【技术实现步骤摘要】
半导体封装方法
本申请涉及一种半导体
,尤其涉及一种半导体封装方法。
技术介绍
在半导体封装技术中,通常半导体封装中的载板都是以金属为基材,在基材上进行打孔、腐蚀、电镀、溅射等工艺以生成金属层,通过金属层满足芯片支撑和引脚引出的需求。但是,由于需要在载板的表面进行打孔等工艺,为了预留打孔的深度,载板的厚度较厚,另外在后期成为单个封装后,芯片背面非常容易发生受力,而造成芯片碎裂等问题。
技术实现思路
本申请的提供一种半导体封装方法,其包括:在基板上形成金属件,所述金属件位于所述基板的正上方;对所述金属件进行塑封形成载板;剥离所述基板,露出所述金属件的正面及所述载板的第一表面。可选的,所述在基板上形成金属件包括:在所述基板上形成第一金属件;在所述第一金属件之上形成第二金属件。可选的,所述第一金属件包括第一金属层、第二金属层和第三金属层,所述第一金属层、所述第二金属层和所述第三金属层依次层叠形成所述第一金属件。可选的,在所述基板上形成 ...
【技术保护点】
1.一种半导体封装方法,其特征在于,其包括:/n在基板上形成金属件,所述金属件位于所述基板的正上方;/n对所述金属件进行塑封形成载板;/n剥离所述基板,露出所述金属件的正面及所述载板的第一表面。/n
【技术特征摘要】
1.一种半导体封装方法,其特征在于,其包括:
在基板上形成金属件,所述金属件位于所述基板的正上方;
对所述金属件进行塑封形成载板;
剥离所述基板,露出所述金属件的正面及所述载板的第一表面。
2.如权利要求1所述的半导体封装方法,其特征在于,所述在基板上形成金属件包括:
在所述基板上形成第一金属件;
在所述第一金属件之上形成第二金属件。
3.如权利要求2所述的半导体封装方法,其特征在于,所述第一金属件包括第一金属层、第二金属层和第三金属层,所述第一金属层、所述第二金属层和所述第三金属层依次层叠形成所述第一金属件。
4.如权利要求2所述的半导体封装方法,其特征在于,在所述基板上形成第一金属件,在所述第一金属件之上形成第二金属件,包括:
在所述基板上压设第一感光膜,并在第一感光膜形成多个第一开口,在多个所述第一开口中形成所述第一金属件;
在所述第一感光膜及所述第一金属件上压设第二感光膜,并在所述第二感光膜形成多个第二开口,在多个所述第二开口中形成所述第二金属件,所述第二金属件至少部分位于所述第一金属件的上方;
将所述第一金属件的两侧的所述第一感光膜、以及所述第二金属件的两侧的所述第二感光膜清洗去除。
5.如权利要求4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈莉,霍炎,
申请(专利权)人:无锡华润安盛科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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