本实用新型专利技术公开了一种新型防着帽，包括防着帽本体，所述防着帽本体由帽头和帽身组成，所述帽头上设有多个防着块，防着块在帽头各面上同向排列设置，且相邻两个防着块之间设有间隙，所述帽身内部为中空结构，所述帽身中空部分为两层，其中与防着帽本体配合使用的组装件置于底层，螺栓头部可置于顶层，所述螺栓轴部的螺纹与组装件上的螺纹孔配套，所述帽身内壁上设有弧形槽，弧形槽位于底层。本实用新型专利技术的优点在于：设计了一种新型防着帽，取消了原防着帽通过两针来固定螺栓和防着帽的方式，采用了螺栓嵌入防着帽的方式固定防着帽，解决了两针变形不可安装问题，使用时也更为方便；且防着块布局合理，能最大限度的保护螺栓。
A new type of helmets
【技术实现步骤摘要】
一种新型防着帽
本技术涉及镀膜防护
，具体涉及一种新型防着帽。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法，主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空粒子镀等。其中真空蒸发镀是用带电粒子轰击靶材，加速的离子轰击固体表面，使靶材原子从表面逸出飞向基板，沉积成薄膜。在真空溅射镀膜过程中，靶材原子不仅会飞向基板，沉积形成薄膜，还会在真空腔体内壁沉积，污染真空腔体内壁，所以需要设置防着板来保护真空腔体内壁不受污染，但是在防着板的固定处，螺栓缺乏保护，螺栓在受热膨胀时，经靶材原子打压很容易变形，多次使用过后螺栓上的螺纹和防着板上的螺孔会严重变形，会导致螺栓无法固定住防着板，需要重新跟换防着板，降低了效率，加大了成本。
技术实现思路
本技术的目的在于提供了一种新型防着帽，可以有效的保护螺栓。本技术的上述目的通过以下的技术方案得以实现：一种新型防着帽，包括防着帽本体，所述防着帽本体由帽头和帽身组成，所述帽头上设有多个防着块，防着块在帽头各面上同向排列设置，且相邻两个防着块之间设有间隙，所述帽身内部为中空结构，所述帽身中空部分为两层，其中与防着帽本体配合使用的组装件置于底层，螺栓头部可置于顶层，所述螺栓轴部的螺纹与组装件上的螺纹孔配套，所述帽身内壁上设有弧形槽，弧形槽位于底层。进一步的，所述帽头截面为正六边形，所述帽头分为周围四面和顶面，其周围四面中各面相同，防着块置于周围四面和顶面上。进一步的，所述防着块为梯型块，其截面为梯形，高度约为1-2mm。进一步的，所述间隙约为2-3mm。进一步的，所述间隙为3mm，所述防着块高度为1.2mm。进一步的，所述组装件分为顶部、中部和底部，其中顶部、中部和底部依次连接，且螺纹孔在顶部、中部和底部之间，所述顶部向外延伸一部分，延伸部分为弧形，其弧形延伸部分可嵌入弧形槽内。进一步的，所述组装件顶部高度略小于弧形槽深度，并且两者最大差值不能超过弧形槽宽度。本技术在实施之初，采用的防着帽上开两针孔，通过针固定在防着板上，从而保护防着板固定处的螺栓，但是两针在后续清洗过程中易变形，导致不可安装，且两针孔的加工较为困难，易偏差，导致不可安装，所有在防着帽上设置弧形槽与配套的组装件一起使用，可固定在螺栓上。本技术的有益效果是：帽头上设有的防着块，增强了防着帽的沉淀能力，防止溅射出的靶材原子经防着帽反弹后重新飞向真空腔体内壁，污染内壁，或飞向基板，降低成膜率；帽身内壁上设有弧形槽，螺栓可嵌入弧形槽内，固定简单，使用方便。附图说明：图1是本技术的结构示意图；图2是本技术的内部示意图；图3是本技术的俯视图；图4是本技术的配套使用的组装件的示意图；图中：1防着帽本体、2帽头、3帽身、4防着块、5间隙、6万向轮、7间隙、8底层、9顶层、10弧形槽、11组装件、12螺纹孔、13顶部、14中部、15底部、16弧形延伸部分。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步详细的描述。如图1-4所示，一种新型防着帽，包括防着帽本体1，所述防着帽本体1由帽头2和帽身3组成，所述帽头2上设有多个防着块4，防着块4在帽头2各面上同向排列设置，且相邻两个防着块4之间设有间隙5，所述帽身3内部为中空结构，所述帽身3中空部分为两层，其中与防着帽本体1配合使用的组装件11置于底层8，螺栓头部可置于顶层9，所述螺栓轴部的螺纹与组装件11上的螺纹孔12配套，所述帽身3内壁上设有弧形槽10，弧形槽10位于底层8。进一步的，所述帽头2截面为正六边形，所述帽头2分为周围四面和顶面，其周围四面中各面相同，防着块4置于周围四面和顶面上。进一步的，所述防着块4为梯型块，其截面为梯形，高度约为1-2mm，其中防着帽上防着块的高度通常与防着板上防着块的高度一致，否则平面内各处高度参差不齐，会出现集中沉淀的现象。进一步的，所述间隙5约为2-3mm，当间隙大于3mm，防着帽的沉淀能力较弱，当间隙小于2mm，防着块较为密集，在真空腔体内，防着块受热会膨胀，相邻防着块之间预留的间隙小，使得相邻防着块挤压在一起，无法达到沉淀靶材原子的目的。进一步的，所述间隙5为3mm，所述防着块4高度为1.2mm。进一步的，所述组装件11分为顶部13、中部14和底部15，其中顶部13、中部14和底部15依次连接，且螺纹孔12在顶部13、中部14和底部15之间，所述顶部13向外延伸一部分，延伸部分为弧形，其弧形延伸部分16可嵌入弧形槽10内。进一步的，所述组装件11顶部高度略小于弧形槽10深度，并且两者最大差值不能超过弧形槽10宽度。使用时，将螺栓旋入组装件11中，然后连接后的整体可固定防着板，通过组装件11的弧形延伸部分16嵌入弧形槽10内，使得防着帽可以保护连接后的整体。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种新型防着帽，包括防着帽本体，其特征在于：所述防着帽本体由帽头和帽身组成，所述帽头上设有多个防着块，防着块在帽头各面上同向排列设置，且相邻两个防着块之间设有间隙，所述帽身内部为中空结构，所述帽身中空部分为两层，其中与防着帽本体配合使用的组装件置于底层，螺栓头部可置于顶层，所述螺栓轴部的螺纹与组装件上的螺纹孔配套，所述帽身内壁上设有弧形槽，弧形槽位于底层。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型防着帽，包括防着帽本体，其特征在于：所述防着帽本体由帽头和帽身组成，所述帽头上设有多个防着块，防着块在帽头各面上同向排列设置，且相邻两个防着块之间设有间隙，所述帽身内部为中空结构，所述帽身中空部分为两层，其中与防着帽本体配合使用的组装件置于底层，螺栓头部可置于顶层，所述螺栓轴部的螺纹与组装件上的螺纹孔配套，所述帽身内壁上设有弧形槽，弧形槽位于底层。
2.根据权利要求1所述的一种新型防着帽，其特征在于：所述帽头截面为正六边形，所述帽头分为周围四面和顶面，其周围四面中各面相同，防着块置于周围四面和顶面上。
3.根据权利要求1所述的一种新型防着帽，其特征在于：所述防着块为梯型块，其截...
【专利技术属性】
技术研发人员：梅德忠，
申请(专利权)人：苏州德润达电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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