一种等离子体刻蚀机用匀气盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩，所述安装罩顶端旋转安装有衔接管，所述安装罩底端旋转安装有衔接罩，所述衔接罩内部底端开设有安装槽，所述安装槽内旋转安装有供气盒，所述供气盒底端表面镶嵌有均气盘，本实用新型专利技术通过供气盒顶端表面镶嵌的一号进气管和二号进气管，便利于通过一号进气管和二号进气管不同的口径来改变气体进入供气盒内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体刻蚀机用匀气盘
本技术涉及等离子体刻蚀机配件领域，具体为一种等离子体刻蚀机用匀气盘。
技术介绍
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。而等离子刻蚀机在进行气体输送时，需要使用匀气盘将气体均匀的输送至其内部刻蚀中。但是，现有的等离子体刻蚀机用匀气盘存在以下缺点：1、现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，安装不便，无法进行拆卸维护。2、现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，无法对气体进行过滤，而且由于供气管道气压的影响，导致其无法进行均匀供气作业。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种等离子体刻蚀机用匀气盘，以解决上述
技术介绍
中现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，安装不便，无法进行拆卸维护，现有的等离子体刻蚀机用匀气盘本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩(1)，其特征在于：所述安装罩(1)顶端旋转安装有衔接管(3)，所述安装罩(1)底端旋转安装有衔接罩(5)，所述衔接罩(5)内部底端开设有安装槽(12)，所述安装槽(12)内旋转安装有供气盒(7)，所述供气盒(7)底端表面镶嵌有均气盘(6)。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩(1)，其特征在于：所述安装罩(1)顶端旋转安装有衔接管(3)，所述安装罩(1)底端旋转安装有衔接罩(5)，所述衔接罩(5)内部底端开设有安装槽(12)，所述安装槽(12)内旋转安装有供气盒(7)，所述供气盒(7)底端表面镶嵌有均气盘(6)。


2.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述安装罩(1)旋转安装有定位环(2)。


3.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述衔接管(3)表面滑扣安装有密封环(4)。


4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖海涛，王斌，
申请(专利权)人：无锡市邑勉微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32