纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体技术方案

本申请公开了一种纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体，该纳米结构色晶体的制备方法包括：提供一基板；将保护材料设置于基板上，以对基板形成一流平层；将脱膜剂设置于流平层上，以形成一牺牲层；将光学介质材料设置于牺牲层上，以形成一光学薄膜；剥离光学薄膜；将光学薄膜碎化，过筛后得到纳米结构色晶体。通过上述方式，本申请不需要频繁更换基板，能够解决生产成本过高的问题。

Preparation method, production system and nanostructured color crystals

【技术实现步骤摘要】
纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体
本申请涉及结构色
，特别是涉及纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体。
技术介绍
现有技术中，光学薄膜颜料的制备过程通常为通过PVD镀膜方式将光学介质材料沉积在基板上，再将光学薄膜从基板处剥离，粉碎制成颜料。本申请的专利技术人在长期的研发过程中，发现基板在反复使用过程中由于清洗过于频繁，以及脱膜剂的腐蚀等原因，导致基板表面的光洁度下降，影响光学薄膜的质量，并且，由于基板表面的光洁度下降，因此需要频繁更换基板，也造成生产成本过高的问题。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供了纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体，不需要频繁更换基板，能够解决生产成本过高的问题。为解决上述技术问题，本申请提供一种纳米结构色晶体的制备方法，该制备方法包括：提供一基板；在基板上设置一层流平层；将脱膜剂设置于流平层上，以形成一牺牲层；将光学介质材料设置于牺牲层上，以形成一光学薄膜；剥离光学薄膜；将光学薄膜碎化，过筛后得到纳米结构色晶体。其中，在基板上设置一层流平层的步骤之前，制备方法还包括：对基板进行预处理，预处理包括清洁处理和干燥处理；其中，清洁处理包括：清除残留在基板上的异物。其中，制备方法基于喷枪装置，流平层为清漆层，清漆层的材料为清漆材料，在基板上设置一层流平层的步骤包括：将清漆材料装入喷枪装置；通过喷枪装置将清漆材料喷涂到基板表面；将喷涂有清漆材料的基板进行固化处理，以形成清漆层。r>其中，制备方法基于镀膜装置，镀膜装置包括真空室和电阻蒸发舟，电阻蒸发舟设置于真空室的底部，电阻蒸发舟用于装载脱模剂，将脱膜剂设置于流平层上，以形成一牺牲层的步骤包括：将设置有流平层的基板固定于镀膜装置的夹具上；在多个所述电阻蒸发舟中装填所述脱模剂；对镀膜装置的真空室进行抽真空至真空室的真空度达到预设阈值；通过电阻蒸发舟加热脱膜剂，并将脱膜剂蒸镀至基板的流平层上，以形成牺牲层。其中，镀膜装置还包括多个电子枪坩埚，多个电子枪坩埚设置于真空室的底部，多个电子枪坩埚用于装载光学介质材料，在多个电阻蒸发舟中装填脱模剂的步骤之后，制备方法进一步包括：在多个电子枪坩埚中装填光学介质材料。其中，镀膜装置进一步包括：坩埚转动器，坩埚转动器与电子枪坩埚连接，将光学介质材料设置于牺牲层上的步骤包括：将电阻蒸发舟转换为电子枪坩埚；通过坩埚转动器驱动电子枪坩埚转动，以使装载有光学介质材料的电子枪坩埚旋转至电子枪的加热位；通过电子枪将光学介质材料蒸镀至牺牲层上，以形成光学薄膜。为解决上述技术问题，本申请提供一种纳米结构色晶体的生产系统，该生产系统包括：喷枪装置，用于在基板上设置一层流平层；镀膜装置，通过第一输送装置衔接喷枪装置，用于将脱膜剂设置于流平层上以形成一牺牲层，镀膜装置还用于将光学介质材料设置于牺牲层上，以形成一光学薄膜；剥离装置，通过第二输送装置衔接镀膜装置，用于剥离光学薄膜；粉碎装置，通过第三输送装置衔接剥离装置，用于碎化光学薄膜，过筛后得到纳米结构色晶体。其中，镀膜装置包括真空室和电阻蒸发舟，电阻蒸发舟设置于真空室的底部；电阻蒸发舟用于装载脱模剂，并加热脱膜剂，将脱膜剂蒸镀至基板的流平层上，以形成牺牲层。其中，镀膜装置还包括多个电子枪坩埚、坩埚转动器以及电子枪，坩埚转动器与电子枪坩埚连接，多个电子枪坩埚设置于真空室的底部；多个电子枪坩埚用于装载光学介质材料，坩埚转动器用于驱动电子枪坩埚转动，以使装载有光学介质材料的电子枪坩埚旋转至电子枪的加热位，电子枪用于将光学介质材料蒸镀至牺牲层上，以形成光学薄膜。为解决上述技术问题，本申请提供一种纳米结构色晶体，纳米结构色晶体采用上述的纳米结构色晶体的制备方法制备，纳米结构色晶体为光学薄膜的碎片，每一纳米结构色晶体的总层数与光学薄膜的总层数相同，每一纳米结构色晶体的多层光学介质层的光学性质与光学薄膜的多层光学介质层的光学性质相同。本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请在基板上镀设光学薄膜之前，在基板上设置一层流平层，由于流平层具有流平性，喷涂流平层后基板表面可达到镜面效果，提高了基板表面的光洁度。同时，喷涂流平层的优点：喷涂流平层所需时间极短，通常为5分钟，相较于机械抛光(通常需要5小时)而言，本申请提高基板表面的光洁度的技术方案更快捷，同时由于流平层的流平性高，相较于机械抛光，基板表面的光洁度更高。另一方面，机械抛光需要抛光机、布砂轮、抛光蜡等，而本申请只需要喷枪、流平材料，基板修复所需要的设备也由繁变简，更重要的是，本申请修复的基板光洁度更高，可达镜面效果。由此，不需要频繁更换基板，能够解决生产成本过高的问题。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第一流程示意图；图2是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第二流程示意图；图3是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第三流程示意图；图4是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第四流程示意图；图5是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第五流程示意图；图6是本申请纳米结构色晶体的生产系统一实施例的第一结构示意图；图7是本申请纳米结构色晶体的生产系统一实施例的第二结构示意图；图8是本申请纳米结构色晶体的生产系统一实施例的第三结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。请参阅图1，图1是本申请纳米结构色晶体的制备方法一实施例的第一流程示意图。本申请提供一种纳米结构色晶体的制备方法，该制备方法包括以下步骤：S101：提供一基板。具体的，基板的材料可以为透明玻璃基板、不锈钢或者硬塑料中的至少一种。在其他实施例中，基板的材料可以为透明的高分子聚合物材料，例如聚碳酸酯、聚丙烯、聚氯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物。在此不做限定。S102：在基板上设置一层流平层。流平层的厚度为50微米-300微米(例如50微米、100微米、200纳米微米或300微米)。其中，流平层的材料为具有流平性质的可固化的液体，例如清漆材料或聚合物材料，例如硅烷基化聚合物等。优选地，本申请各个实施例中的流平层为清漆层。需要理解的是，考虑到生产成本，本申请可以在基板的光洁度不佳时，在基板上设置流平层，具体可以由生产人员根据经验判断是否需要在基板上设置流平层，例如镀膜500件光学薄膜之后本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米结构色晶体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：/n提供一基板；/n在所述基板上设置一层流平层；/n将脱膜剂设置于所述流平层上，以形成一牺牲层；/n将光学介质材料设置于所述牺牲层上，以形成一光学薄膜；/n剥离所述光学薄膜；/n将所述光学薄膜碎化，过筛后得到所述纳米结构色晶体；/n其中，所述流平层的材料为具有流平性质的可固化的液体。/n

【技术特征摘要】
1.一种纳米结构色晶体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供一基板；
在所述基板上设置一层流平层；
将脱膜剂设置于所述流平层上，以形成一牺牲层；
将光学介质材料设置于所述牺牲层上，以形成一光学薄膜；
剥离所述光学薄膜；
将所述光学薄膜碎化，过筛后得到所述纳米结构色晶体；
其中，所述流平层的材料为具有流平性质的可固化的液体。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基板上设置一层流平层的步骤之前，所述制备方法还包括：
对所述基板进行预处理，所述预处理包括清洁处理和干燥处理；
其中，所述清洁处理包括：清除残留在所述基板上的异物。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法基于喷枪装置，所述流平层为清漆层，所述清漆层的材料为清漆材料，所述在所述基板上设置一层流平层的步骤包括：
将所述清漆材料装入所述喷枪装置；
通过所述喷枪装置将所述清漆材料喷涂到所述基板表面；
将喷涂有所述清漆材料的所述基板进行固化处理，以形成清漆层。


4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法基于镀膜装置，所述镀膜装置包括真空室和电阻蒸发舟，所述电阻蒸发舟设置于所述真空室的底部，所述电阻蒸发舟用于装载所述脱模剂，将所述脱膜剂设置于所述流平层上，以形成一牺牲层的步骤包括：
将设置有所述流平层的所述基板固定于所述镀膜装置的夹具上；
在多个所述电阻蒸发舟中装填所述脱模剂；
对所述镀膜装置的真空室进行抽真空至所述真空室的真空度达到预设阈值；
通过所述电阻蒸发舟加热所述脱膜剂，并将所述脱膜剂蒸镀至所述基板的流平层上，以形成所述牺牲层。


5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜装置包括多个电子枪坩埚，多个所述电子枪坩埚设置于所述真空室的底部，多个所述电子枪坩埚用于装载所述光学介质材料，所述在多个所述电阻蒸发舟中装填所述脱模剂的步骤之后，所述制备方法进一步包括：
在多个所述电子枪坩埚中装填所述光学介质材料。


6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述镀...

【专利技术属性】
技术研发人员：马道远，
申请(专利权)人：深圳市融光纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44