荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种荧光Ｘ射线分析装置，该荧光Ｘ射线分析装置对处于惰性气体气氛中的试样进行分析，分光室不由惰性气体置换即可，同时不与试样室连通，并且可获得足够的强度的２次Ｘ射线，另外，隔壁的寿命延长。该装置包括接纳有试样（４）的试样室（１）；照射室（２），该照射室（２）接纳有对试样（４）照射１次Ｘ射线（６）的Ｘ射线源（７），该照射室（２）与上述试样室（１）连通；分光室（３），该分光室（３）接纳有对从试样（４）产生的２次Ｘ射线（８）分光而对其检测的检测机构（９）；隔壁（１０），该隔壁（１０）按照将上述照射室（２）和分光室（３）分隔的方式设置，使上述２次Ｘ射线（８）通过；以惰性气体对上述试样室（１）和照射室（２）进行置换，并且对上述分光室（３）进行真空排气。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对处于惰性气体气氛中的试样进行分析的荧光X射线分析装置。
技术介绍
在过去，有下述的荧光X射线分析装置，其包括接纳试样的试样室；照射室(也称为“管球室”)，该照射室接纳有对试样照射1次X射线的X射线源；分光室，该分光室对从试样产生的2次X射线分光而对其检测的检测机构。在通过这样的荧光X射线分析装置对液体试样、粉末试样进行分析的场合，按照试样不飞散的方式，并且按照X射线的衰减较少的方式，以氦气等的惰性气体对连通的试样室、照射室和分光室的全部进行置换，但是具有下述的问题。第1，由于应以惰性气体置换的容量较大，故置换需要花费较长时间，并且惰性气体的消耗量多。第2，在惰性气体为氦气的场合，氦气侵入分光室内的闪烁计数器的光电倍增管，S/N比、分辨率变差。第3，如果PR气体从分光室内的气流型比例计数管泄漏，混入到惰性气体气氛中，则X射线的衰减增加，无法进行稳定的分析。第4，在具有惰性气体的泄漏的场合，必须对穿过各室的各种驱动轴的密封部进行全部检查。第5，如果万一在试样室中产生液体试样、粉末试样的飞散事故，则具有污染扩展到分光室，恢复原样需要花费时间的危险。相对该情况，具有下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括接纳试样的试样室；测定室，该测定室接纳有X射线光源和检测器；隔壁，该隔壁按照分隔试样室和测定室的方式设置，使X射线通过，试样室处于大气气氛、测定室处于真空气氛进行分析(参照JP特开2002-303593号文献)。如果将该装置的测定室当作上述照射室和分光室，则上述第1～第5的问题得以改善。但是，在该装置中，由于1次X射线、2次X射线均通过隔壁，故衰减较大，无法获得足够强度的2次X射线。另外，在隔壁中的作为X射线通过的部分的隔壁膜为高分子膜的场合，如果照射1次X射线这样的强力的X射线，则还具有在较短期间性能退化，发生破损的危险。
技术实现思路
本专利技术是针对上述过去的问题而提出的，本专利技术的目的在于提供针对处于惰性气体气氛的试样进行分析的荧光X射线分析装置，其中，分光室不由惰性气体置换即可，并且不与试样室连通，同时可获得足够强度的2次X射线，另外，隔壁的寿命延长。为了实现上述目的，本专利技术的荧光X射线分析装置包括接纳有试样的试样室；照射室，该照射室接纳有对试样照射1次X射线的X射线源，该照射室与上述试样室连通；分光室，该分光室接纳有对从试样产生的2次X射线分光而对其检测的检测机构；隔壁，该隔壁按照将上述照射室和分光室分隔的方式设置，使上述2次X射线通过。另外，以惰性气体对上述试样室和照射室进行置换，并且对上述分光室进行真空排气。按照本专利技术，由于借助使2次X射线通过的隔壁将照射室和分光室分隔，以惰性气体对试样室和照射室进行置换，并且分光室被真空排气，故在对处于惰性气体气氛的试样进行分析时，分光室不由惰性气体置换即可，并且不与试样室连通。于是，上述第1～第5问题得以解决。另外，对于1次X射线和2次X射线的衰减，由于通过隔壁的仅仅为2次X射线，故该衰减足够小，于是，可获得足够强度的2次X射线，并且由于照射1次X射线，也没有隔壁性能退化，破损的危险。在本专利技术中，最好，上述隔壁以可自由开闭的方式设置，特别是最好，其包括视场限制狭缝交换机构，该视场限制狭缝交换机构具有多个视场限制狭缝，对其进行交换，该视场限制狭缝限制上述检测机构的视场，该视场限制狭缝交换机构兼作上述隔壁的开闭机构。附图说明图1为本专利技术的一个实施例的荧光X射线分析装置的概要图；图2为图1的隔壁附近的放大剖视图；图3为沿图2的III的箭头方向视图；图4A为隔壁打开状态的沿图3中的IV-IV线的剖视图；图4B为隔壁关闭状态的沿图3中的IV-IV线的剖视图。具体实施例方式下相对本专利技术的一个实施例的荧光X射线分析装置进行说明。该装置像图1所示的那样，包括放入试样保持件5中的试样4按照通过图中未示出的保持机构保持的方式接纳的试样室1；照射室2，该照射室2接纳有从下方向试样4照射1次X射线6的X射线管等的X射线源7，该照射室2与试样室1连通；分光室3，该分光室3接纳有检测机构9，该检测机构9对从试样4发生的荧光X射线等的2次X射线8进行分光而检测；隔壁10，该隔壁10按照将照射室2和分光室3分隔的方式，即，按照以气密方式将开设于照射室2和分光室3之间的壁部31中的通孔31a堵塞的方式设置，使上述2次X射线8通过。另外，试样室1和照射室2由氦置换，并且对分光室3进行真空排气。检测机构9包括使2次X射线8平行的发散狭缝41；对通过该发散狭缝41而平行的2次X射线进行分光处理的分光元件42；对通过该分光元件42进行分光的2次X射线进行平行处理的2个感光狭缝43、45；检测通过第1感光狭缝43平行处理的2次X射线的作为第1检测器的闪烁计数器44；检测通过第2感光狭缝45平行处理的2次X射线的作为第2检测器的气流型比例计数管46。发散狭缝41、分光元件42仅仅各自1个，在图中未示出，与感光狭缝43、45、检测器44、46相同，从多个中有选择地使用。但是，第2感光狭缝45和气流型比例计数管46形成一体。另外，分光元件42和感光狭缝与检测器43-44、45-46通过图中未示出的测角器(goniometer)等的联动机构，按照保持一定的角度关系的方式联动。即，该装置为底面照射型，并且为波长分散型，扫描型的荧光X射线分析装置。另外，本装置包括视场限制狭缝交换机构20，该视场限制狭缝交换机构20具有多个限制检测机构9的视场的视场限制狭缝，对多个狭缝进行交换。像作为图1的隔壁10附近的放大剖视图的图2所示的那样，在试样室1和分光室3之间的水平壁部32的顶侧，设置有沿纸面垂直方向延伸的轴(轨)24。另一方面，在该视场限制狭缝交换机构20中的狭缝板21的水平部分的底侧，设置有以可自由滑动的方式与轴24卡合的轴承23。通过这些轴24、轴承23、图中未示出的电动机等，视场限制狭缝交换机构20使狭缝板21沿纸面垂直方向适当地移动。在狭缝板21中在与试样4相对的部分，为了适当地限制发散狭缝41的视场，即检测机构9(图1)的视场，像作为图2的III的箭头方向视图的图3所示的那样，直径不同的多个视场限制狭缝(孔)22A～22C沿狭缝板21的移动方向并列地设置，通过适当地移动狭缝板21，所需的多个视场限制狭缝22位于2次X射线8(图2)的光路上。在该装置中，上述隔壁10在狭缝板21中，安装于与试样4(图2)相对的部分的内侧，像作为图3的IV-IV线的剖视图的图4A所示的那样，其包括，比如，厚度为1.2μm的圆形的聚酰亚胺的隔壁膜11；增强部件12，该增强部件12为厚度比如，在3～5mm的范围内的不锈钢制的蜂窝结构体(具有许多空隙)，其按照与隔壁膜11基本相同的直径贴附于该膜11上以便实现增强；隔壁主体13，其由比如黄铜制成、呈环状，该隔壁主体保持上述这些部件；O型密封环14，该O型密封环14按照从隔壁主体13的底面突出的方式嵌入。在隔壁主体13的顶部左右2个部位开设有孔，在各孔中压入有可以以自由滑动的方式使狭缝板21穿过的销25的底端部。在销25的顶端部嵌入环26，在环26和狭缝板21之间，按照贯穿销25的方式插入有压缩弹簧27。对于采用隔壁10时的液体试样、粉末试样，通常不是指视本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析装置，该荧光Ｘ射线分析装置包括：接纳有试样的试样室；照射室，该照射室接纳有对试样照射１次Ｘ射线的Ｘ射线源，该照射室与上述试样室连通；分光室，该分光室接纳有对从试样产生的２次Ｘ射线分光而对其检测的检测 机构；隔壁，该隔壁按照将上述照射室和分光室分隔的方式设置，使上述２次Ｘ射线通过；以惰性气体对上述试样室和照射室进行置换，并且对上述分光室进行真空排气。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：住居弘咨，青柳光一，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：JP[日本]