温度调节方法及装置、蒸镀设备制造方法及图纸

本公开提供一种温度调节装置，包括控制器、至少一个温度调节板；所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。本公开还提供一种温度调节方法、一种蒸镀设备。

【技术实现步骤摘要】
温度调节方法及装置、蒸镀设备
本公开实施例涉及蒸镀
，特别涉及一种温度调节装置、一种温度调节方法、一种蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管(OLED，OrganicLightEmittingDiode)蒸镀线采用线性蒸发源在高真空条件下移动扫描将有机材料通过喷嘴蒸镀到低温多晶硅(LTPS，LowTemperaturePoly-Silicon)上，通过高精度金属掩模板(FMM，FineMetalMask)形成红绿蓝器件。在生产过程中，通过调整线性蒸发源两侧的温度补偿板以改变线性蒸发源各个区域的温度梯度，从而使蒸发源的各有机腔室的均一性稳定在预定规格内。温度补偿板分为亮板和盲板，其中，亮板为具有高反射率的反射板，盲板为具有低反射率的反射板。现有技术中，对线性蒸发源温度梯度的调整效率低、效果差。
技术实现思路
本公开实施例提供一种温度调节装置、一种温度调节方法、一种蒸镀设备。第一方面，本公开实施例提供一种温度调节装置，包括控制器、至少一个温度调节板；所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。在一些实施例中，所述温度调节板包括第一基板、第二基板和电致变色功能层，所述第一基板和所述第二基板相对设置，所述电致变色功能层设置在所述第一基板和所述第二基板之间，所述第一基板和所述第二基板中的一者用于朝向所述蒸发源设置，至少所述第一基板和所述第二基板中用于朝向所述蒸发源设置的一者为透明基板，所述反射面形成在所述第一基板和所述第二基板中朝向所述蒸发源的一者上，所述控制电压为提供给所述第一基板和所述第二基板之间的电压，所述电致变色功能层能够随所述第一基板和所述第二基板之间的电压的变化而变化，以使得所述反射面的反射率发生变化。在一些实施例中，所述第一基板包括第一透明导电层，所述第二基板包括第二透明导电层，所述电致变色功能层包括电致变色层、离子导体层、对电极；所述第一透明导电层与所述第二透明导电层相对设置，所述对电极、所述离子导体层、所述电致变色层依次设置于所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间。在一些实施例中，所述控制器中存储有预定映射关系，所述预定映射关系用于表征亮板盲板组合与所述温度调节板的控制电压之间的对应关系，其中，所述亮板盲板组合对应的控制电压为使所述反射面的反射率与所述亮板盲板组合的反射率相同的所述温度调节板的控制电压；所述控制器用于根据所述映射关系和所述蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性调节所述温度调节板的控制电压。在一些实施例中，所述温度调节装置还包括：直流电源，所述直流电源在所述控制器的控制下向所述温度调节板提供控制电压。第二方面，本公开实施例提供一种温度调节方法，包括：根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定温度调节装置中温度调节板的控制电压，以控制所述温度调节板朝向所述蒸发源设置的反射面的反射率，进而调节所述蒸发源所在的有机腔室的温度，其中，所述温度调节装置为本公开实施例第一方面所述的温度调节装置，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。在一些实施例中，根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定温度调节板的控制电压的步骤之前，所述温度调节方法还包括：获取所述蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性。在一些实施例中，本地存储有预定映射关系，所述预定映射关系用于表征亮板盲板组合与所述温度调节板的控制电压之间的对应关系，其中，所述亮板盲板组合对应的控制电压为使所述反射面的反射率与所述亮板盲板组合的反射率相同的所述温度调节板的控制电压，根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定温度调节板的控制电压的步骤包括：根据所述预定映射关系和所述蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性调节所述温度调节板的控制电压。在一些实施例中，根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定温度调节板的控制电压的步骤之前，所述温度调节方法还包括：分别确定使所述反射面的反射率与多个所述亮板盲板组合的反射率相同的所述温度调节板的控制电压；根据亮板盲板组合与对应的控制电压生成所述预定映射关系。第三方面，本公开实施例提供一种蒸镀设备，包括蒸发源，温度调节装置，所述温度调节装置包括控制器、至少一个温度调节板；所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。附图说明附图用来提供对本公开实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开，并不构成对本公开的限制。通过参考附图对详细示例实施例进行描述，以上和其它特征和优点对本领域技术人员将变得更加显而易见，在附图中：图1为本公开实施例提供的一种温度调节装置的组成框图；图2为本公开实施例提供的一种温度调节板的示意图；图3为本公开实施例提供的另一种温度调节板的示意图；图4为本公开实施例提供的另一种温度调节装置的组成框图；图5为本公开实施例提供的一种温度调节方法的流程图；图6为本公开实施例提供的另一种温度调节方法中部分步骤的流程图；图7为本公开实施例提供的又一种温度调节方法中部分步骤的流程图；图8为本公开实施例提供的再一种温度调节方法中部分步骤的流程图；图9为本公开实施例提供的一种蒸镀设备的组成框图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本公开的技术方案，下面结合附图对本公开提供的温度调节装置、温度调节方法、蒸镀设备进行详细描述。在下文中将参考附图更充分地描述示例实施例，但是所述示例实施例可以以不同形式来体现且不应当被解释为限于本文阐述的实施例。反之，提供这些实施例的目的在于使本公开透彻和完整，并将使本领域技术人员充分理解本公开的范围。在不冲突的情况下，本公开各实施例及实施例中的各特征可相互组合。如本文所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关列举条目的任何和所有组合。本文所使用的术语仅用于描述特定实施例，且不意欲限制本公开。如本文所使用的，单数形式“一个”和“该”也意欲包括复数形式，除非上下文另外清楚指出。还将理解的是，当本说明书中使用术语“包括”和/或“由……制成”时，指定存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或添加一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其群组。本文所述实施例可借助本公开的理想示意图而参考平面图和/或截面图进行描述。因此，可根据制造技术和/或容限来修改示例图示。因此，实施例不限于附图中所示的实施例，而是包括基于制造工艺而形成的配置的修改。因此，附图中例示的区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种温度调节装置，其特征在于，包括控制器、至少一个温度调节板；/n所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；/n所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。/n

【技术特征摘要】
1.一种温度调节装置，其特征在于，包括控制器、至少一个温度调节板；
所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；
所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。


2.根据权利要求1所述的温度调节装置，其特征在于，所述温度调节板包括第一基板、第二基板和电致变色功能层，所述第一基板和所述第二基板相对设置，所述第一基板和所述第二基板中的一者用于朝向所述蒸发源设置，至少所述第一基板和所述第二基板中用于朝向所述蒸发源设置的一者为透明基板，所述反射面形成在所述第一基板和所述第二基板中朝向所述蒸发源的一者上，所述电致变色功能层设置在所述第一基板和所述第二基板之间，所述控制电压为提供给所述第一基板和所述第二基板之间的电压，所述电致变色功能层能够随所述第一基板和所述第二基板之间的电压的变化而变化，以使得所述反射面的反射率发生变化。


3.根据权利要求2所述的温度调节装置，其特征在于，所述第一基板包括第一透明导电层，所述第二基板包括第二透明导电层，所述电致变色功能层包括电致变色层、离子导体层、对电极；
所述第一透明导电层与所述第二透明导电层相对设置，所述对电极、所述离子导体层、所述电致变色层依次设置于所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间。


4.根据权利要求1所述的温度调节装置，其特征在于，所述控制器中存储有预定映射关系，所述预定映射关系用于表征亮板盲板组合与所述温度调节板的控制电压之间的对应关系，其中，所述亮板盲板组合对应的控制电压为使所述反射面的反射率与所述亮板盲板组合的反射率相同的所述温度调节板的控制电压；
所述控制器用于根据所述映射关系和所述蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性调节所述温度调节板的控制电压。


5.根据权利要求1至4中任意一项所述的温度调节装置，其特征在于，所述温度调节装置还包括：
直流电源，所述直流电源在所述控制器的控制下向所述温度调...

【专利技术属性】
技术研发人员：白玉庭，董晓程，牛玉山，张志强，贾晓晨，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11