硼构造体以及硼粉末制造技术

本发明专利技术提供一种高纯度且能容易地进行破碎的硼构造体、以及由该硼构造体的破碎物构成并具有特定的粒径的高纯度的硼粉末。本发明专利技术的硼构造体由Ti、Al、Fe、Cr、Ni、Co、Cu、W、Ta、Mo、Nb的各浓度为0.1ppmw以下的硼构成，厚度为0.8～5mm。上述硼构造体的形状优选管状，在用作掺杂剂的情况下，作为同位素的

Boron structure and boron powder

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】硼构造体以及硼粉末
本专利技术涉及一种新型的硼构造体以及硼粉末。详细而言，本专利技术提供一种高纯度且能容易地进行破碎的硼构造体以及具有特定的粒径的高纯度的硼粉末。
技术介绍
在制造单晶硅时，有时将硼用作掺杂剂。此时，将硼粉末导入单晶的提拉装置的坩埚中。但是，在硼粉末导入的作业时，有时硼粉末会飞散。另外，对作为掺杂剂的硼要求一定程度的比表面积。因此，为了防止硼粉末的飞散并确保一定程度的比表面积，期望具有几毫米尺寸的粒径的高纯度的硼粉末。以往，高纯度的硼通过氧化硼的金属还原、BF3的热分解等而得到(参照专利文献1)。但是，通过上述方法得到的硼是微米尺寸的无定形晶体(amorphouscrystal)或微晶，在用作掺杂剂的情况下，作业时容易飞散。另外，操作时受到环境污染，特别是在形成表面氧化膜时会吸入环境气氛中的杂质，因此存在氧和金属成分，特别是Fe、Ni、Co、Cu等的浓度变高的问题。作为硼的高纯度化技术，提出了：制造微米尺寸的硼，通过热压将其加工成棒状，进而通过浮区(floatzone)提纯进行高纯度化(参照专利文献2)。但是，就本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硼构造体，其由钛、铝、铁、铬、镍、钴、铜、钨、钽、钼以及铌的各浓度为0.1ppmw以下的硼构成，厚度为0.8～5mm。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171017 JP 2017-2007901.一种硼构造体，其由钛、铝、铁、铬、镍、钴、铜、钨、钽、钼以及铌的各浓度为0.1ppmw以下的硼构成，厚度为0.8～5mm。


2.根据权利要求1所述的硼构造体，其为管状。


3.根据权利要求1或2所述的硼构造体，其密度为2.2g/cm3以上。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的硼构造体，其中，
作为硼的同位素的11B的比例为95质量％以上。


5.一种硼粉末，其为权利要求1～4中任一项所述的硼构造体的破碎物，平均粒径为0.5～3mm，钛、铝、铁、铬、镍、钴、铜、钨、钽、钼以及铌的各浓度为0.3ppmw以下。


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【专利技术属性】
技术研发人员：阪井纯也，山本朋浩，吉冈雄辉，藤井照慈，
申请(专利权)人：株式会社德山，
类型：发明
国别省市：日本;JP