显示面板和显示装置制造方法及图纸

本公开提供了一种显示面板，包括：导光结构层、显示结构层和吸光结果层，其中导光结构层具有出光侧，配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出；显示结构层设置在所述导光结构层的出光侧，包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵，所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域；吸光结构层位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧，配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线，且使得经由所述反射矩阵的表面反射出的光线通过。本公开还提供了一种显示装置。

【技术实现步骤摘要】
显示面板和显示装置
本公开涉及显示
，特别涉及一种显示面板和显示装置。
技术介绍
液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)具有色域高、画质好、轻薄化、体积小、重量轻、响应时间快、低功耗、无辐射和制造成本相对较低等一系列优点，已广泛应用在平板电脑、电视、手机和车载显示器等电子产品中。随着液晶显示技术的成熟带来了应用场景的扩展，如透明显示、反射显示、头戴显示、指向显示等。其中，透明显示是显示技术的一个重要分支，是指在透明状态下进行图像显示，观看者不仅可以看到显示装置中的影像，而且可以看到显示装置背后的景象。透明显示装置可以用于车挡风玻璃、透明冰箱门、镜子等，具有广泛的应用场景。但是，现有的透明显示装置存在暗态漏光严重的问题，严重影响透明显示装置的对比度。
技术实现思路
本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显示面板及其制备方法和显示装置。第一方面，本公开实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括：导光结构层，具有出光侧，配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出；显示结构层，设置在所述导光结构层的出光侧，包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵，所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域；吸光结构层，位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧，配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线，且使得经由所述反射矩阵的表面反射出的光线通过。在一些实施例中，所述显示结构层具有显示区，所述显示区包括多个亚像素区；所述导光结构层包括位于所述预设位置且与所述亚像素区一一对应的多个取光口；所述黑矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个遮光单元；所述反射矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个反光单元；吸光结构层包括与所述亚像素区一一对应的多个吸光单元；所述取光口、所述遮光单元、所述反光单元和所述吸光单元均位于对应的所述亚像素区内。在一些实施例中，所述遮光单元包括：第一遮光图形和第二遮光图形；所述第二遮光图形位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧，所述第二遮光图形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第一倾斜面，所述第一倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交，且所述第一倾斜面朝向位于同一亚像素区内的所述取光口。在一些实施例中，在每个所述亚像素区内，相对于所述第二遮光图形，所述反光单元更远离所述取光口；所述第二遮光图形在所述第一遮光图形所处平面上的正投影与反光单元在所述第一遮光图形所处平面上的正投影相接触。在一些实施例中，在每个所述亚像素区内，所述反光单元位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧；所述反光单元和所述第二遮光图形在所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧表面并排设置且相接触。在一些实施例中，所述反光单元包括：本体和反射层，所述本体远离所述第一遮光图形的一侧表面为第二倾斜面，所述第二倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交，且所述第二倾斜面朝向位于同一亚像素区内的所述取光口，所述反射层设置于所述第二倾斜面上。在一些实施例中，所述本体、所述第一遮光图形和所述第二遮光图形，三者一体成型。在一些实施例中，所述调光结构包括液晶层，所述显示结构层还包括：衬底基板、第一电极层和第二电极层；所述第一电极层位于所述衬底基板靠近所述液晶层的一侧，所述黑矩阵和所述反射矩阵位于所述第一电极层靠近所述液晶层的一侧，所述第二电极层位于所述液晶层远离所述黑矩阵的一侧；所述吸光结构层位于所述第二电极层和所述液晶层之间。在一些实施例中，所述显示结构层还包括：彩色滤光矩阵，所述彩色滤光矩阵设置在所述调光结构远离所述反射矩阵的一侧，所述彩色滤光矩阵配置为对从所述预设位置射出的光线进行滤光和/或对经由所述反射矩阵的表面反射出的光线进行滤光。在一些实施例中，所述第二电极层和所述吸光结构层之间设置有防护层，且所述防护层与所述吸光结构层接触，所述防护层配置为在通过构图工艺形成所述吸光结构层的图形的工艺过程中防止在非图形区域出现材料残留。在一些实施例中，所述吸光结构层的材料包括碳；所述防护层的材料包括氧化硅。在一些实施例中，在所述导光结构层远离所述调光结构的一侧设置有散射层。在一些实施例中，所述散射层远离所述导光结构层的一侧设置有保护层。第二方面，本公开实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：形成导光结构层，所述导光结构层具有出光侧，所述导光结构配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出；形成显示结构层，所述显示结构层设置在所述导光结构层的出光侧，包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵，所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域；形成吸光结构层，所述吸光结构层位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧，所述吸光结构层配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线，且使得经由所述反射矩阵的反射面反射出的光线通过。在一些实施例中，所述显示结构层具有显示区，所述显示区包括多个亚像素区；所述导光结构层包括位于所述预设位置且与所述亚像素区一一对应的多个取光口；所述黑矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个遮光单元；所述反射矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个反光单元；吸光结构层包括与所述亚像素区一一对应的多个吸光单元；所述取光口、所述遮光单元、所述反光单元和所述吸光单元均位于对应的所述亚像素区内。在一些实施例中，所述形成显示结构层的步骤包括：在衬底基板的一侧形成遮光材料薄膜；对所述遮光材料薄膜进行图案化处理，以在每个亚像素区域内形成第一遮光图形和第二遮光图形，所述第二遮光图形位于所述第一遮光图形远离所述衬底基板的一侧，所述第二遮光图形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第一倾斜面，所述第一倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交，位于同一亚像素区内的第一遮光图形和第二遮光图形构成所述遮光单元；在所述第一遮光图形远离所述衬底基板的一侧形成所述反光单元。在一些实施例中，所述形成显示结构层的步骤包括：在衬底基板的一侧形成遮光材料薄膜；对所述遮光材料薄膜进行图案化处理，以在每个亚像素区域内形成第一遮光图形、第二遮光图形以及本体，所述第二遮光图形和所述本体均位于所述第一遮光图形远离所述衬底基板的一侧，所述第二遮光图形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第一倾斜面，所述本体形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第二倾斜面，所述第一倾斜面所处平面和所述第二倾斜面所处平面均与所述第一遮光图形所处平面相交，位于同一亚像素区内的第一遮光图形和第二遮光图形构成所述遮光单元；在所述第二倾斜面上形成反射层，位于同一亚像素区内的所述本体和所述反射层构成所述反光单元本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其中，包括：/n导光结构层，具有出光侧，配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出；/n显示结构层，设置在所述导光结构层的出光侧，包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵，所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域；/n吸光结构层，位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧，配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线，且使得经由所述反射矩阵的表面反射出的光线通过。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其中，包括：
导光结构层，具有出光侧，配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出；
显示结构层，设置在所述导光结构层的出光侧，包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵，所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域；
吸光结构层，位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧，配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线，且使得经由所述反射矩阵的表面反射出的光线通过。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述显示结构层具有显示区，所述显示区包括多个亚像素区；
所述导光结构层包括位于所述预设位置且与所述亚像素区一一对应的多个取光口；
所述黑矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个遮光单元；
所述反射矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个反光单元；
吸光结构层包括与所述亚像素区一一对应的多个吸光单元；
所述取光口、所述遮光单元、所述反光单元和所述吸光单元均位于对应的所述亚像素区内。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述遮光单元包括：第一遮光图形和第二遮光图形；
所述第二遮光图形位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧，所述第二遮光图形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第一倾斜面，所述第一倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交，且所述第一倾斜面朝向位于同一亚像素区内的所述取光口。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其中，在每个所述亚像素区内，相对于所述第二遮光图形，所述反光单元更远离所述取光口；
所述第二遮光图形在所述第一遮光图形所处平面上的正投影与反光单元在所述第一遮光图形所处平面上的正投影相接触。


5.根据权利要求3所述的显示面板，其中，在每个所述亚像素区内，所述反光单元位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧；
所述反光单元和所述第二遮光图形在所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧表面并排设置且相接触。

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【专利技术属性】
技术研发人员：岳阳，王倩，杨桐，董立文，舒适，于勇，姚琪，黄海涛，李翔，徐传祥，谭纪风，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11