用于双面处理的图案化真空吸盘制造技术

此处所述的实施方式涉及具有多个孔穴形成于其中的基板吸盘设备。在吸盘设备的主体中形成所述孔穴。在一个实施方式中，在主体的吸盘表面中形成第一多个通口且延伸至主体的底部表面。在另一实施方式中，在多个孔穴的底部表面中形成第二多个通口且延伸穿过主体至主体的底部表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于双面处理的图案化真空吸盘
本公开内容的实施方式一般涉及基板吸盘。更特定地，此处所述的实施方式涉及图案化真空吸盘。
技术介绍
在半导体及显示器工业中经常使用基板吸盘设备以在传送或处理基板期间支撑基板。新兴技术导致针对基板上装置及结构制造的多种先进处理技术的发展。例如，针对虚拟现实及增强现实应用的波导设备的制造推动了传统基板处理技术的界限。波导设备并入在玻璃或类玻璃基板上形成的微结构。通常，在基板的前侧面及基板的后侧面上形成微结构。然而，在处理期间掌控及支撑具有在基板前后上形成的微结构的基板是有挑战性的。例如，传统吸盘设备可在处理前侧面时损坏基板后侧面上形成的微结构，反之亦然。因此，
中所需要的是改良的吸盘设备。
技术实现思路
此处所述的实施方式涉及基板吸盘设备及吸住基板的方法。在一个实施方式中，基板吸盘设备包含：主体，该主体具有吸盘表面及相对于该吸盘表面的底部表面。该主体包含在该主体中形成的自该吸盘表面凹陷的多个孔穴，其中成对的该多个孔穴与多个第一导管流体连通。该设备也包含多个第二导管，在该主体中形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板吸盘设备，包括：/n主体，所述主体具有吸盘表面和相对于所述吸盘表面的底部表面，所述主体具有在所述主体中形成的自所述吸盘表面凹陷的多个孔穴，其中成对的所述多个孔穴与多个第一导管流体连通；和/n多个第二导管，所述多个第二导管形成在所述主体中，所述多个第二导管的一个第二导管在所述多个孔穴的一部分之间形成，其中个别地控制成对的所述孔穴中的压力。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180220 US 62/632,8671.一种基板吸盘设备，包括：
主体，所述主体具有吸盘表面和相对于所述吸盘表面的底部表面，所述主体具有在所述主体中形成的自所述吸盘表面凹陷的多个孔穴，其中成对的所述多个孔穴与多个第一导管流体连通；和
多个第二导管，所述多个第二导管形成在所述主体中，所述多个第二导管的一个第二导管在所述多个孔穴的一部分之间形成，其中个别地控制成对的所述孔穴中的压力。


2.如权利要求1所述的设备，其中所述主体为金属材料。


3.如权利要求1所述的设备，其中所述多个孔穴的每一个包含自所述孔穴的底部延伸的支撑构件。


4.如权利要求1所述的设备，其中所述多个第一导管包括第一对导管和第二对导管。


5.如权利要求4所述的设备，其中所述第一对导管与所述多个孔穴的第一对孔穴流体连通，且所述第二对导管与所述多个孔穴的第二对孔穴流体连通。


6.如权利要求4所述的设备，其中所述第一对导管与第一真空源流体连通，且所述第二对导管与第二真空源流体连通。


7.如权利要求6所述的设备，其中所述第一真空源与所述第二真空源不同。

【专利技术属性】
技术研发人员：约瑟夫·尤多夫斯基，维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南，卢多维克·戈代，罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US