动态气体隔离装置制造方法及图纸

本申请具体涉及一种动态气体隔离装置，该动态气体隔离装置包括主管道、供气装置和气体预处理装置，其中，主管道包括宽口端和窄口端，宽口端用于与第一腔室连通，窄口端用于与第二腔室连通，第一腔室的清洁度高于第二腔室的清洁度，主管道的侧壁上设置有进气口；供气装置包括高纯气源和气体管道，气体管道的两端分别与进气口和高纯气源连通；气体预处理装置包括气流匀化器和温度调节器，气流匀化器和温度调节器设置在气体管道内。本申请提出的动态气体隔离装置可以抑制第二腔室的污染物朝第一腔室扩散，实现了对两种不同要求的真空环境的隔离，并通过气流匀化器和温度调节器保证了气流的均匀性和温度稳定。

【技术实现步骤摘要】
动态气体隔离装置
本申请属于光刻
，具体涉及一种动态气体隔离装置。
技术介绍
本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。极紫外(ExtremeUltra-violet，简称EUV)光刻采用13.5nm波长的极紫外光进行光刻，由于空气及几乎所有的折射光学材料对13.5nm波长的极紫外辐照具有强烈的吸收作用，因此，极紫外光刻机内部需要设置为真空环境，EUV照明光学系统、成像光学系统、掩模台与工件台等部件或系统均需要设置在相应的真空腔内。由于极紫外光束的传输需要，各个真空腔室之间是连通的，由于各个部件或系统对真空环境清洁度要求不同，例如，成像光学系统、照明光学系统对清洁度要求最高，所在的腔室设置为超清洁真空环境；掩模台对清洁度要求次之，所在腔室设置为清洁真空环境；工件台对清洁度要求不高，所在腔室设置为普通真空腔室；因此必须在高清洁度的真空环境和低清洁度的真空环境之间建立隔离装置，从而将两种不同要求的真空环境进行隔离。相关技术中的隔离装置通常设置多个小喷口向装置内喷射气流，利用气流抑制污染物扩散，但这样的方式会在隔离装置内部形成不均匀气压，而EUV光束在通过隔离装置时，被隔离装置内气体吸收的吸收率与气压成指数关系，因此不均匀的气压会导致EUV光束的不均匀性，进而影响曝光质量。
技术实现思路
本申请提出了一种动态气体隔离装置，包括：主管道，所述主管道包括宽口端和窄口端，所述宽口端用于与第一腔室连通，所述窄口端用于与第二腔室连通，所述第一腔室的清洁度高于所述第二腔室的清洁度，所述主管道的侧壁上设置有进气口；供气装置，所述供气装置包括高纯气源和气体管道，所述气体管道的两端分别与所述进气口和所述高纯气源连通；气体预处理装置，所述气体预处理装置包括气流匀化器和温度调节器，所述气流匀化器和所述温度调节器设置在所述气体管道内。附图说明通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。在附图中：图1为本申请实施例的动态气体隔离装置的结构示意图；图2为图1所示A处的放大示意图；图3为本申请一种实施例中供气装置和气体预处理装置的部分结构示意图。附图中各标记表示如下：100、动态气体隔离装置；10、主管道；11、宽口端；12、窄口端；13、进气口；14、锯齿状结构；21、第一腔室；22、第二腔室；221、污染源；31、高纯气源；32、气体管道；40、气体预处理装置；41、气流匀化器；42、温度调节器；51、第一路径；52、第二路径。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解的是，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反的，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”、“含有”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、步骤、操作、元件、部件、和/或它们的组合。尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段，但是，这些元件、部件、区域、层和/或部段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出，否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部段在不脱离示例实施方式的教导的情况下可以被称作第二元件、部件、区域、层或部段。为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“内部”、“外部”、“内侧”、“外侧”、“下面”、“下方”、“上面”、“上方”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中装置的不同方位。例如，如果在图中的装置翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在……下方”可以包括在上和在下的方位。装置可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。如图1至图3所示，本申请实施例提出了一种动态气体隔离装置100，该动态气体隔离装置100包括主管道10、供气装置和气体预处理装置40，其中，主管道10包括宽口端11和窄口端12，宽口端11用于与第一腔室21连通，窄口端12用于与第二腔室22连通，第一腔室21的清洁度高于第二腔室22的清洁度，主管道10的侧壁上设置有进气口13；供气装置包括高纯气源31和气体管道32，气体管道32的两端分别与进气口13和高纯气源31连通；气体预处理装置40包括气流匀化器41和温度调节器42，气流匀化器41和温度调节器42设置在气体管道32内。本实施例提出的动态气体隔离装置100用于分别与第一腔室21和第二腔室22连通，本实施例中的第一腔室21指的是对清洁度要求相对较高的腔室，即高清洁腔室，如成像光学系统腔室、照明光学系统腔室等；第二腔室22指的是对清洁度要求相对较低的腔室，即普通腔室，如EUV光源腔室、工件台腔室等，需要说明的是，高清洁度和低清洁度是相对的概念，各腔室本身都需要很好的清洁度。本实施例中，动态气体隔离装置100的主管道10与供气装置连通，主管道10可以设置为圆锥筒状或棱锥筒状，在本申请的一些实施例中，主管道10的横截面形状为圆形、矩形或梯形。具体的，主管道10的结构根据其内部所要通过的介质形状进行设定，例如，如果通过的介质为圆锥形光束，主管道10的截面形状可以设置为圆形；如果通过的介质为矩形且连续收缩的光束，主管道10的截面形状可以设置为矩形或梯形。在上述实施方式的基础上，主管道10的侧壁设置有进气口13，进气口13可以设置有多个，例如可以设置为两个，两个进气口13可以关于主管道10的轴线对称设置，从而便于进入主管道10的两股气流互相作用，加快向主管道10两侧扩散的速度。本实施例中供气装置的数量与进气口13的数量相等。如图1所示，在本申请的一些实施例中，供气装置的数量为两个，相应地，主管道10的侧壁上设置有两个进气口13，两个供气装置关于主管道10的轴线对称设置。每个供气装置与一个进气口13连通，用于通过该进气口13向主本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种动态气体隔离装置，其特征在于，包括：/n主管道，所述主管道包括宽口端和窄口端，所述宽口端用于与第一腔室连通，所述窄口端用于与第二腔室连通，所述第一腔室的清洁度高于所述第二腔室的清洁度，所述主管道的侧壁上设置有进气口；/n供气装置，所述供气装置包括高纯气源和气体管道，所述气体管道的两端分别与所述进气口和所述高纯气源连通；/n气体预处理装置，所述气体预处理装置包括气流匀化器和温度调节器，所述气流匀化器和所述温度调节器设置在所述气体管道内。/n

【技术特征摘要】
1.一种动态气体隔离装置，其特征在于，包括：
主管道，所述主管道包括宽口端和窄口端，所述宽口端用于与第一腔室连通，所述窄口端用于与第二腔室连通，所述第一腔室的清洁度高于所述第二腔室的清洁度，所述主管道的侧壁上设置有进气口；
供气装置，所述供气装置包括高纯气源和气体管道，所述气体管道的两端分别与所述进气口和所述高纯气源连通；
气体预处理装置，所述气体预处理装置包括气流匀化器和温度调节器，所述气流匀化器和所述温度调节器设置在所述气体管道内。


2.根据权利要求1所述的动态气体隔离装置，其特征在于，所述主管道的截面形状为圆形、矩形或梯形。


3.根据权利要求1所述的动态气体隔离装置，其特征在于，所述进气口的数量为两个，两个所述进气口关于所述主管道的轴线对称设置。


4.根据权利要求3所述的动态气体隔离装置，其特征在于，所述供气装置的数量为两个，每个所述供气装置与一个所述进气口连通。


5.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王魁波，吴晓斌，谢婉露，罗艳，沙鹏飞，韩晓泉，李慧，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11