一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置制造方法及图纸

本申请公开了一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置，所述制备方法包括：将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子，该待去除离子包括脱模剂离子；向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。通过上述方式，本申请能够将待去除离子从光学薄膜/颜料片的空隙中去除，从而提高颜料片在涂层中的稳定性和耐久性。

An optical film / pigment sheet, preparation method and device

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置
本申请涉及发光颜料
，特别是涉及一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置。
技术介绍
随着纳米技术的广泛应用，各界开始采用光学薄膜制造颜料片。光学薄膜一般在基板上形成，光学薄膜与基板之间用脱膜层(或牺牲层)隔开，后期只需去除脱膜层即可获得光学薄膜，将光学薄膜粉碎后进而获得颜料片。本申请的专利技术人在长期研究过程中发现，当脱膜层为水溶性时，去除脱膜层方法一般为水洗，水洗脱膜时脱膜层会电离出离子，离子会随着水溶液的流动渗入到光学薄膜的各个空隙中，且该离子会对光学薄膜以及后续制备的颜料片产生不利影响。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置，能够将待去除离子从光学薄膜/颜料片的空隙中去除。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种光学薄膜/颜料片的制备方法，所述方法包括：将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。其中，所述利用所述匹配离子结合所述待去除离子，包括：所述匹配离子与所述待去除离子结合以沉淀的形式析出。其中，所述向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，包括：在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出。其中，所述预定搅拌速度为20转/分钟～60转/分钟。其中，所述在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出，之后，所述制备方法还包括：在第一搅拌速度下继续搅拌第一预定时间。其中，所述将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，之前，所述方法还包括：利用第一溶剂多次清洗脱膜后的所述光学薄膜/颜料片，以去除部分所述待去除离子。其中，所述第一电离物质在电离反应中电离出所述匹配离子以及对应的其他离子，所述向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，之后，所述方法还包括：利用第二溶剂多次清洗所述光学薄膜/颜料片，以去除所述其他离子。其中，所述待去除离子为所述光学薄膜/颜料片进行脱膜时脱膜层溶解生成的离子，其中，所述待去除离子包括氯离子，所述第一电离物质包括硝酸银，所述硝酸银在电离反应中电离出银离子与硝酸根离子，所述氯离子与所述银离子结合形成氯化银沉淀析出。为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种光学薄膜/颜料片，所述光学薄膜/颜料片由上述任一实施例所述的制备方法获得。为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种制备光学薄膜/颜料片的装置，所述装置包括：容器，用于承载脱膜后的所述光学薄膜/颜料片，且所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；进液组件，用于向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请所提供的光学薄膜/颜料片的制备方法包括：向放置有脱膜后的光学薄膜/颜料片的容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，第一电离物质含有与待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用匹配离子结合待去除离子，从而将待去除离子从空隙中去除，进而降低待去除离子对光学薄膜/颜料片的不利影响，从而提高颜料片在涂层中的稳定性和耐久性，其中，上述待去除离子可以是脱模剂离子等。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1为现有光学薄膜的制备方法一实施方式的流程示意图；图2为图1中步骤S101-步骤S103对应的一实施方式的结构示意图；图3为本申请光学薄膜/颜料片的制备方法一实施方式的流程示意图；图4为本申请制备光学薄膜/颜料片的装置一实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。为便于理解，首先介绍一下制备光学薄膜/颜料片的现有工艺流程。请参阅图1-图2，图1为现有光学薄膜的制备方法一实施方式的流程示意图，图2为图1中步骤S101-步骤S103对应的一实施方式的结构示意图，该制备方法包括：S101：提供基板10；具体地，在一个实施方式中，基板10的材质可以是表面光滑平整的塑料(例如，聚乙烯硬塑料等)、玻璃、镜面不锈钢等。S102：在基板10一侧形成第一脱膜层12；具体地，在一个实施方式中，可采用现有技术中真空蒸发镀膜方法形成上述第一脱膜层12。S103：在第一脱膜层12远离基板10一侧形成第一光学薄膜14；具体地，在一个实施例中，可以利用真空镀膜设备形成第一光学薄膜14，第一光学薄膜14可以为现有技术中任一种，可以是单层或者多层薄膜(金属或介质薄膜)，第一光学薄膜14的总厚度可以为50-1800纳米(例如，50、500、1000、1800纳米等)，第一光学薄膜14具有较佳的光学反射性能、光致变色性能、适当的物理强度和抗腐蚀化学稳定性。在一个应用场景中，第一光学薄膜14为多层膜，可依次形成，其结构为Cr4LCr4LCr；其中，L为二氧化硅，厚度分别为5纳米、440纳米、20纳米、440纳米以及5纳米。在另一个应用场景中，第一光学薄膜14的结构为Cr4LAg4LCr，其中，厚度分别为5.5纳米、440纳米、18纳米、440纳米以及5.5纳米。在其他应用场景中，第一光学薄膜14的结构也可为其他，本申请对此不作限定。S104：去除第一脱膜层12以剥离得到第一光学薄膜14。具体地，在一个实施例中，第一脱膜层12的材质为水溶性，上述去除第一脱膜层12的方法可以是将上述整体放置于水溶液中，第一脱膜层12溶解于水溶液中，进而获得第一光学薄膜14。在其他实施方式中，为提高生产效率，可在基板10上制备多层光学薄膜。在上述步骤S104之前，本申请所提供的光学薄膜的制备方法还包括：A、在第一光学薄膜14远离第一脱膜层12一侧形成第二脱膜层16，第一脱膜层12与第二脱膜层16的材质相同或者不同；B、在第二脱膜层16远离第一光学薄膜14的一侧形成第二光学薄膜18，第二光学薄膜18与第一光学薄膜14的材质相同。重复上述步骤A和步骤B，以获得多层光学薄膜叠层结构。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜/颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/n将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；/n向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜/颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；
向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述利用所述匹配离子结合所述待去除离子，包括：
所述匹配离子与所述待去除离子结合以沉淀的形式析出。


3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，包括：
在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出。


4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，
所述预定搅拌速度为20转/分钟～60转/分钟。


5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出，之后，所述制备方法还包括：
在第一搅拌速度下继续搅拌第一预定时间。


6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置...

【专利技术属性】
技术研发人员：马道远，
申请(专利权)人：深圳市融光纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44