1.一种晶元烘烤用烘箱，包括保温箱体(1)，其特征在于，所述保温箱体(1)内壁的一侧固定设有安装隔板一(2)，所述安装隔板一(2)的上表面设有两个弧形贯穿滑槽一(3)，两个所述弧形贯穿滑槽一(3)的内壁滑动连接设有安装板(4)，所述保温箱体(1)和安装隔板一(2)之间固定设有使其产生角度位移的往复装置(5)，所述安装板(4)的上表面固定设有两个导向柱(6)，所述保温箱体(1)内壁远离安装隔板一(2)的一侧固定设有安装隔板二(7)，所述安装隔板二(7)的上表面设有两个弧形贯穿滑槽二(8)，所述弧形贯穿滑槽二(8)的内壁均滑动连接设有滑座(9)，且滑座(9)分别与导向柱(6)固定连接，所述导向柱(6)均滑动连接设有移动座(10)，所述安装板(4)的上表面固定设有使移动座(10)产生位移的驱动组件(11)，所述移动座(10)的一侧均固定设有L形安装板(12)，所述L形安装板(12)的一侧均固定设有喷风罩(13)，所述喷风罩(13)的一侧均固定设有伸缩软管(14)，所述伸缩软管(14)远离喷风罩(13)的一端均固定设有连接管(15)，两个所述连接管(15)远离伸缩软管(14)的一端依次贯穿安装隔板二(7)和保温箱体(1)并固定设有三通(16)，所述三通(16)的一侧固定设有加热组件(17)，所述加热组件(17)远离三通(16)的一侧固定设有风机(18)，所述安装隔板二(7)上表面的中间设有长形贯穿槽(19)，所述长形贯穿槽(19)的内壁滑动连接设有两个夹板(20)，所述安装隔板二(7)与保温箱体(1)内壁顶部之间固定设有使夹板(20)产生位移的调节组件(21)，所述夹板(20)均等距离设有多个弧形卡槽(22)。
2.根据权利要求1所述的一种晶元烘烤用烘箱，其特征在于，所述弧形贯穿滑槽一(3)和弧形贯穿滑槽二(8)弧度均为150°～170°之间。
3.根据权利要求1所述的一种晶元烘烤用烘箱，其特征在于，所述弧形卡槽(22)的内壁均固定设有缓冲橡胶垫。
4.根据权利要求1所述的一种晶元烘烤用烘箱，其特征在于，所述保温箱体(1)的一侧通过铰链转动连接设有箱门(23)，所述箱门(23)的一侧固定设有观察罩(24)，所述箱门(23)远离观察罩(24)的一侧固定设有控制器组件(25)。
5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：李双玉，
申请(专利权)人：涌明科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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