掩模及其制造方法技术

技术编号:24793260 阅读:30 留言:0更新日期:2020-07-07 20:13
掩模及其制造方法。提供的是一种制造掩模的方法,该方法包括制备第一导电层。该第一导电层包括:在基板上的多个单元区域中具有网格形状的第三部分;在所述多个单元区域之间对应的第二部分;以及围绕该第三部分和该第二部分的第一部分。所述方法还包括:在所述第一导电层上制备包括至少一个开口区域的第二导电层。所述方法还包括:使通过所述第二导电层的所述至少一个开口区域暴露的所述第一导电层的一部分氧化。所述方法还包括:通过使用所述第一导电层和所述第二导电层作为种子层进行镀覆来制备镀覆层;以及从所述镀覆层剥离所述第一导电层和所述第二导电层。

【技术实现步骤摘要】
掩模及其制造方法
本公开涉及掩模(mask)及其制造方法,并且更具体地,涉及一种用于在有机发光显示装置的制造工艺中使用来沉积有机层并通过镀覆工艺形成的掩模以及一种制造该掩模的方法。
技术介绍
随着信息时代进步,用于在视觉上显示电信息信号的显示装置的领域已迅速地增长。依照快速发展,已经开发了具有诸如薄厚度、轻重量和低功耗性质的极好性能的各种显示装置。上面提到的显示装置的具体示例可以包括液晶显示装置(LCD)、量子点装置(QD)、场发射显示装置(FED)、有机发光显示装置(OLED)等。特别地,OLED是自发光装置并且具有高响应速度、发光效率和辉度及宽视角的优点。因此,OLED已经在吸引许多关注。OLED包括阳极、阴极和有机层,该有机层被设置在阳极与阴极之间,并且在该有机层中电子和空穴结合以发出光。通常,有机层包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发射层(EML)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)。OLED的有机层可以根据设计具有图案化发射层结构。在具有图案化发射层结构的OLED中,发出不同颜色的光的发射层对于相应的像素来说是分离的。例如,用于发出红色光的红色有机发射层、用于发出绿色光的绿色有机发射层和用于发出蓝色光的蓝色有机发射层可以被分别分离在红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中。可以使用掩模(例如,具有用于相应的子像素的开口的精细金属掩模(在下文中,称为FMM))来使包括有机发射层的有机层沉积并图案化在相应的子像素的发射区域上。通常通过经由曝光和显影形成图案并然后通过湿法蚀刻在金属片材上转印该图案来制造这样的掩模。然而,当使用湿法蚀刻工艺来制造掩模时,由于蚀刻的各向同性而难以在蚀刻工艺期间精确地控制图案宽度。因此,难以获得高分辨率图案。
技术实现思路
通常通过经由曝光和显影形成图案并然后通过湿法蚀刻在金属片材上转印该图案来制造这样的掩模。然而,当使用湿法蚀刻工艺来制造掩模时,由于蚀刻的各向同性而难以在蚀刻工艺期间精确地控制图案宽度。因此,难以获得高分辨率图案。因此,本公开的专利技术人开发了一种制造掩模(例如FMM)的工艺,以用于用在通过电镀的OLED的制造工艺中。在电镀工艺中,通过对种子图案施加电流来在设置在基板上的种子图案上形成镀覆层。然而,通过电镀所制造的掩模具有小厚度和低表面粗糙度,并且由于掩模与基板之间的静电而不容易被从基板剥离。此外,当从基板剥离掩模时,可能损坏掩模。此外,通过电镀所制造的掩模像种子图案的表面一样具有非常低的表面粗糙度。因此,在检测用于对准的对准键(alignmentkey)的过程中,对准键的检测率由于高表面反射率而大大地减小。因此,难以在期望的位置处对准掩模。因此,本公开的专利技术人认识到电镀的上述问题并且专利技术了一种可从基板容易地剥离的掩模和一种制造该掩模的方法。要由本公开实现的目的是为了提供一种掩模和一种制造该掩模的方法。在所述掩模中,电镀层的部分区域具有高表面粗糙度以容易地从基板剥离所述掩模,从而减少在工艺期间对所述掩模的损坏。要由本公开实现的另一目的是为了提供一种掩模和一种制造该掩模的方法。形成在所述掩模的表面上的对准键区域具有减小的反射率,因此,可提高对准键的检测率并且可容易地将所述掩模设置在期望的位置处。要由本公开实现的又一目的是为了提供一种使用具有不同电阻的两个或更多个导电层来制造掩模的方法。在所述掩模中,要通过镀覆而形成的镀覆层可被容易地剥离并且具有高厚度均匀性。本公开的目的不限于上面提到的目的,并且本领域技术人员可从以下描述中清楚地理解上面未提及的其它目的。根据本公开的一个方面,一种制造掩模的方法包括制备第一导电层。该第一导电层包括:在基板上的多个单元区域中具有网格形状的第三部分;在所述多个单元区域之间对应的第二部分;以及围绕该第三部分和该第二部分的第一部分。所述方法还包括:在所述第一导电层上制备包括至少一个开口区域的第二导电层。所述方法还包括:使通过所述第二导电层的所述至少一个开口区域暴露的所述第一导电层的一部分氧化。所述方法还包括:通过使用所述第一导电层和所述第二导电层作为种子层进行镀覆来制备镀覆层;以及从所述镀覆层剥离所述第一导电层和所述第二导电层。根据本公开的另一方面,一种掩模包括:第一部分,该第一部分围绕多个单元区域的外围。所述掩模还包括:第二部分,该第二部分位于所述多个单元区域之间;以及第三部分,该第三部分在所述多个单元区域中限定多个开口。所述第一部分包括具有比与第一部分内的对准键区域邻近的周边区域高的表面粗糙度的对准键区域。根据本公开的另一方面,一种掩模包括多个第一区域。多个孔位于多个第一区域的每一个上,至少一个孔具有第一端开口以及小于第一端开口的第二端开口。掩模还包括位于第一区域之间的第二区域。掩模还包括围绕第一区域和第二区域的第三区域。位于第二区域或第三区域上的第一表面上的反射率值小于位于第二区域或第三区域上的第二表面上的反射率值。示例性实施方式的其它详细内容题材被包括在详细描述和附图中。根据本公开,掩模包括具有比其外围区域高的表面粗糙度的部分区域。因此,通过利用高表面粗糙度而减小反射率,可以容易地从基板剥离所述掩模并且使在制造工艺中减少对所述掩模的损坏。根据本公开,形成具有高表面粗糙度的对准键。因此,可以增加所述对准键的检测率并且容易地对准所述掩模。根据本公开,具有不同性质的第一导电层和第二导电层被用作种子层。因此,可以在制造工艺期间容易地剥离所述掩模并且形成具有均匀厚度的掩模。根据本公开的效果不限于上面举例说明的内容,并且在本说明书中包括更多种效果。附图说明根据结合附图进行的以下详细描述,将更清楚地理解本公开的以上及其它方面、特征和其它优点,附图中:图1A至图1J是被提供来说明根据本公开的实施方式的制造掩模的方法的示意平面图和截面图;图2是例示了使用图1J所示的掩模来使有机材料沉积在显示面板上的腔室的示意截面图;图3是被提供来说明根据本公开的另一实施方式的制造掩模的方法的示意截面图;图4是根据本公开的另一实施方式的掩模的示意平面图;图5是根据本公开的又一实施方式的掩模的示意平面图;图6是如沿着图5的VI-VI'线所截取的掩模的示意截面图;图7是根据本公开的再一实施方式的掩模的示意平面图;图8是如沿着图7的VIII-VIII'线所截取的掩模的示意截面图;以及图9是根据本公开的再一实施方式的掩模的示意截面图。具体实施方式通过参照与附图一起在下面详细地描述的示例性实施方式,本公开的优点和特性以及实现这些优点和特性的方法将是清楚的。然而,本公开不限于本文公开的示例性实施方式,而是将被以各种形式实现。示例性实施方式仅作为示例被提供,使得本领域技术人员可充分地理解本公开的公开内容和本公开的范围。因此,本公开将仅通过所附权利要求的范围来限定。用于描述本公开的示例性实施方式的附图中例本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种制造掩模的方法,该方法包括以下步骤:/n在基板上形成第一导电层;/n在所述第一导电层上形成包括至少一个开口的第二导电层;/n使所述第一导电层的通过所述第二导电层的所述至少一个开口暴露的部分氧化;/n通过使用所述第一导电层和所述第二导电层作为种子层进行镀覆来形成镀覆层;以及/n从所述镀覆层去除所述第一导电层和所述第二导电层。/n

【技术特征摘要】
20181228 KR 10-2018-01718041.一种制造掩模的方法,该方法包括以下步骤:
在基板上形成第一导电层;
在所述第一导电层上形成包括至少一个开口的第二导电层;
使所述第一导电层的通过所述第二导电层的所述至少一个开口暴露的部分氧化;
通过使用所述第一导电层和所述第二导电层作为种子层进行镀覆来形成镀覆层;以及
从所述镀覆层去除所述第一导电层和所述第二导电层。


2.根据权利要求1所述的制造掩模的方法,其中,所述第一导电层包括在所述基板上的多个单元区域中具有网格形状的第三部分、在所述多个单元区域之间对应的第二部分以及围绕所述第三部分和所述第二部分的第一部分。


3.根据权利要求1所述的制造掩模的方法,其中,形成所述第二导电层的步骤包括:形成所述第二导电层以覆盖所述第一导电层的上表面和侧表面。


4.根据权利要求2所述的制造掩模的方法,其中,形成所述第二导电层的步骤包括:形成多个第一开口,所述多个第一开口使所述第一导电层的在所述第一部分中的部分暴露。


5.根据权利要求2所述的制造掩模的方法,其中,形成所述第二导电层的步骤包括:形成多个第一开口和多个第二开口,所述多个第一开口使所述第一导电层的在所述第一部分中的部分暴露,所述多个第二开口使所述第一导电层的在所述第二部分中的部分暴露。


6.根据权利要求5所述的制造掩模的方法,其中,所述第一开口具有比所述第二开口大的大小。


7.根据权利要求5所述的制造掩模的方法,其中,通过所述第一开口暴露的所述第一导电层具有比通过所述第二开口暴露的所述第一导电层高的表面粗糙度。


8.根据权利要求1所述的制造掩模的方法,其中,使所述第一导电层的部分氧化的步骤包括:对所述第一导电层和所述第二导电层执行高温热处理。


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【专利技术属性】
技术研发人员:金贤俊
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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