【技术实现步骤摘要】
本专利技术各种实施例涉及一种方法以及一种蒸气分布装置。
技术介绍
1、一般而言，可以涂布基材，例如玻璃基材，从而改变基材的化学和/或物理性质。涂布过程可以例如包括热蒸发待蒸材料(又称蒸发物或涂层材料)，将如此形成的蒸气沉积在基材上。为此，可以采用所谓的线性蒸发器，其具有若干喷嘴，这些喷嘴沿基材方向喷射蒸气。
2、一种常用配置是所谓的线性蒸发器，其中将待蒸材料引导到具有一列喷射嘴的管道中，待蒸材料呈材料蒸气流形式从这些喷射嘴中出射。
3、根据各种实施方式可以认识到，材料蒸气流从这样一列喷射嘴(又称喷嘴列)离开的空间分布会遭受干扰，例如是由于管道中流量相关波动、有限管道长度等喷射嘴特性波动。这会导致涂层不匀(例如层非均质)，尤其是在涂层边缘(例如与基材的距离不同、基材厚度不同、蒸发材料更迭)。通常仅通过更换相关的喷嘴来解决此类干扰，但这只能在涂布过程中断的情况下完成。还可能需要重复这种更换，例如在改变涂层材料或改变其他设置的情况下。
技术实现思路
1、根据各实施方案，本专利技术提供了一种方法以及一种蒸气分布装置(例如，包括线性蒸发器)，从而更简单地解决此类干扰。这样尤其更容易影响进行中的涂布过程，例如在涂布过程中减少层非均质或甚至抑制层非均质的形成。
2、根据各实施方案，借助热蒸发并借助基材(例如大型基材)上的线性蒸发器进行涂布过程，其中线性蒸发器例如具有正好一列喷嘴，借助这列喷嘴使待蒸材料呈蒸气形式均匀分布到基材上。
【技术保护点】
1.一种方法(400)，包括：
2.根据权利要求1所述的方法(400)，其中，所述指示是基于供应材料蒸气流的涂布过程的结果。
3.根据权利要求2所述的方法(400)，其中，当向所述涂布过程提供材料蒸气流时，通过传感器记录所述涂布过程的结果。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法(400)，其中，所述执行器(404)根据基于所述指示的第一规范来激励，其中，所述第一规范代表所述气流(611)的目标空间分布。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法(400)，其中，所述指示表示所述材料蒸气流的空间分布与第二规范的偏差，其中，所述激励配置为抵消所述偏差。
6.一种用于执行根据权利要求5所述的方法(400)的计算机程序。
7.一种存储有指令的计算机可读介质，所述指令被处理器执行时使得所述处理器执行根据权利要求5所述的方法(400)。
8.一种控制器，其一个或多个处理器配置为执行根据权利要求5所述的方法(400)。
9.一种蒸气分布装置(100)，包括：
10.根据权利要求9所述
11.根据权利要求9或10所述的蒸气分布装置(100)，其中，所述多个出气口(106a)指向所述材料蒸气流从所述空腔(102h)射向的区域。
12.一种方法(400)，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种方法(400)，包括：
2.根据权利要求1所述的方法(400)，其中，所述指示是基于供应材料蒸气流的涂布过程的结果。
3.根据权利要求2所述的方法(400)，其中，当向所述涂布过程提供材料蒸气流时，通过传感器记录所述涂布过程的结果。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法(400)，其中，所述执行器(404)根据基于所述指示的第一规范来激励，其中，所述第一规范代表所述气流(611)的目标空间分布。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法(400)，其中，所述指示表示所述材料蒸气流的空间分布与第二规范的偏差，其中，所述激励配置为抵消所述偏差。
6.一种用于执行根据权利要求5所述的方法(400)的计...
【专利技术属性】
技术研发人员：布鲁诺·海姆克，罗尔夫·兰克，克里斯蒂安·卡恩，
申请(专利权)人：冯·阿登纳资产股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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