一种用于真空溅射镀膜的改良防着板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，包括防着板本体，上层防着面和下层防着面，所述上层防着面设于防着板本体的上表面，所述下层防着面设于防着板本体的下表面，所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成，所述防着块为梯形块结构，相邻两个防着块中心间距为5‑10mm，相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2‑5mm，所述防着块的斜面倾角为45°‑80°，所述防着板本体侧面设有安装孔，所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层，加厚层位于安装孔正上方和正下方。本实用新型专利技术的优点在于：采用双层防着面增加了防着板的沉淀能力，同时在安装孔位处设有加厚层，防止在几次清洗防着板后安装孔不可用，提高其使用寿命。

An improved anti strike plate for vacuum sputtering coating

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空溅射镀膜的改良防着板
本技术涉及真空溅射镀膜
，具体涉及一种用于真空溅射镀膜的改良防着板。
技术介绍
真空溅射镀膜是用带电粒子轰击靶材，使靶材原子从表面逸出飞向基板，沉积成薄膜。但是轰击处的靶材原子不仅会沉积在基板上，还会沉积真空腔体内壁等其他非镀膜区域，造成污染。生产过程中为了避免污染常在真空腔体内壁加设防着板，现有的防着板通常为单面设置为防着面，未设置为防着面的面贴着真空腔体内壁安装，沉淀效果不佳，防着板利用率低，而且其安装螺孔常常会在靶材原子轰击时造成变形，使得在后续清洗防着板时，安装螺孔被消耗而不能用，最终不能不更换防着板。
技术实现思路
本技术的目的在于提供了一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，其沉淀效果好，利用率高，使用寿命长。为了实现上述目的，本技术提供的技术方案如下：一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，包括防着板本体，上层防着面和下层防着面，所述上层防着面设于防着板本体的上表面，所述下层防着面设于防着板本体的下表面，所述上层防着面和下层防着面对称设置，所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成，所述防着块为梯形块结构，相邻两个防着块中心间距为5-10mm，相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2-5mm，所述防着块的斜面倾角为45°-80°，所述防着板本体侧面设有安装孔，所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层，加厚层位于安装孔正上方和正下方。进一步的，所述相邻两个防着块中心间距为7mm。进一步的，所述相邻两个防着块之间的沉积流道宽为3mm。r>进一步的，所述防着块的斜面倾角为60°。进一步的，所述沉积流道作轻微腐蚀处理或喷砂处理或溶射处理。进一步的，所述加厚层长度大于安装孔深度，所述加厚层宽度大于安装孔直径。本技术的有益效果是：防着板本体两面均设有防着面，防着板利用率高，沉淀效果更好；防着面上的防着块之间的沉积流道作轻微腐蚀处理或喷砂处理或溶射处理，提高了沉淀效果；防着板侧面设有安装孔从而使得防着板可以侧面安装，保证防着板可以正常安装；安装孔对应处设有加厚层，防止在几次清洗防着板后安装孔不可用，提高其使用寿命。附图说明：图1是本技术的结构示意图；图2是本技术的局部俯视示意图；图3是本技术的局部正视示意图；图中：1防着板本体、2上层防着面、3下层防着面、4防着块、5沉积流道、6加厚层、7安装孔。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步详细的描述。如图1-3所示，一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，包括防着板本体1，上层防着面2和下层防着面3，所述上层防着面2设于防着板本体1的上表面，所述下层防着面3设于防着板本体1的下表面，所述上层防着面2和下层防着面3对称设置，所述上层防着面2和下层防着面3由若干防着块4和沉积流道5组成，所述防着块4为梯形块结构，相邻两个防着块4中心间距为5-10mm，相邻两个防着块4之间的沉积流道宽为2-5mm，所述防着块4的斜面倾角为45°-80°，所述防着板本体1侧面设有安装孔7，所述防着板本体1上表面及下表面设有加厚层6，加厚层6位于安装孔7正上方和正下方。进一步的，所述相邻两个防着块4中心间距为7mm。进一步的，所述相邻两个防着块4之间的沉积流道5宽为3mm，当靶材原子轰击防着板时，其防着块4受压形变，使得沉积流道5变窄，其中沉积流道宽大于5mm时，难以沉积；沉积流道宽小于2mm，沉积量低，进一步的，所述防着块4的斜面倾角为60°，在靶材原子轰击至防着板时，可以沿斜面进入沉积流道5，其中60°斜面倾角进入沉积流道的效果最佳。进一步的，所述沉积流道5作轻微腐蚀处理或喷砂处理或溶射处理，使其沉积流道5表面较为粗糙，在靶材原子轰击至其表面时，更容易沉淀。进一步的，所述加厚层6长度大于安装孔7深度，所述加厚层6宽度大于安装孔7直径。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，包括防着板本体，上层防着面和下层防着面，其特征在于：所述上层防着面设于防着板本体的上表面，所述下层防着面设于防着板本体的下表面，所述上层防着面和下层防着面对称设置，所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成，所述防着块为梯形块结构，相邻两个防着块中心间距为5-10mm，相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2-5mm，所述防着块的斜面倾角为45°-80°，所述防着板本体侧面设有安装孔，所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层，加厚层位于安装孔正上方和正下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，包括防着板本体，上层防着面和下层防着面，其特征在于：所述上层防着面设于防着板本体的上表面，所述下层防着面设于防着板本体的下表面，所述上层防着面和下层防着面对称设置，所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成，所述防着块为梯形块结构，相邻两个防着块中心间距为5-10mm，相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2-5mm，所述防着块的斜面倾角为45°-80°，所述防着板本体侧面设有安装孔，所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层，加厚层位于安装孔正上方和正下方。


2.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的改良防着板，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅德忠，
申请(专利权)人：苏州德润达电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32