【技术实现步骤摘要】
一种固定晶圆用静电吸盘
本技术涉及静电吸盘领域,尤其是一种固定晶圆用静电吸盘。
技术介绍
刻蚀技术是半导体加工工艺中最为常见的一道工序,它是按照掩膜图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术,在晶圆刻蚀的加工工序中,通常采用静电吸盘用于固定和支撑晶圆,以避免刻蚀过程中,由于晶圆静电吸盘其由多层单元组成,层与层之间安装有方向区别,而现有的晶圆静电吸盘在安装的过程中没有辅助安装装置,从而导致其安装时需要先辨别安装方向是否正确;此外现有静电吸盘的冷却效果不佳,不仅影响设备自身的使用寿命,还会影响到晶圆刻蚀的效果。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术存在的缺陷,提供一种便于安装,且冷却效果好的固定晶圆用的静电吸盘。实现本技术目的的技术方案是:一种固定晶圆用静电吸盘,具有晶圆固定单元;所述晶圆固定单元包括底盘以及设置在底盘下端的电容盘;所述底盘和电容盘通过辅助安装单元进行定位安装;所述电容盘内设有冷却通道,用于对其进行冷却;所述电容盘的下端面固定连接有位移单元;所述位移单元 ...
【技术保护点】
1.一种固定晶圆用静电吸盘,具有晶圆固定单元(10);其特征在于:所述晶圆固定单元(10)包括底盘(1)以及设置在底盘(1)下端的电容盘(2);所述底盘(1)和电容盘(2)通过辅助安装单元进行定位安装;所述电容盘(2)内设有冷却通道(28),用于对其进行冷却;所述电容盘(2)的下端面固定连接有位移单元(30);所述位移单元(30)的输出可贯穿晶圆固定单元(10)带动晶圆升降。/n
【技术特征摘要】
1.一种固定晶圆用静电吸盘,具有晶圆固定单元(10);其特征在于:所述晶圆固定单元(10)包括底盘(1)以及设置在底盘(1)下端的电容盘(2);所述底盘(1)和电容盘(2)通过辅助安装单元进行定位安装;所述电容盘(2)内设有冷却通道(28),用于对其进行冷却;所述电容盘(2)的下端面固定连接有位移单元(30);所述位移单元(30)的输出可贯穿晶圆固定单元(10)带动晶圆升降。
2.根据权利要求1所述的一种固定晶圆用静电吸盘,其特征在于:所述辅助安装单元包括底盘(1)上设置的两个凹槽(12)和电容盘(2)上设置的2个凸起(22);所述凹槽(12)与凸起(22)位置相对应设置,且凹槽(12)与凸起(22)互补设置。
3.根据权利要求2所述的一种固定晶圆用静电吸盘,其特征在于:两个所述凹槽(12)的大小和/或形状不同。
4.根据权利要求1所述的一种固定晶圆用静电吸盘,其特征在于:所述底盘(1)的中央设有放置台(11);所述放置台(11)上设置有贯穿底盘(1)的小孔洞(110)和大孔洞(111);所述大孔洞(111)的数量为4,小孔洞(110)数量为多个;所述大孔洞(111)包括上部分和下部分,上部分和下部分连通。
5.根据权利要求4所述的一种固定晶圆用静电吸盘,其特征在于:所述大孔洞(111)的上部分孔径<大孔洞(111)的下部分孔径,且在下部分孔径对应的孔洞垂直方向上设有通道(112);所述大孔洞(111)下部分孔径对应的孔洞与通道(112)连通...
【专利技术属性】
技术研发人员:廖海涛,吕军,
申请(专利权)人:无锡市邑勉微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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