一种掩膜版制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种掩膜版。该掩膜版包括：多个开口区和围绕所述开口区的遮挡区；所述遮挡区设置有多个凹槽，多个所述凹槽相对多个所述开口区的对称线对称。本实用新型专利技术实施例的方案提高了掩膜版开孔位置精度，从而提高了显示面板的制作精度。

A mask

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版
本技术实施例涉及显示技术，尤其涉及一种掩膜版。
技术介绍
随着显示技术的发展，有机发光显示面板因其高响应幅度，高色纯度，宽视角、可折叠性、低能耗等优点而得到越来越广泛的应用。有机发光显示面板制作时大多会采用蒸镀技术，将有机材料蒸镀至显示基板上，形成有机发光层。而这一过程需要用到掩模版，然而采用现有的掩膜版存在开孔位置偏位的问题，容易影响显示面板的制作精度。
技术实现思路
本技术提供一种掩膜版，以提高掩膜版开孔位置精度，从而提高显示面板的制作精度。第一方面，本技术实施例提供了一种掩膜版，包括：多个开口区和围绕所述开口区的遮挡区；所述遮挡区设置有多个凹槽，多个所述凹槽相对所述多个开口区的对称线对称。可选的，所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区为相邻所述开口区之间的遮挡区，所述第二遮挡区为所述开口区与所述掩膜版的边缘之间的遮挡区；所述第一遮挡区和所述第二遮挡区均设置有多个凹槽。可选的，在所述第一遮挡区，沿一个开口区指向另一开口区的方向，凹槽的开口尺寸、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：/n多个开口区和围绕所述开口区的遮挡区；/n所述遮挡区设置有多个凹槽，多个所述凹槽相对多个所述开口区的对称线对称。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
多个开口区和围绕所述开口区的遮挡区；
所述遮挡区设置有多个凹槽，多个所述凹槽相对多个所述开口区的对称线对称。


2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：
所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区为相邻所述开口区之间的遮挡区，所述第二遮挡区为所述开口区与所述掩膜版的边缘之间的遮挡区；
所述第一遮挡区和所述第二遮挡区均设置有多个凹槽。


3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于：
在所述第一遮挡区，沿一个开口区指向另一开口区的方向，凹槽的开口尺寸、凹槽深度和凹槽坡度中的至少一个由大变小再变大；
在所述第二遮挡区，沿所述开口区指向所述掩膜版的边缘的方向，凹槽的开口尺寸、凹槽深度和凹槽坡度中的至少一个由大变小。


4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于：
在所述第一遮挡区，沿一个开口区指向另一开口区的方向，凹槽间距由小变大再变小；
在所述第二遮挡区，沿所述开口区指向所述掩膜版的边缘的方向，凹槽间距的由小变大。


5.根据权利要求1所述的掩膜版...

【专利技术属性】
技术研发人员：李哲，刘明星，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32