处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一方案的处理装置包括：处理部，其包含：多个加工模块，其在第1室相连地配置；以及装载模块，其配置于所述第1室，用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块处理的基板；以及多个泵单元，其在与所述第1室相邻的第2室，与所述多个加工模块一一对应地配置，所述多个泵单元的设置面积为所述处理部的设置面积以下。

【技术实现步骤摘要】
处理装置
本公开涉及一种处理装置。
技术介绍
已知有一种处理系统，通过与洁净室等隔离地设置工具箱、泵箱，从而谋求洁净度较高的室的有效利用，而能够降低处理成本(例如，参照专利文献1)。专利文献1：日本特开平10-97962号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本公开提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。用于解决问题的方案本公开的一技术方案的处理装置包括：处理部，其包含：多个加工模块，其在第1室相连地配置；以及装载模块，其配置于所述第1室，用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块处理的基板；以及多个泵单元，其在与所述第1室相邻的第2室，与所述多个加工模块一一对应地配置，所述多个泵单元的设置面积为所述处理部的设置面积以下。专利技术的效果根据本公开，能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积。附图说明图1是表示第1实施方式的处理装置的结构例的立体图。图2是图1的处理装置的侧视图。图3是图1的处理装置的俯视图(1)。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理装置，其中，/n该处理装置包括：/n处理部，其包含：多个加工模块，其在第1室相连地配置；以及装载模块，其配置于所述第1室，用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块处理的基板；以及/n多个泵单元，其在与所述第1室相邻的第2室，与所述多个加工模块一一对应地配置，/n所述多个泵单元的设置面积为所述处理部的设置面积以下。/n

【技术特征摘要】
20190110 JP 2019-0029441.一种处理装置，其中，
该处理装置包括：
处理部，其包含：多个加工模块，其在第1室相连地配置；以及装载模块，其配置于所述第1室，用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块处理的基板；以及
多个泵单元，其在与所述第1室相邻的第2室，与所述多个加工模块一一对应地配置，
所述多个泵单元的设置面积为所述处理部的设置面积以下。


2.根据权利要求1所述的处理装置，其中，
所述第2室位于所述第1室的下方。


3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其中，
所述多个泵单元在与所述多个加工模块的排列方向相同的方向上排列地配置。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其中，
该处理装置包括多个排气处理装置，该多个排气处理装置在所述第2室与所述多个泵单元一一对应地配置，
所述多个泵单元和所述多个排气处理装置的合计的设置面积为所...

【专利技术属性】
技术研发人员：门部雅人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP