荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种荧光Ｘ射线分析装置，其可充分正确地对镀合金化熔融锌的钢板的组分沿深度方向不均匀的镀膜的附着量和组分进行分析。该装置包括Ｘ射线源（７），该Ｘ射线源（７）按照规定的入射角（φ），对试样（１）照射１次Ｘ射线（６）；检测机构（９），该检测机构（９）测定按照规定的取出角（α，β），由试样（１）产生的荧光Ｘ射线（８）的强度，在上述入射角（φ）和取出角（α，β）的组合中，以至少１者不同的２个组合，测定荧光Ｘ射线（８）的强度，针对由荧光Ｘ射线（８）的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的９９％的附着量表示的测定深度，按照上述２个组合的测定深度均大于上述镀膜（３）的附着量的方式，设定各组合的入射角（φ）和取出角（α，β）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对镀合金化熔融锌的钢板中的镀膜的附着量和组分进行分析的荧光X射线分析装置。
技术介绍
在过去，在荧光X射线分析中，具有对镀锌钢板中的镀膜的附着量和组分进行分析的技术(参照专利文献1～5)。在这些已有技术中，根据下面所述的考虑，在1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角的组合中，以至少一者不同的2个组合测定荧光X射线的强度。一般，如果增加测定对象膜的附着量，则所获得的荧光X射线的强度也增加，但是，具有上限值，称为无限厚强度。在由相对某组分的测定对象膜，检测1次X射线具有规定的波长分布的X射线源和规定的波长的荧光X射线的检测机构形成的测定系统中，如果设定1次X射线的入射角和荧光X射线的取出角，则确定可通过该测定系统，测定测定对象膜的深度。该测定深度通过荧光X射线的强度为上述上限值，即，无限厚强度的99％的附着量表示。于是，通过测定深度不同的2个测定系统，根据镀膜的不同深度，获得不同的信息(荧光X射线强度)，对镀膜的附着量和组分进行分析，但是，在已有技术中，在测定深度较浅的测定系统中，按照测定深度小于镀膜的附着量的方式设定入射角和取出角，由此，除了来自基底钢板的信息以外，仅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析装置，在该荧光Ｘ射线分析装置中，以具有组分沿深度方向不均匀的镀膜的镀合金化熔融锌的钢板为试样，对上述镀膜的附着量和深度方向的平均的组分进行分析，其特征在于该装置包括：　　　　Ｘ射线源，该Ｘ射线源按照规定的入射角，对试样照射１次Ｘ射线；　　　　检测机构，该检测机构测定按照规定的取出角，由试样产生的荧光Ｘ射线的强度；　　　　在上述入射角和取出角的组合中，以至少１者不同的２个组合，测定荧光Ｘ射线的强度；　　　　针对由荧光Ｘ射线的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的９９％的附着量表示的测定深度，按照上述２个组合的测定深度均大于上述镀膜的附着量的方式，设定各组合的入射角和取出角。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：片冈由行，古泽卫一，河野久征，
申请(专利权)人：理学电机工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]