荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种进行氦置换的荧光Ｘ射线分析装置，容易更换试样室和照射室之间的隔壁膜，在分析时，试样室的空气不流入照射室。第１支架（２１）按照其窗（２１ａ）与试样室（３）和照射室（８）之间的壁部（４）的窗（４ａ）重合的方式气密地安装于壁部（４）上，按照覆盖第１支架的窗（２１ａ）的方式设置隔壁膜（９）。第２支架（２３）按照其窗（２３ａ）夹持隔壁膜（９），与第１支架的窗（２１ａ）重合的方式设置。另外，支架（２１，２３）中的其中一个为永久磁铁，另一个由吸附于其上的材料形成，支架（２１，２３）夹持隔壁膜（９）的周边部，并且第２支架（２３）可相对第１支架（２１）而装卸。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在氦气氛中进行分析的荧光X射线分析装置。
技术介绍
在过去，具有图2所示的那样的，在氦气氛中进行分析(X射线光路位于氦气氛中)的荧光X射线分析装置。该装置为从试样1的下方，照射1次X射线6的底面照射型，在大气气氛中试样1以可更换的方式接纳的试样室3的下方，具有接纳X射线源7的照射室8、分光室14，该分光室14与该照射室8连通，接纳分光元件11和检测器13。另外，由于对照射室8和分光室14进行氦置换，故荧光X射线10，12的吸收量少于大气气氛，即使在空气中，通过衰减显著的轻元素的荧光X射线10、微弱的荧光X射线10的情况下仍容易检测。在这里，使X射线6，10通过的隔壁膜9按照覆盖设置于分隔大气气氛的试样室3和氦气氛的照射室8的壁部4上的窗(在下面，“窗”指开口，在此场合，指开口于壁部4的孔)4a的方式设置。隔壁膜9采用聚酰亚胺薄膜等的较薄的高分子膜，以便使X射线6，10的吸收量较少。作为在氦气氛中进行分析的试样，包括有液体的试样1a，但是，在此场合，液体试样1a放入到在底部具有使X射线6，10通过的窗部件2a的液体试样保持件2中，试样1a和液体试样保持件2的整体作为试本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析装置，该荧光Ｘ射线分析装置包括：在大气气氛中试样以可更换的方式接纳的试样室；接纳对试样照射１次Ｘ射线的Ｘ射线源的照射室；隔壁膜，该隔壁膜按照覆盖设置于分隔上述试样室和照射室的壁部上的窗的方式设置，使 Ｘ射线通过；分光室，该分光室接纳有对从试样产生的荧光Ｘ射线进行分光，并对其检测的检测机构，该分光室与上述照射室连通；该荧光Ｘ射线分析装置对上述照射室和分光室进行氦置换；其特征在于：　具有窗的第１支架按照该窗与 上述壁部的窗重合的方式以气密方式安装于壁部上；按照覆盖与上述壁部...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：迫幸雄，
申请(专利权)人：理学电机工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]