一种光学薄膜颜料片的制备方法及制备装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光学薄膜颜料片制备方法及制备装置，该方法包括：提供一颜料片基底及一比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位；在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积第一种材料以形成各自的第一膜层，并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度值达到第一预设强度值时，停止沉积所述第一种材料；在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上同步沉积第二种材料以形成各自的第二膜层，并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度值达到第二预设强度值时，停止沉积所述第二种材料；重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程。通过上述方式，本发明专利技术能够提高所述光学薄膜颜料片的生产效率。

A preparation method and device of optical film pigment sheet

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜颜料片的制备方法及制备装置
本专利技术涉及光学薄膜颜料片
，特别是涉及一种光学薄膜颜料片的制备方法及制备装置。
技术介绍
光学薄膜颜料片是通过在基底上交替沉积不同折射率的金属氧化物或非金属氧化物制备的，光学薄膜颜料片粉碎后形成的纳米结构色晶体广泛应用在高级油墨、涂料及印刷油墨等行业中。而通过控制沉积的膜层的折射率和沉积的膜层厚度可以使得光学薄膜颜料片呈现不同的颜色。现有技术中，光学薄膜颜料片采用多套膜系叠加的方法制备，且叠加的光学薄膜颜料片的总厚度需要达到20微米以上，相应的，比较片上需要沉积的膜层厚度也要达到20微米以上，而随着交替沉积在比较片上的膜层厚度增加，膜层厚度传感器检测到的信号不断降低，直至不能用于指示光学薄膜颜料片中膜层的沉积过程，因此无法继续进行生产。本申请的专利技术人在长期的研发过程中，发现在现有的光学薄膜颜料片生产过程中，随着膜层沉积的厚度增加检测信号不断减弱最终无法检测，生产被迫停顿，相应的，光学薄膜颜料片的生产效率低。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种光学薄膜颜料片的制备方法及制备装置，能够提高光学薄膜颜料片的生产效率。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种光学薄膜颜料片的制备方法。其中，所述方法包括：提供一颜料片基底及一比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位；在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积第一膜层材料以形成各自的第一膜层，并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度值达到第一预设强度值时，停止沉积所述第一种材料；在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上同步分别沉积第二种材料以形成各自的第二膜层，并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度值达到第二预设强度值时，停止沉积所述第二种材料；重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程，以在所述颜料片基底上交替形成所述第一种材料和所述第二种材料各自对应的膜层。为解决上述技术问题，本专利技术采用的第二个技术方案是：提供一种光学薄膜颜料片的制备装置。其中，所述装置包括：镀膜腔体；第一放置平台，位于所述镀膜腔体内，用于放置颜料片基底；第二放置平台，位于所述镀膜腔体内，用于放置比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位；控制系统，用于控制所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步沉积第一种材料以形成第一膜层，并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度达到第一预设强度时，停止沉积所述第一种材料；所述控制系统还用于控制在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上沉积第二种材料以形成第二膜层，并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度达到第二预设强度时，停止沉积所述第二种材料；所述控制系统还用于控制重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程，以在所述颜料片基底上交替形成所述第一种材料和所述第二种材料各自对应的膜层。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术在比较片上至少设置第一镀膜位和第二镀膜位，分别与在基底上沉积的第一种材料和第二种材料对应。这样，在基底上交替沉积所述第一种材料和所述第二种材料时，在第一镀膜位上只是不断的沉积第一种材料，在第二镀膜位上只是不断沉积第二种材料，而在同一镀膜位置上不断沉积同一种膜层材料的过程中，传感器检测到的相应镀膜位上的信号强度周期性变化而非逐渐减小，使得比较片上的膜层沉积控制过程稳定，基底上同步沉积的膜层厚度处于可靠的控制状态，有利于提高光学薄膜颜料片的生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第一实施方式的流程示意图；图2是图1中步骤S200对应的工艺过程一实施方式的示意图；图3是图1中步骤S300对应的工艺过程一实施方式的示意图；图4是图1中步骤S400对应的工艺过程一实施方式的示意图；图5是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第二实施方式对应的工艺过程一实施方式的示意图；图6是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第三实施方式对应的工艺过程一实施方式的示意图；图7是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第四实施方式对应的工艺过程一实施方式的示意图；图8是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第五实施方式的流程示意图；图9是图8中所述方法对应的工艺过程一实施方式的示意图；图10是本专利技术比较片一实施方式的俯视图；图11是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备装置一实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。参阅图1、图2、图3和图4，图1是本专利技术一种光学薄膜颜料片的制备方法第一实施方式的流程示意图，图2是图1中步骤S200对应的工艺过程一实施方式的示意图；图3是图1中步骤S300对应的工艺过程一实施方式的示意图；图4是图1中步骤S400对应的工艺过程一实施方式的示意图，该方法包括步骤：S100、提供一颜料片基底及一比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位。在所述步骤S100中，所述基底10是用来沉积光学薄膜颜料片产品的基底，所述基底10可以是玻璃基底、金属基底、也可以是塑料基底等。所述比较片20与所述基底10在相同工艺条件下同步进行镀膜操作；同时，通过检测所述比较片20上沉积的膜层的光信号强度值的变化来确定所述基底10上沉积的膜层厚度变化，以确定何时结束当前膜层的沉积。这是因为，所述比较片20与所述基底10在相同工艺条件下同步进行镀膜操作，因此两者镀膜的膜层厚度同步变化，且变化幅度相同。检测得到了所述比较片20上沉积的膜层厚度，实际上也就得到了所述基底10上沉积的膜层厚度。在本实施方式中，当所述基底10上交替沉积第一种材料和第二种材料时，所述比较片上的所述第一镀膜位1和所述第二镀膜位2分别用于沉积所述第一种材料和所述第二种材料。当然，用于沉积第一种材料的镀膜位的数量可以大于1个，用于沉积第二种材料的镀膜位的数量可以大于1个，也即用于沉积第一种材料的镀膜位的数量和用于沉积第二种材料的镀膜位的数量可以根据生产过程中的实际情况进行确定。进一步的，当所述基底10上交替沉积的膜层的种类大于两种时，所述比较片20上提供的镀膜位的数量至少与所述基底上交替沉积的膜层材料的种类相同，当然，所述镀膜位数量可以大于膜层材料的种类。S200、在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/n提供一颜料片基底及一比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位；/n在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积第一种材料以形成各自的第一膜层，并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度值达到第一预设强度值时，停止沉积所述第一种材料；/n在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上同步分别沉积第二种材料以形成各自的第二膜层，并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度值达到第二预设强度值时，停止沉积所述第二种材料；/n重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程，以在所述颜料片基底上交替形成所述第一种材料和所述第二种材料各自对应的膜层。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一颜料片基底及一比较片，所述比较片至少包括第一镀膜位、第二镀膜位；
在所述第一镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积第一种材料以形成各自的第一膜层，并在检测到所述第一镀膜位上的光信号强度值达到第一预设强度值时，停止沉积所述第一种材料；
在所述第二镀膜位及沉积有第一膜层的所述颜料片基底上同步分别沉积第二种材料以形成各自的第二膜层，并在检测到所述第二镀膜位上的光信号强度值达到第二预设强度值时，停止沉积所述第二种材料；
重复上述沉积所述第一种材料和所述第二种材料的过程，以在所述颜料片基底上交替形成所述第一种材料和所述第二种材料各自对应的膜层。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述比较片上还包括牺牲层镀膜位，所述方法还包括：
在所述牺牲层镀膜位及所述颜料片基底上同步分别沉积脱模剂，以形成牺牲层，便于所述颜料片通过所述牺牲层分离。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一种材料的折射率大于所述第二种材料的折射率。


4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述颜料片基底及所述比较片同步进行膜层沉积之前还包括，在所述第一镀膜位上预先交替沉积第一膜层和第二膜层。


5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述颜料片基底及所述比较片同步进行膜层沉积之前还包括，在所述第二镀膜位上预先沉积一预沉积层，所述预沉积层的折射率大于所述第二膜层的折射率。


6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一镀膜位光信号强度值和所述第二镀膜位光信号强度值分别随沉积的薄膜厚度周期变化。


7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光信号强度值包括透光率数值。


8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述比较片包括六个镀膜位，其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：马道远，
申请(专利权)人：深圳市融光纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44