一种c-Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种c

【技术实现步骤摘要】
一种c
‑
Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置


[0001]本技术涉及医药技术，特别是涉及一种c
‑
Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，属于靶点抑制剂加工


技术介绍

[0002]精神分裂症是一组病因未明的慢性疾病，多在青壮年缓慢或亚急性起病，临床上往往表现为症状各异的综合征，涉及感知觉、思维、情感和行为等多方面的障碍以及精神活动的不协调，呈反复发作、加重或恶化，部分患者最终出现衰退和精神残疾，但有的患者经过药物治疗与心理治疗后可保持痊愈或基本痊愈状态，所使用的抑制剂(又称为缓聚剂)是一种用来阻滞或降低化学反应速度的物质，作用与负催化剂相同，它不能停止聚合反应，只是减缓聚合反应，其中c
‑
Met是研发肿瘦靶向治疗药物的重要靶标之
‑
。
[0003]现有的医药用抑制剂在加工时，需要经过较多步骤来合成中间物，最后由中间物合成目标产物，此过程中所用到的容器和设备大多相同，传统的方式需要介入较多的容器和设备，较为浪费物力，而且待用的设备需要人工手动清洗，较为不便，因此，抑制剂的合成过程较为漫长，不利于高效生产。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是为了提供一种c
‑
Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置。
[0005]本技术的目的可以通过采用如下技术方案达到：
[0006]一种c
‑
Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，包括合成箱和合成步骤管，所述合成箱内壁之间设置有隔板，所述隔板顶部设置有底座盖，所述底座盖内底部设置有电磁阀，所述电磁阀顶部设置有所述合成步骤管，所述合成步骤管之间设置有搅拌管，所述合成箱外顶部设置有清洗供水管，所述清洗供水管底部四周设置有第一注水喷嘴和第二注水喷嘴。
[0007]优选的，所述隔板与所述合成箱内壁密封胶接，所述底座盖与所述隔板贯穿固定，所述电磁阀内嵌在所述底座盖中。
[0008]优选的，所述合成步骤管和所述搅拌管均与所述底座盖内壁密封卡压连接，所述清洗供水管与所述合成箱顶部活动卡压安装，所述第一注水喷嘴和所述第二注水喷嘴均插接于所述顶盖底部。
[0009]优选的，所述第一注水喷嘴与所述合成步骤管内壁卡压插接，所述第二注水喷嘴与所述搅拌管内壁卡压插接，所述第二注水喷嘴之间设置有搅拌组件，所述搅拌组件由搅拌轴和电机组成。
[0010]优选的，所述合成箱内部两侧壁上固定有加热组件，所述隔板底部与所述合成箱内底部成型有废液池，所述废液池底部贯穿插接有废液管。
[0011]优选的，所述合成箱外部一侧壁上内嵌有显示控制屏，所述搅拌管与所述合成步骤管之间通过管道连接有第二转运泵，所述合成步骤管之间通过管道连接有第一转运泵。
[0012]本技术的有益技术效果：
[0013]本技术通过设计一个由合成箱、顶盖、清洗供水管、合成步骤管、底座盖、第一转运泵以及第二转运泵等组件，可实现抑制剂合成过程中使用单组容器，完成对抑制剂的合成，达到快速清洗，快速使用和快速转运合成溶液的目的，大大提高了抑制剂的生产效率。
附图说明
[0014]图1为按照本技术的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置的一优选实施例的结构示意图；
[0015]图2为按照本技术的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置的一优选实施例中合成箱的俯视图；
[0016]图3为按照本技术的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置的一优选实施例中合成箱的正剖视图；
[0017]图4为按照本技术的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置的一优选实施例中顶盖的仰视图。
[0018]附图标记说明如下：
[0019]1‑
合成箱；2
‑
顶盖；3
‑
清洗供水管；4
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显示控制屏；5
‑
合成步骤管；6
‑
搅拌管；7
‑
底座盖；8
‑
废液管；9
‑
第一转运泵；10
‑
第二转运泵；11
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加热组件；12
‑
第一注水喷嘴；13
‑
搅拌组件；14
‑
第二注水喷嘴；15
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隔板；16
‑
废液池；17
‑
电磁阀。
具体实施方式
[0020]为使本领域技术人员更加清楚和明确本技术的技术方案，下面结合实施例及附图对本技术作进一步详细的描述，但本技术的实施方式不限于此。
[0021]如图1
‑
图4所示，本实施例提供的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，包括合成箱1和合成步骤管5，合成箱1内壁之间设置有隔板15，隔板15顶部设置有底座盖7，底座盖7内底部设置有电磁阀17，电磁阀17顶部设置有合成步骤管5，合成步骤管5之间设置有搅拌管6，合成箱1外顶部设置有清洗供水管3，清洗供水管3底部四周设置有第一注水喷嘴12和第二注水喷嘴14。
[0022]隔板15与合成箱1内壁密封胶接，底座盖7与隔板15贯穿固定，电磁阀17内嵌在底座盖7中，隔板15起到一个支撑的作用，使得排出的废液与装置分离，电磁阀17用于支撑管控合成步骤管5内液体的排出和内壁的清洗。
[0023]合成步骤管5和搅拌管6均与底座盖7内壁密封卡压连接，清洗供水管3与合成箱1顶部活动卡压安装，第一注水喷嘴12和第二注水喷嘴14均插接于顶盖2底部，合成步骤管5用于抑制剂合成过程中的加水、萃取、洗涤、干燥、过滤以及浓缩等过程，加水为加入清水，萃取需要外部投入萃取液，干燥为加入无水硫酸钠，过滤需要加入饱和食盐水，浓缩需要外部加热升温。
[0024]第一注水喷嘴12与合成步骤管5内壁卡压插接，第二注水喷嘴14与搅拌管6内壁卡压插接，第二注水喷嘴14之间设置有搅拌组件13，搅拌组件13由搅拌轴和电机组成，第二注水喷嘴14的设计为了方便搅拌组件13在搅拌管6内的存放安置。
[0025]合成箱1内部两侧壁上固定有加热组件11，隔板15底部与合成箱1内底部成型有废
液池16，废液池16底部贯穿插接有废液管8。
[0026]合成箱1外部一侧壁上内嵌有显示控制屏4，搅拌管6与合成步骤管5之间通过管道连接有第二转运泵10，合成步骤管5之间通过管道连接有第一转运泵9，第一转运泵9和第二转运泵10均为独立控制，方便合成液从搅拌管6内排出时，进入到指定的合成步骤管5内。
[0027]如图1
‑
图4所示，本实施例提供的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置的工作过程如下：
[0028]步骤1：本装置在具体使用的时候，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，其特征在于：包括合成箱(1)和合成步骤管(5)以及顶盖(2)，所述合成箱(1)内壁之间设置有隔板(15)，所述隔板(15)顶部设置有底座盖(7)，所述底座盖(7)内底部设置有电磁阀(17)，所述电磁阀(17)顶部设置有所述合成步骤管(5)，所述合成步骤管(5)之间设置有搅拌管(6)，所述合成箱(1)外顶部设置有清洗供水管(3)，所述清洗供水管(3)底部四周设置有第一注水喷嘴(12)和第二注水喷嘴(14)。2.根据权利要求1所述的一种c
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Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，其特征在于：所述隔板(15)与所述合成箱(1)内壁密封胶接，所述底座盖(7)与所述隔板(15)贯穿固定，所述电磁阀(17)内嵌在所述底座盖(7)中。3.根据权利要求2所述的一种c
‑
Met/HDAC双靶点抑制剂合成装置，其特征在于：所述合成步骤管(5)和所述搅拌管(6)均与所述底座盖(7)内壁密封卡压连接，所述清洗供水管(3)与所述合成箱(1)顶部活动卡压安装，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：雒震，
申请(专利权)人：迈第康上海生物医药科技有限公司，
类型：新型
国别省市：