四氢吡咯类化合物的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种四氢吡咯类化合物的制备方法。本发明专利技术的制备方法可以较高收率得到化合物002，且操作简单。此外，本发明专利技术的化合物002对精神分裂症阳性症状具有较佳抑制作用，并且对精神分裂症阴性症状和认知功能也有很好的改善。

【技术实现步骤摘要】
四氢吡咯类化合物的制备方法
本专利技术涉及一种四氢吡咯类化合物的制备方法。
技术介绍
精神分裂症(Schizophrenicdisorder)是一种极为严重的精神疾病，可归纳为阳性症状、阴性症状和识别记忆障碍三种。阳性症状(Positivesymptoms)，表现为幻觉和妄想，躁动，偏执狂，思维障碍和行为异常；阴性症状(NegativeSymptoms)表现为情感迟钝、寡言少语、兴趣缺乏，快感缺失以及孤僻不合群；识别记忆障碍(CognitiveDeficits)，表现为注意力不能集中，记忆力严重衰退，无能力按计划行为。目前临床使用的第一代和第二代精神分裂症药物对阳性症状有比较好的治疗作用，可以减轻或消除妄想、幻觉和思维障碍等症状。但是，几乎所有的临床药物对精神分裂症阴性症状、认知缺陷和记忆障碍均无显著治疗作用。精神分裂症的发病机制有多种假说，其中包含传统的大脑多巴胺能神经系统功能亢奋假说。该假说认为精神分裂症的发病原因可能与大脑中多巴胺功能失调有关。在人体中已经发现了5种多巴胺受体亚型D1-D5。多巴胺转运体(dopaminet本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种如式002所示的化合物的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：在脱保护试剂作用下，将化合物T7在溶剂中进行脱保护反应，得到化合物002即可；/n

【技术特征摘要】
1.一种如式002所示的化合物的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：在脱保护试剂作用下，将化合物T7在溶剂中进行脱保护反应，得到化合物002即可；



其中，用“*”标注的碳是指S构型手性碳、R构型手性碳或非手性碳。


2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的脱保护反应中，所述的脱保护试剂为盐酸和/或三氟醋酸，还可以为三氟醋酸；
和/或，所述的脱保护反应中，所述的脱保护试剂与所述的溶剂的体积比为0.25:1～1:1；
和/或，所述的脱保护反应中，所述的溶剂为醇类溶剂、酯类溶剂和卤代烃类溶剂中的一种或多种，还可以为卤代烃类溶剂，进一步可为二氯甲烷；
和/或，所述的脱保护反应的温度为0～30℃；
和/或，所述的脱保护反应结束后，还包括后处理步骤；所述后处理包括以下步骤：将反应结束后的反应液浓缩、溶解、中和、和柱分离；所述的中和步骤中所采用的试剂为氨溶液，进一步可为NH3-MeOH。


3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，其进一步包括以下步骤：在还原剂和催化剂作用下，将化合物T5和化合物T6在有机溶剂中进行如下式的还原胺化反应，得到所述的化合物T7即可；





4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述的还原胺化反应中，所述的还原剂为三乙酰氧基硼氢化钠、硼氢化钠、氰基硼氢化钠中的一种或多种，还可以为三乙酰氧基硼氢化钠；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的还原剂与所述的化合物T5的摩尔比为1.5:1～4.0:1；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的化合物T6与所述的化合物T5的摩尔比为1.1:1～2.0:1；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的有机溶剂为醚类溶剂、卤代烃类溶剂和醇类溶剂中的一种或多种，还可以为醚类溶剂，进一步可为四氢呋喃；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的有机溶剂与所述的化合物T5的体积质量比为30～80ml/g；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的催化剂为醋酸；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述催化剂与所述的化合物T5的摩尔比为1.0:1～1.5:1；
和/或，所述的还原胺化反应中，所述的有机溶剂为经除水步骤得到的无水有机溶剂；
和/或，所述的还原胺化反应的温度为10～40℃。


5.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，其进一步包括以下步骤：在脱保护试剂用下，将化合物T4在溶剂中进行如下式的脱保护反应，得到所述的化合物T5即可；





6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，其进一步包括以下步骤：在催化剂作用下，将化合物T3与H2在有机溶剂中进行如下式的还原反应，得到所述的化合物T4即可；...

【专利技术属性】
技术研发人员：党柱，克里斯汀·珏蔡，雒震，王刘刚，鲍丹，
申请(专利权)人：迈第康上海生物医药科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31