一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置制造方法及图纸

本申请公开了一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置，所述制备方法包括：将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子，该待去除离子包括脱模剂离子；向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。通过上述方式，本申请能够将待去除离子从光学薄膜/颜料片的空隙中去除，从而提高颜料片在涂层中的稳定性和耐久性。

An optical film / pigment sheet, preparation method and device

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置
本申请涉及发光颜料
，特别是涉及一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置。
技术介绍
随着纳米技术的广泛应用，各界开始采用光学薄膜制造颜料片。光学薄膜一般在基板上形成，光学薄膜与基板之间用脱膜层(或牺牲层)隔开，后期只需去除脱膜层即可获得光学薄膜，将光学薄膜粉碎后进而获得颜料片。本申请的专利技术人在长期研究过程中发现，当脱膜层为水溶性时，去除脱膜层方法一般为水洗，水洗脱膜时脱膜层会电离出离子，离子会随着水溶液的流动渗入到光学薄膜的各个空隙中，且该离子会对光学薄膜以及后续制备的颜料片产生不利影响。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种光学薄膜/颜料片、制备方法及装置，能够将待去除离子从光学薄膜/颜料片的空隙中去除。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种光学薄膜/颜料片的制备方法，所述方法包括：将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜/颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/n将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；/n向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜/颜料片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置于容器中，其中，所述脱膜后的光学薄膜/颜料片的空隙中含有待去除离子；
向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，其中，所述第一电离物质含有与所述待去除离子对应的匹配离子，以在电离反应中利用所述匹配离子结合所述待去除离子，从而将所述待去除离子从所述空隙中去除。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述利用所述匹配离子结合所述待去除离子，包括：
所述匹配离子与所述待去除离子结合以沉淀的形式析出。


3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述向所述容器中添加含有第一电离物质的溶液，包括：
在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出。


4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，
所述预定搅拌速度为20转/分钟～60转/分钟。


5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述在预定搅拌速度下，向所述容器中逐滴滴加含有所述第一电离物质的所述溶液，直至无沉淀析出，之后，所述制备方法还包括：
在第一搅拌速度下继续搅拌第一预定时间。


6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将脱膜后的光学薄膜/颜料片放置...

【专利技术属性】
技术研发人员：马道远，
申请(专利权)人：深圳市融光纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44