蒸发装置和方法制造方法及图纸

根据不同的实施方式，一种蒸发装置(300至800)可以具有：蒸镀区域(224r)；用于以距蒸镀区域(224r)一定间距的方式支承蒸发物的支架(302)；移位设备(304)，所述移位设备设计成将支架(302)相对于蒸镀区域(224r)移位；控制设备，所述控制设备设计成基于参数来操控移位设备(304)，其中参数代表蒸发物距蒸镀区域(224r)的间距。

Evaporation device and method

【技术实现步骤摘要】
蒸发装置和方法
本专利技术涉及一种蒸发装置和一种方法。
技术介绍
通常在真空工艺设施中使用高功率电子束(例如具有几千瓦的功率)来加热基底或工件、熔化材料或使覆层材料蒸发。例如，可以借助于电子束加热材料(例如铜)，使得其首先液化并且然后有针对性地蒸发。所产生的蒸气最终作为覆层沉积在基底上。材料的储备在坩埚中进行。在消耗材料后，必须周期性地对坩埚进行相应的再填充。通常，通过将附加的蒸发物引入坩埚的方式来再填充坩埚。坩埚的再填充例如可以在真空下通过将棒状的蒸发物从下方连续地输送到坩埚中的方式来进行。然而，在蒸发物消耗高的情况下，在真空下再填充是不常用的，因为在真空下预留的蒸发物的量受限。因此，在这种情况下，通常将坩埚从真空中取出并在大气中再填充。在后一种情况下，蒸发坩埚中的材料储备在蒸发工艺期间被消耗，直到必须再填充该蒸发坩埚为止。根据不同的实施方式已经认识到：该过程影响基底的覆层。明显地，蒸发物的消耗引起蒸发坩埚中的池液面(即蒸发物的表面，所述蒸发物在此过渡为气相)下降。这增加了蒸发材料距要覆层的基底的距离，进而也增加了蒸发的蒸发物为了到达基底而必须经过的路线。路线越大，到达基底的蒸气就越少，明显地这是因为理想的点蒸气源类似于朗伯辐射体方向相关地进行发射。为了抵消这种作用，通常必须要么在真空下再填充，要么将坩埚尽可能频繁地从真空取出。在这方面已经认识到：坩埚的再填充明显地需要大量时间，因为坩埚在真空下冷却，并且然后才能够从真空中取出。由此，工艺设施的处理量会下降，成本提高，并且需要更高的人力和工作耗费。根据不同的实施方式，提供一种蒸发装置和一种方法，其明显地降低蒸发物的再填充可能需要的中断的频繁性。
技术实现思路
根据不同的实施方式，可以通过相应地跟踪蒸发物连同坩埚，来抵消蒸发期间的工艺条件的变化。明显地，根据不同的实施方式，随着蒸发工艺的进展提升蒸发坩埚(即，克服重力而移位)，进而朝基底的方向移动。这例如可以进行为使得基底和池液面之间的间距随时间保持基本不变。根据不同的实施方式提供的蒸发装置和方法例如可以用于真空覆层设施，在所述真空覆层设施中从坩埚蒸发材料。根据不同的实施方式，蒸发装置具有：蒸镀区域(也称作为覆层区域)；用于以距所述蒸镀区域一定间距的方式支承蒸发物的支架；移位设备，所述移位设备设置成将支架相对于蒸镀区域移位；控制设备，所述控制设备设置成基于参数来操控移位设备，其中参数代表所述蒸发物距蒸镀区域的间距。附图说明附图示出：图1和11分别示出根据不同的实施方式的坩埚装置的示意侧视图或横截面图；图2、9和10示出根据不同的实施方式的真空装置的示意侧视图或横截面图；图3、4、5、6、7和8分别示出根据不同的实施方式的蒸发装置的示意侧视图或横截面图；图12示出根据不同的实施方式的方法的示意流程图。具体实施方式在下面详细的描述中参考所附的附图，所述附图形成所述描述的一部分，并且在所述附图中为了图解说明示出能够实施本专利技术的具体的实施方式。在此方面，关于所描述的(多个)附图的定向而应用方向术语，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因为实施方式的组成部分可以以多个不同的定向来定位，所以方向术语用于图解说明并且不以任何方式起限制作用。要理解的是，可以使用其他的实施方式并且可以进行结构上的或逻辑上的改变，而不偏离本专利技术的保护范围。要理解的是，只要没有具体地另作说明，在此描述的不同的示例性的实施方式的特征就可以互相组合。因此，下面详细的描述不应以限制性含义来解释，并且本专利技术的保护范围通过所附的权利要求来限定。在本说明书的范围内，术语“连接”、“接上”以及“耦联”用于描述直接的和间接的连接(例如欧姆性和/或导电性，例如导电的连接)、直接的或间接的联接以及直接的或间接的耦联。在图中，只要是适宜的，相同的或类似的元件就设有相同的附图标记。根据不同的实施方式，术语“耦联的”或“耦联”可以以例如直接或间接的(例如机械的、静液压的、热的和/或电的)连接和/或交互作用的含义来理解。例如，多个元件可以沿着交互作用链彼此耦联，交互作用(例如，信号)可以沿着所述交互作用链传输。例如，彼此耦联的两个元件可以彼此交换交互作用，例如机械的、静液压的、热的和/或电的交互作用。根据不同的实施方式，“联接”可以以机械(例如实体或物理的)耦联的含义来理解，例如借助于直接的实体接触。联接可以被设计为传递机械交互作用(例如力、转矩等)。控制可以理解为有意地影响系统。在此，系统的状态可以根据预设来改变。调节可以理解为控制，其中附加地抵消通过干扰引起的系统的状态变化。明显地，控制设备可以具有向前取向的控制路线进而明显地实施流程控制，所述流程控制将输入量转换成输出量。但是，控制路线也可以是调节回路的一部分，使得实施调节。与纯正向控制相对，调节具有输出量对输入量的持续影响，所述持续影响通过调节回路引起(反馈)。换言之，替选于或除了控制设备，可以使用调节设备，或者除了控制或替选于控制进行调节。在调节的情况下，将调节量的实际值(例如基于测量值求出)与引导值(额定值或预设或预设值)比较并且相应地可以借助于操纵量(利用执行器)影响调节量，使得尽可能得到调节量的相应的实际值与引导值的小的偏差。根据不同的实施方式，蒸发坩埚(也称作为熔化坩埚或简称为坩埚)可以设置在永久水冷的且可气密封闭的围壳中(也称作为坩埚壳体)。围壳可以具有自动打开和关闭的覆盖件。例如，根据不同的实施方式，可以蒸发铜。为此会需要将铜在蒸发坩埚中加热到大约1400℃或更高的温度。蒸发坩埚例如可以具有石墨或由其形成。根据不同的实施方式，蒸发物也可以具有不同于铜的材料。一般性来说，蒸发物例如可以具有铜(Cu)、银(Ag)、锡(Sn)、铟(In)和/或金(Au)或由它们形成。例如，这种蒸发物可以具有其他贵金属化合物和例如铜(Cu)、银(Ag)、锡(Sn)、铟(In)和/或金(Au)的合金，或由它们形成。但是，原则上，也可以蒸发其他类型的蒸发物，例如金属。根据不同的实施方式，可以使用通常也具有其他类型坩埚和/或其他类型蒸发物的所提供的供应装置，所述其他类型的蒸发物例如是氧化物蒸发物、石墨蒸发物、或其他化学化合物的蒸发物。在本说明书的范围中，金属(也称作为金属材料)可以具有至少一种金属元素(即一种或多种金属元素)(或由其形成)，例如出自如下元素组中的至少一种元素：铜(Cu)、铁(Fe)、钛(Ti)、镍(Ni)、银(Ag)、铬(Cr)、铂(Pt)、金(Au)、镁(Mg)、铝(Al)、锆(Zr)、钽(Ta)、钼(Mo)、钨(W)、钒(V)、钡(Ba)、铟(In)、钙(Ca)、铪(Hf)，钐(Sm)、银(Ag)和/或锂(Li)。此外，金属可以具有金属化合物(例如，金属间化合物或合金)或由它们形成，例如由至少两种金属元素(例如出自所述元素组中的金属元素)构成的化合物，例如青铜或黄铜，或例如由至少一种金属元素(例如出自所述元素组中的金属本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发装置(300至800)，其具有：/n蒸镀区域(224r)；/n用于以距所述蒸镀区域(224r)一间距的方式支承蒸发物的支架(302)；/n移位设备(304)，所述移位设备设计成将所述支架(302)相对于所述蒸镀区域(224r)移位；/n控制设备(306)，所述控制设备设计成基于参数来操控所述移位设备(304)，其中所述参数代表所述蒸发物距所述蒸镀区域(224r)的间距；/n支撑结构，所述支撑结构相对于所述蒸镀区域(224r)地点固定地设置，其中所述支架(302)的移位经过所述支撑结构进行，使得蒸发坩埚能够借助于所述支架(302)由所述支撑结构接纳和/或停放在所述支撑结构上。/n

【技术特征摘要】
20181212 DE 102018131905.31.一种蒸发装置(300至800)，其具有：
蒸镀区域(224r)；
用于以距所述蒸镀区域(224r)一间距的方式支承蒸发物的支架(302)；
移位设备(304)，所述移位设备设计成将所述支架(302)相对于所述蒸镀区域(224r)移位；
控制设备(306)，所述控制设备设计成基于参数来操控所述移位设备(304)，其中所述参数代表所述蒸发物距所述蒸镀区域(224r)的间距；
支撑结构，所述支撑结构相对于所述蒸镀区域(224r)地点固定地设置，其中所述支架(302)的移位经过所述支撑结构进行，使得蒸发坩埚能够借助于所述支架(302)由所述支撑结构接纳和/或停放在所述支撑结构上。


2.根据权利要求1所述的蒸发装置(300至800)，其还具有：用于朝所述支架(302)发射电子束的电子束枪。


3.根据权利要求1或2所述的蒸发装置(300至800)，其中所述移位设备(304)具有一个或多于一个往复缸机械装置。


4.根据权利要求1或2所述的蒸发装置(300至800)，其中所述移位设备(304)具有一个或多于一个主轴驱动器。


5.根据权利要求1或2所述的蒸发装置(300至800)，其还具有：重量传感器和/或距离传感器，所述重量传感器和/或距离传感器设计成检测所述参数。


6.根据权利要求1或2所述的蒸发装置(300至800)，其中所述控制设备(306)设计成当所述参数满足一标准时将所述支架(302)移位，其中所述标准代表最大间距。


7.根据权利要求1或2所述的蒸发装置(300至800)，其中所述控制设备(306)设计成基于存储的物理量和时间量求出所述参数，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌维·魏纳，米夏埃尔·霍夫曼，安德烈亚斯·穆勒，
申请(专利权)人：冯·阿登纳资产股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE