一种清洗系统技术方案

本实用新型专利技术涉及太阳能电池生产技术领域，具体公开一种清洗系统。该清洗系统包括清理机构，清理机构包括承载平台和清理组件，承载平台能够吸附待清洗的硅片，且待清洗的硅片的一面能够完全贴附于承载平台上，另一面朝下设置，清理组件设置于承载平台的下方，清理组件能够清洗待清洗的硅片。本实用新型专利技术提供的清洗系统，通过在硅片的下方对硅片进行清洗，可以防止清洗液同时将硅片上印刷良好的一面也清洗掉，且能够避免清洗完硅片的废液流到硅片的另一面，造成污染。该清洗系统结构简单，操作方便，能够避免硅片上印刷良好的一面被破坏，且处理成本较低。

A cleaning system

【技术实现步骤摘要】
一种清洗系统
本技术涉及太阳能电池生产
，尤其涉及一种清洗系统。
技术介绍
随着能源的日益枯竭，太阳能作为清洁可再生能源在能源利用领域发挥着越来越重要的作用。太阳能电池的一般制作流程为制绒、扩散、侧面刻蚀、去磷硅玻璃、PECVD镀膜、丝网印刷、烧结以及测试，其中，在丝网印刷工序中，需要在硅片的上下表面分别刷上银浆和铝浆，形成电极起到收集电流的作用，而硅片的一面印刷完成后，需要更换新网版重新调试对位后，再印刷另一面，在这一过程中，通常会由于对位不精确或者机台网版异常的问题，出现硅片的另一面印刷不良的问题。针对上述情况，现有技术中一般的处理方法有三种：第一种是直接流入烧结工序做成等外品或者报废品；第二种是进行简单擦洗，将图形擦洗干净后直接再次印刷流入烧结，此类不良件外观不易发现，但是电性能测试会显示为暗电流失效片；第三种是将异常图形擦洗干净后，进行酸洗去除金属离子后再次印刷流入烧结，此方法良品率较高，但是容易破坏硅片上印刷良好的一面，而且废液中还存在金属铝离子、银离子等，处理成本高；为了彻底去除硅片表面的金属离子，溶液里面的酸会过量使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗系统，其特征在于，包括清理机构(1)，所述清理机构(1)包括：/n承载平台(11)，所述承载平台(11)能够吸附待清洗的硅片(100)，且待清洗的硅片(100)的一面能够完全贴附于所述承载平台(11)上，另一面朝下设置；/n清理组件(12)，其设置于所述承载平台(11)的下方，所述清理组件(12)能够清洗待清洗的硅片(100)。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗系统，其特征在于，包括清理机构(1)，所述清理机构(1)包括：
承载平台(11)，所述承载平台(11)能够吸附待清洗的硅片(100)，且待清洗的硅片(100)的一面能够完全贴附于所述承载平台(11)上，另一面朝下设置；
清理组件(12)，其设置于所述承载平台(11)的下方，所述清理组件(12)能够清洗待清洗的硅片(100)。


2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述承载平台(11)上设置有多个真空孔(111)，所述真空孔(111)连通于真空发生器。


3.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述清理机构(1)还包括清理支架(13)，所述承载平台(11)转动设置于所述清理支架(13)上，以使所述承载平台(11)吸附所述硅片(100)的表面朝下设置。


4.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述清理组件(12)包括连通管道(121)和设置于所述连通管道(121)上的多个喷嘴(122)，所述连通管道(121)的一端能够与清洗液管道(10)相连通，所述连通管道(121)的另一端与多个所述喷嘴(122)均连通，所述喷嘴(122)的出口朝向所述硅片(100)设置。


5.根据权利要求4所述的清洗系统，其特征在于，所述清理组件(12)还被配置为将清洗完的所述硅片(100)吹干。


6.根据权利要求5所述的清洗系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：王豪兵，周彬，谢金晶，杨雪梅，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32