真空装置、方法和电极的应用制造方法及图纸

技术编号:27644607 阅读:14 留言:0更新日期:2021-03-12 14:04
按照不同的实施方式,真空装置(100至900)可以具有:用于在第一区域中贴近辊套(112m)地并且在第二区域中离开辊套(112m)地提供运输路径(111p)的运输辊(112),该运输辊具有介电的辊套(112m);气体分离结构(302),该气体分离结构提供分离气体的空腔(302h),其中,空腔(302h)从第一区域中的运输路径(111p)延伸到第二区域中的运输路径(111p)并且与辊套(112m)邻接;用于激发气体放电的电极(304),其中,该电极(304)布置在空腔(302h)中。

【技术实现步骤摘要】
真空装置、方法和电极的应用
不同的实施例涉及一种真空装置、一种方法和电极的应用。
技术介绍
通常可以这样来加工(处理)基板,例如对基板涂层,使得可以改变基板的化学特性和/或物理特性。为了对基板涂层,可以实行不同的涂层方法,如气相沉积,比如化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)。PVD的一种工艺例如是电子束蒸发(EBPVD),这就是说,涂层材料借助电子束蒸发。在此,可以例如在真空中蒸发金属并且使其沉积在非金属的(例如由聚对苯二甲酸乙二醇酯即PET构成的)基板上,以便将这个基板金属化。在借助EBPVD金属化基板时(或者更为普遍地在对基板涂层时),可能由于来自处理室的飞散回的电子的轰炸而造成基板的充电。在例如由SiO2构成的绝缘层沉积时,基板和层可能被充电。在金属的接地的辊表面和因此带负电的基板之间的电位差,可能导致在基板(例如膜)和辊之间的静电吸引。电子例如在金属层中导致这个金属层充电,前提是带运行(这就是说接触所述层的辊)是绝缘的。另一方面,高能电子的一部分例如留在绝缘的基板本身中,因而这个基板带负电。基板在此可以在导电的层之间用作绝缘体。这个附加的力(除带张力外)提高了在基板和辊之间的压紧力并且因此也提高了在涂层窗口中被基板吸收的工艺热量(例如冷凝热、辐射热、微粒能量)到冷却辊的有效的运走,由此降低基板的热应力。为了确保稳定的基板运输,可能必需的是,有针对性地在辊和离开的基板之间在楔形结构(Zwickel)的区域中使基板放电。通常通过辉光放电的点火引起了基板的有针对性的中和。为此可以例如在基板和处理辊之间在离开的楔形结构的区域中用电压(约+1000V)加载棒状电机,由此使有针对性地供应的或者在基板和辊之间逸出的惰性气体电离(这就是说形成等离子)。在阴极势降的区域中,加速的粒子撞击基板并且因此有助于放电。
技术实现思路
按照不同的实施方式明显可以认识到,在辊(下文中也称为运输辊)上的不洁物会局部减小静电吸引,例如当不洁物能导电时。这种不洁物可能例如具有用涂层材料对运输辊的不期望的寄生涂层和/或基板的金属的磨损碎屑。虽然可以定期清洁受污染的运输辊。不过这需要定期中断涂层过程并且因此降低涂层过程的盈利。在这种相互关系下可知,可以通过额外为辉光放电输送将不洁物电钝化的气体(下文中也称为反应气体)而抵消这种效果。钝化可以例如通过将不洁物至少部分(这就是说部分或完全)转化成电介质而完成,例如借助不洁物的氧化。按照不同的实施方式,真空装置可以具有:用于在第一区域中贴近辊套地并且在第二区域中离开辊套地提供运输路径的运输辊,该运输辊具有介电的辊套;气体分离结构,该气体分离结构提供分离气体的空腔(更为普遍地也称为气体放电室),其中,空腔从第一区域中的运输路径延伸到第二区域中的运输路径并且与辊套邻接;用于激发气体放电的电极,其中,该电极布置在空腔中。附图说明图中:图1至9在不同的示意性视图中示出了按照不同的实施方式的真空装置;并且图10在示意性流程图中示出了按照不同的实施方式的方法。具体实施方式在随后的详细的说明中参考了附图,附图形成了说明书的一部分并且在附图中为了图解说明而示出了一些特殊的实施方式,能以所述实施方式实施本专利技术。在这方面,参照所说明的附图的方位使用方向术语如“上”、“下”、“前”、“后”、“前面的”、“后面的”等。因为实施方式的部件能以多个不同的方位定位,所以方向术语用于图解说明并且并不作任何限制。不言而喻的是,可以使用其它的实施方式并且作出结构上或逻辑上的修改,而不会偏离本专利技术的保护范围。不言而喻的是,在此文中所说明的不同的示例性的实施方式的特征能相互组合,倘若没有专门另行说明的话。随后的详细的说明因此不能理解为是限制性的,本专利技术的保护范围则由所附的权利要求限定。在本说明书的范畴内,概念“连接(verbunden)”、“联接(angeschlossen)”以及“联结(gekoppelt)”用于说明直接的和间接的连接(例如电阻性的和/或导电的,例如导电的连接)、直接的或间接的联接以及直接的或间接的联结。为图中一致或类似的元件配设一致的附图标记,如果这样做合适的话。控制可以指的是有意影响一个系统。在此,可以按照预定来改变系统的状态。调节可以指的是控制,其中,额外抵消了由干扰引起的系统的状态变化。控制机构显然可以具有向前指向的控制路径并且因此显然可以实行将输入参量转为输出参量的流程控制。但控制路径也可以是调节回路的一部分,因而实施调节。与纯粹的正向控制相反的是,调节结构使得输出变量对输入变量连续施加影响,这由调节回路促成(反馈)。换句话说,作为控制机构的备选或除了控制机构外可以使用调节机构或者作为控制的备选或除了控制外可以进行调节。在调节机构中,将调节参量的实际值(例如基于测量值求出)与参考值(额定值或预先规定值或预定值)相比较并且相应地可以借助调整参量(在使用调整元件的情况下)这样来影响调节参量,使得尽可能得出调节参量的相应的实际值与参考值的小的偏差。输入参量因此可以是有待控制/调节的系统的测量参量。固体内的小的(例如不规则分布的)空腔可以称为孔隙。空腔可以延伸进入固体中和/或例如延伸穿过这个固体地形成了一个相互连接的网络,因而固体是透气的。微孔隙可以具有小于约2nm的伸展长度(例如孔隙直径)。中孔隙可以具有在约2nm至约50nm范围内的伸展长度。大孔隙可以具有大于约50nm的伸展长度并且例如小于1微米(μm)。一个孔隙的伸展长度可以指的是具有和该孔隙相同的体积的球的直径。因此可以由固体和布置在固体的孔隙中的流体(例如气态的和/或液态的材料)形成一种异质的混合物。按照不同的实施方式,可以将基板作为带(也称为带式基板)辊对辊地运输(这就是说缠绕在包装辊之间)。带式基板可以例如具有在约1cm(例如30cm)至约500cm的范围内的宽度(横向于运输方向的伸展长度)或者大于约500cm的宽度(也称为基板宽度)。此外,带式基板可以是柔性的。带式基板明显可以是可以卷绕到辊上的和/或例如可以辊对辊处理的任意的基板。带式基板可以视所使用的材料的弹性而定具有在约几微米(例如约1μm)至约几毫米(例如至约10mm)的范围内的、例如在约0.01mm至约3mm的范围内和/或在约300μm(微米)至约1mm(例如针对PVD应用)的范围内的材料厚度(也称为基板厚度)。缠绕可以沿着运输路径借助多个运输辊进行,运输辊例如在轴向可以比带式基板宽度更长。按照不同的实施方式,基板可以具有下列材料中的至少一种或者由其形成:陶瓷、玻璃、半导体、金属、聚合物(例如塑料)和/或不同的材料的混合物,如复合材料(例如碳纤维增强的碳或者碳纤维增强的塑料)。基板例如可以具有塑料膜、半导体膜、金属膜和/或玻璃膜或由其形成,并且可选例如用一种涂层材料涂层。基板备选或附加地可以例如具有纤维,例如玻璃纤维、碳纤维、金属纤维、植物纤维(纸)和/或塑料纤维,例如形式为编织物、网、针织物、编结物或作为毛毡或无纺布。基板可以例如具有柔性的基板材料。基板可以例如具有本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种真空装置(100至900),具有:/n·用于在第一区域(301a)中贴近辊套(112m)地并且在第二区域(301b)中离开辊套(112m)地提供运输路径(111p)的运输辊(112),该运输辊具有介电的辊套(112m);/n·气体分离结构(302),该气体分离结构提供分离气体的空腔(302h),其中,空腔(302h)从第一区域(301a)中的运输路径(111p)延伸到第二区域(301b)中的运输路径(111p)并且与辊套(112m)邻接;/n·用于激发气体放电的电极(304),其中,该电极(304)布置在空腔(302h)中。/n

【技术特征摘要】
20190912 DE 102019124489.71.一种真空装置(100至900),具有:
·用于在第一区域(301a)中贴近辊套(112m)地并且在第二区域(301b)中离开辊套(112m)地提供运输路径(111p)的运输辊(112),该运输辊具有介电的辊套(112m);
·气体分离结构(302),该气体分离结构提供分离气体的空腔(302h),其中,空腔(302h)从第一区域(301a)中的运输路径(111p)延伸到第二区域(301b)中的运输路径(111p)并且与辊套(112m)邻接;
·用于激发气体放电的电极(304),其中,该电极(304)布置在空腔(302h)中。


2.根据权利要求1所述的真空装置(100至900),还具有:用于朝着所述运输辊(112)发射涂层材料的涂层装置(306、308)。


3.根据权利要求1或2所述的真空装置(100至900),其中,所述气体分离结构(302)具有一个或多于一个界定所述空腔(302h)的壁元件。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的真空装置(100至900),还具有:
用于将气体供应到所述空腔(302h)中的气体供应结构(402)。


5.根据权利要求4所述的真空装置(100至900),其中,所述气体供应结构(402)设置用于,穿过所述辊套(112m)地供应气体。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空装置(100至900),其中,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:托马斯·尼德劳森马库斯·弗克特
申请(专利权)人:冯·阿登纳资产股份有限公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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