本实用新型专利技术公开了一种新型MASK框，包括MASK框本体，其特征在于：所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置，所述MASK框本体包括外层边框和内层边框，所述MASK框本体为分割型框，由若干单个部分框体组装而成，组装处留有应力槽，所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式，所述外层边框为钛材质，所述内层边框为铝合金材质。本实用新型专利技术的优点在于：设有应力槽来降低MASK框内应力，使得整体变形量降低，再生使用时更容易矫正；内层边框采用钛材质，可降低MASK框边缘消耗，同时外层边框仍采用铝合金材质，降低成本。
【技术实现步骤摘要】
一种新型MASK框
本技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种新型MASK框。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法，主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空粒子镀等。其中真空溅射镀是用带电粒子轰击靶材，加速的离子轰击固体表面，使靶材原子从表面逸出飞向基板，沉积成薄膜。在真空溅射镀膜过程中，会出现如下问题：1、靶材原子飞向基板沉积成薄膜时，同时靶材原子也会打在MASK框上，使MASK框产生压应力，改变MASK框的形状，常常多次使用后变需要更换。2、靶材原子沉积在MASK框上时，需要取出MASK进行清洗，通常酸洗过后，MASK框会消耗，尤其在MASK框边缘处易沉积，酸洗过后，MASK框边缘处会消耗较大，常需要更换，使用寿命降低，成本增加。
技术实现思路
本技术的目的在于提供了一种新型MASK框，降低了MASK边缘处消耗，同时再生使用时更容易矫正MASK框。本技术的上述目的通过以下的技术方案得以实现：一种新型MASK框，包括MASK框本体，所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置，所述MASK框本体包括外层边框和内层边框，所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式，所述外层边框为钛材质，所述内层边框为铝合金材质。进一步的，所述MASK框本体为分割型框，由若干单个部分框体组装而成，其中在组装处一侧的正梯形部分和另一侧的倒梯形部分拼接，形成方形结构。进一步的，所述组装处留有应力槽。进一步的，所述应力槽的槽宽介于4-6mm之间。进一步的，所述应力槽的槽宽为6mm。进一步的，其中一对平行设置的所述外层边框上设有方形缺口，方形缺口处设有安装条，安装条与外层边框相连，安装条两侧设有螺孔，可配合承重螺栓固定MASK框。进一步的，所述安装条高度低于外层边框高度。进一步的，所述内层边框下部设有内层边框支架，内层边框支架与内层边框垂直，内层边框支架上设有若干通孔，可配合带通分孔内六角低压头螺栓来固定基板。本技术的有益效果是：1.通过应力槽来降低MASK框内应力，使得整体变形量降低，再生使用时更容易矫正；2内层边框采用钛材质，可降低MASK框边缘消耗，同时外层边框仍采用铝合金材质，降低成本。附图说明：图1是本技术的结构示意图；图2是本技术的应力槽的示意图；图3是本技术的方形缺口的示意图；图4是本技术的局部放大图；图中：1MASK框本体、2外层边框、3内层边框、4方形缺口、5内层边框支架、6应力槽、7正梯形部分、8倒梯形部分、9安装条、10螺孔、11通孔。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步详细的描述。如图1-4所示，一种新型MASK框，包括MASK框本体1，所述MASK框本体1相邻两侧边垂直设置，所述MASK框本体1包括外层边框2和内层边框3，所述外层边框2和内层边框3之间采用组合拼接的方式，所述外层边框2为钛材质，所述内层边框3为铝合金材质。进一步的，所述MASK框本体1为分割型框，由若干单个部分框体组装而成，其中在组装处一侧的正梯形部分7和另一侧的倒梯形部分8拼接，形成方形结构。进一步的，所述组装处留有应力槽6。进一步的，所述应力槽6的槽宽介于4-6mm之间，在真空腔内，温度较高，MASK框膨胀变形，在经过靶材原子打压边框时，由于钛的密度大于铝合金的密度，应力槽处会产生向内的形变，若应力槽6宽度大于6mm，形变的程度过大，只能改换MASK框，且会形变过大会挤压内层和外层的连接孔，导致内层与外层连接不良；若应力槽6宽度小于4mm，在多次使用后，应力槽6两侧的框体逐渐合并，应力槽6变小直至消失，能使用次数较少，效益较低。进一步的，所述应力槽6的槽宽优选为6mm。进一步的，其中一对平行设置的所述外层边框2上设有方形缺口4，方形缺口4处设有安装条9，安装条9与外层边框2相连，安装条9两侧设有螺孔10，可配合承重螺栓固定MASK框。进一步的，所述安装条9高度低于外层边框2高度，能减少靶材原子对安装条处的直接撞击，减少安装条9形变。进一步的，所述内层边框3下部设有内层边框支架5，内层边框支架5与内层边框3垂直，内层边框支架5上设有若干通孔11，可配合带通分孔内六角低压头螺栓来固定基板。在真空腔体内，安装基板的MASK框也会受到靶材原子的撞击后沉积在MASK框上，撞击时产生压应力，通过应力槽可以释放部分的应力，余下的应力在取出MASK清洗后，通过敲打MASK框释放掉，同时恢复形变前；在靶材原子时，通常在MASK框边缘处受撞击次数较多，沉积的薄膜也较厚，通过内层采用钛材质，可以减少后续酸洗过程中的消耗，降低成本。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种新型MASK框，包括MASK框本体，其特征在于：所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置，所述MASK框本体包括外层边框和内层边框，所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式，所述外层边框为钛材质，所述内层边框为铝合金材质，所述MASK框本体为分割型框，由若干单个部分框体组装而成，并在组装处一侧的正梯形部分和另一侧的倒梯形部分拼接形成方形结构，且在组装处留有应力槽，所述应力槽的槽宽介于4-6mm之间。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型MASK框，包括MASK框本体，其特征在于：所述MASK框本体相邻两侧边垂直设置，所述MASK框本体包括外层边框和内层边框，所述外层边框和内层边框之间采用组合拼接的方式，所述外层边框为钛材质，所述内层边框为铝合金材质，所述MASK框本体为分割型框，由若干单个部分框体组装而成，并在组装处一侧的正梯形部分和另一侧的倒梯形部分拼接形成方形结构，且在组装处留有应力槽，所述应力槽的槽宽介于4-6mm之间。
2.根据权利要求1所述的一种新型MASK框，其特征在于：所述应力槽的槽宽为6mm。
【专利技术属性】
技术研发人员：梅德忠，
申请(专利权)人：苏州德润达电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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