本发明专利技术的课题在于提供一种荧光Ｘ射线分析装置，其可充分正确地对镀合金化熔融锌的钢板的组分沿深度方向不均匀的镀膜的附着量和组分进行分析。该装置包括Ｘ射线源（７），该Ｘ射线源（７）按照规定的入射角（φ），对试样（１）照射１次Ｘ射线（６）；检测机构（９），该检测机构（９）测定按照规定的取出角（α，β），由试样（１）产生的荧光Ｘ射线（８）的强度，在上述入射角（φ）和取出角（α，β）的组合中，以至少１者不同的２个组合，测定荧光Ｘ射线（８）的强度，针对由荧光Ｘ射线（８）的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的９９％的附着量表示的测定深度，按照上述２个组合的测定深度均大于上述镀膜（３）的附着量的方式，设定各组合的入射角（φ）和取出角（α，β）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及对镀合金化熔融锌的钢板中的镀膜的附着量和组分进行分析的荧光X射线分析装置。
技术介绍
在过去，在荧光X射线分析中，具有对镀锌钢板中的镀膜的附着量和组分进行分析的技术(参照专利文献1～5)。在这些已有技术中，根据下面所述的考虑，在1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角的组合中，以至少一者不同的2个组合测定荧光X射线的强度。一般，如果增加测定对象膜的附着量，则所获得的荧光X射线的强度也增加，但是，具有上限值，称为无限厚强度。在由相对某组分的测定对象膜，检测1次X射线具有规定的波长分布的X射线源和规定的波长的荧光X射线的检测机构形成的测定系统中，如果设定1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角，则确定可通过该测定系统，测定测定对象膜的深度。该测定深度通过荧光X射线的强度为上述上限值，即，无限厚强度的99％的附着量表示。于是，通过测定深度不同的2个测定系统，根据镀膜的不同深度，获得不同的信息(荧光X射线强度)，对镀膜的附着量和组分进行分析，但是，在已有技术中，在测定深度较浅的测定系统中，按照测定深度小于镀膜的附着量的方式设定入射角和取出角，由此，除了来自基底钢板的信息以外，仅仅根据通过测定深度较浅的测定系统获得的荧光X射线强度，确定镀膜的组分。专利文献1JP特开昭58-223047号文献专利文献2JP特开昭55-24680号文献专利文献3JP特开昭60-236052号文献专利文献4JP特开平2-257045号文献专利文献5JP特开平4-232448号文献
技术实现思路
但是，由于荧光X射线的发生位置越深，测定系统获得的荧光X射线的强度越小，即，对象部位越深，测定系统的测定灵敏度越低，故在已有技术的测定深度较浅的测定系统中，相对从表面算起附着量为测定深度的位置下方的镀膜和基底钢板，没有测定灵敏度，相对镀膜较浅的(靠近表面)部位的测定灵敏度和相对镀膜较深的(靠近基底钢板)部位的测定灵敏度的差较大。在这样的已有技术中，由于几乎仅仅根据相对镀膜较浅的部位的荧光X射线强度确定镀膜的组分，故可对具有组分沿深度方向均匀的镀膜的铁和锌的电镀合金钢板等进行正确的分析，但是不能够对具有组分沿深度方向不均匀的镀膜的镀合金化熔融锌的钢板，进行充分正确的分析。本专利技术是针对上述的已有问题而提出的，本专利技术的目的在于提供一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置可充分正确地对镀合金化熔融锌的钢板的组分沿深度方向不均匀的镀膜的附着量和组分进行分析。为了实现上述目的，本专利技术涉及一种荧光X射线分析装置，在该荧光X射线分析装置中，以具有组分沿深度方向不均匀的镀膜的镀合金化熔融锌的钢板为试样，对上述镀膜的附着量和深度方向的平均的组分进行分析，其特征在于该装置包括X射线源，该X射线源按照规定的入射角，对试样照射1次X射线；检测机构，该检测机构测定按照规定的取出角，由试样产生的荧光X射线的强度。另外，在上述入射角和取出角的组合中，以至少1者不同的2个组合，测定荧光X射线的强度。在这里，针对由荧光X射线的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的99％的附着量表示的测定深度，按照上述2个组合的测定深度均大于上述镀膜的附着量的方式，设定各组合的入射角和取出角。按照本专利技术，由于在1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角的组合中，至少1者不同的2个组合，即2个测定系统中，按照测定深度均大于镀膜的附着量的方式，设定入射角和取出角，故即使在测定深度浅的测定系统中，相对镀膜较深的部位仍具有测定灵敏度，镀膜较浅的部位的测定灵敏度和镀膜较深的部位的测定灵敏度的差比过去小。于是，可充分正确地对镀合金化熔融锌的钢板中的组分沿深度方向不均匀的镀膜的附着量和组分进行分析。最好，在本专利技术中，上述2个组合中的一个的测定深度为上述镀膜的附着量的1.5倍以上，另一组合的测定深度为前一组合的测定深度的2倍以上。另外，在本专利技术中，也可以在上述镀膜上具有单个或多个涂敷膜的镀合金化熔融锌的钢板为试样，包括检测机构，该检测机构测定由上述涂敷膜中包含的元素产生的荧光X射线的强度，按照与上述镀膜的附着量和深度方向的平均的组分同时的方式，对上述涂敷膜的附着量和/或组分进行分析。附图说明图1为表示本专利技术的一个实施例的荧光X射线分析装置的外观结构图；图2(a)为镀合金化熔融锌的钢板的具体结构图，图2(b)为表示相对镀膜的深度方向，测定灵敏度变化的样子的概念图。具体实施例方式下面根据附图，对本专利技术的一个实施例的荧光X射线分析装置进行描述。像图1所示的那样，本装置为下述的荧光X射线分析装置，其中，在基底钢板2上具有组分沿深度方向不均匀的镀膜3的镀合金化熔融锌的钢板1作为试样而放置于试样台5上，对上述镀膜3的附着量和深度方向的平均的组分进行分析，其特征在于该装置包括Rh靶的X射线管等的X射线源7，该X射线源7以在这里为90度的规定的入射角φ，对试样1照射1次X射线6；多个检测机构9，该多个检测机构9测定按照规定的取出角α，β，从试样1产生的荧光X射线8的强度；计算机等的计算机构12，该计算机构12接收来自检测机构9的输出，计算镀膜3的附着量和组分。检测机构9按照分别检测规定的波长的荧光X射线8的方式，由分光元件10、检测器11和图中未示出的波高分析器构成，在上述Rh靶的X射线管中，与1次X射线6具有规定的波长分布的X射线源7一起，构成测定系统13。另外，分光元件10和检测器11针对每组，设置于所谓的固定测角计(goniometer)上。在本专利技术中，首先，与前述的已有技术相同，为了进行镀膜3的附着量和组分的分析，在上述入射角和取出角的组合中，以至少1者不同的2个组合，测定荧光X射线8的强度，但是，为了与此相对应，在本实施例的装置中，为了进行镀膜3的附着量和组分的分析，具有4个测定系统13A、13B、13C、13D，X射线源7和1次X射线6的入射角φ(90度)是共同的。另外，在涉及Fe的测定深度较浅的测定系统13A中，设定荧光X射线8A的取出角α1，在涉及Fe的测定深度较深的测定系统13B中，设定荧光X射线8B的取出角α2。同样，在涉及Zn的测定深度较浅的测定系统13C中，设定荧光X射线8C的取出角β1，在涉及Zn的测定深度较深的测定系统13D中，设定荧光X射线8D的取出角β2。所测定的荧光X射线8的线型、取出角α，β的数值将在后面描述。此外，在本专利技术中，针对每个测定元素，在1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角的组合中，设定至少1者不同的2个组合，即，2个测定系统，此时，既可以使入射角和取出角这两者不同，也可以使入射角和取出角中的任意一者不同。此外，在本实施例的装置中，为了还将在上述镀膜3上具有铬酸盐(クロメ一ト)处理的涂敷膜4的镀合金化熔融锌的钢板作为试样1，设置测定从上述涂敷膜4中包含的元素，即，Cr产生的荧光X射线8E的强度的检测机构9E，由此，也可与在分析镀膜3的附着量和深度方向的平均组分同时地，对镀膜4的附着量进行分析。对于这样的涂敷膜4，列举有其它磷酸处理的类型。涂敷膜4的附着量的分析用的1个检测机构9E也按照检测规定的波长的荧光X射线8E的方式，由分光元件10E、检测器11E和图中未示出的波高分析器构成，在上述Rh靶的X射线管中，与1次X射线6具有规定的波长分布的X射线源7一起，构本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析装置，在该荧光Ｘ射线分析装置中，以具有组分沿深度方向不均匀的镀膜的镀合金化熔融锌的钢板为试样，对上述镀膜的附着量和深度方向的平均的组分进行分析，其特征在于该装置包括： Ｘ射线源，该Ｘ射线源按照规定的入射角，对试样照射１次Ｘ射线； 检测机构，该检测机构测定按照规定的取出角，由试样产生的荧光Ｘ射线的强度； 在上述入射角和取出角的组合中，以至少１者不同的２个组合，测定荧光Ｘ射线的强度； 针对由荧光Ｘ射线的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的９９％的附着量表示的测定深度，按照上述２个组合的测定深度均大于上述镀膜的附着量的方式，设定各组合的入射角和取出角。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：片冈由行，古泽卫一，河野久征，
申请(专利权)人：理学电机工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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