发光机构、背光模块及其显示设备制造技术

本发明专利技术提供一种发光机构、背光模块及其显示设备。该发光机构，包括发光二极管、设置于该发光二极管上的导光板，及设置于该导光板上的调光单元。该导光板具有上表面及下表面，该下表面具有凹槽，该导光板以该凹槽覆盖于该发光二极管上，且该发光二极管不与该导光板接触。该调光单元设置于该导光板的上表面，且对应位于该发光二极管的正上方，其中，该调光单元包括一片遮光组件，该遮光组件具有至少一个贯穿孔，以使下方的发光二极管的光线能由该贯穿孔向上出光。

【技术实现步骤摘要】
发光机构、背光模块及其显示设备
本专利技术涉及一种光学设备，特别是涉及一种发光机构、背光模块及其显示设备。
技术介绍
传统的液晶显示器的背光模块配置于液晶面板背面，以提供液晶面板所需的显示光源。背光模块依光源位置可分为“侧光式”及“直下式”设计，其中“直下式”设计的背光模块渐渐地采用多个发光二极管作为光源，以取代传统的白热灯管或荧光灯管。当发光二极管作为光源时，通常是在上方预留一段展光距离后设置扩散板或导光板，再设置于液晶面板的下方，以提供液晶面板均匀的出光源。但实作上，发光二极管的光线的强度在正视角方向(也就是发光二极管发光面的法线方向)上会最强，所以在发光二极管直接贴合导光板位置的正投影区域，仍然会形成一个亮点，造成面光源表面亮度不均匀。
技术实现思路
因此，本专利技术目的是提供一种能提升匀度的发光机构。本专利技术的发光机构包括发光二极管、设置于该发光二极管上的导光板，及设置于该导光板上的调光单元。该导光板具有上表面及下表面，该下表面具有凹槽，该导光板以该凹槽覆盖于该发光二极管上，且该发光二极管不与该导光板接触。该调光单元设置于该导光板的上表面，且对应位于该发光二极管的正上方，其中，该调光单元包括一片遮光组件，该遮光组件具有至少一个贯穿孔，以使下方的发光二极管的光线能由该贯穿孔向上出光。本专利技术的另一技术手段，是在于该遮光组件具有位于该发光二极管正上方的中心，及复数间隔排列的贯穿孔，其中，所述贯穿孔围绕于该中心呈环状排列。本专利技术的又一技术手段，是在于该遮光组件具有位于该发光二极管正上方的中心，其中，所述贯穿孔位于该中心位置。本专利技术的再一技术手段，是在于该调光单元还包括设置于该遮光组件上方且覆盖该贯穿孔的透光组件，且该透光组件的光线穿透效率大于该遮光组件的光线穿透效率。本专利技术的另一技术手段，是在于该导光板的上表面及下表面形成有微结构。本专利技术的又一技术手段，是在于所述微结构以该发光二极管为中心呈同心圆排列，且所述微结构于邻近该发光二极管的分布较疏，而远离该发光二极管的分布较密。本专利技术的另一目的是提供一种包括上述发光机构的背光模块。该背光模块包括复数发光二极管、复数彼此不接触的导光板、设置于所述导光板的上表面的上方的扩散板，及复数分别设置于所述导光板与该扩散板之间的调光单元。其中，每一个导光板具有上表面及下表面，该下表面具有凹槽，所述导光板以该凹槽覆盖于相对应的发光二极管上，且该发光二极管不与该导光板接触。所述调光单元分别对应位于所述发光二极管的正上方，其中，每一个调光单元包括一片遮光组件，该遮光组件具有至少一个贯穿孔，以使下方的发光二极管的光线能由该贯穿孔向上出光。本专利技术的再一技术手段，是在于该背光模块还包括电路板，及设置于该电路板上的反射片，该反射片具有复数间隔的贯穿槽，所述发光二极管经由所述贯穿槽而呈矩阵式排列于该电路板上，所述导光板呈矩阵式排列于该反射片上。本专利技术的另一技术手段，是在于该遮光组件具有位于该发光二极管正上方的中心，及复数间隔排列的贯穿孔，其中，所述贯穿孔围绕于该中心呈环状排列。本专利技术的又一技术手段，是在于该遮光组件具有位于该发光二极管正上方的中心，其中，所述贯穿孔位于该中心位置。本专利技术的再一技术手段，是在于每一个调光单元还包括设置于该遮光组件上方且覆盖该贯穿孔的透光组件，且该透光组件的光线穿透效率大于该遮光组件的光线穿透效率。本专利技术的另一技术手段，是在于每一个导光板的上表面及下表面皆形成有微结构。本专利技术的又一技术手段，是在于所述微结构以该发光二极管为中心呈同心圆排列，且所述微结构于邻近该发光二极管的分布较疏，而远离该发光二极管的分布较密。本专利技术的另一目的是提供一种显示设备，包括如前述背光模块，及设置于该背光模块上的显示面板。本专利技术的有益功效在于，借由上述结构设计，可以有效改善面光源亮度不均匀的问题。附图说明图1是侧视示意图，说明本专利技术背光模块的较佳实施例；图2是立体图，辅助说明图1，为了便于说明，于图中省略扩散板未绘出；图3至图6皆是示意图，说明该较佳实施例中，调光单元的遮光组件的各种态样；及图7是侧视示意图，说明本专利技术显示设备的较佳实施例。具体实施方式有关本专利技术的相关申请专利特色与
技术实现思路
，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。在进行详细说明前应注意的是，类似的组件以相同的编号来作表示。参阅图1及图2，为本专利技术背光模块的较佳实施例，包括电路板2、设置于该电路板2上的反射片3、复数呈矩阵式排列的发光二极管4、复数呈矩阵式排列且彼此不接触的导光板5、设置于所述导光板5上方的扩散板6，及复数分别设置于所述导光板5与该扩散板6之间的调光单元7。该反射片3具有复数间隔的贯穿槽31，所述发光二极管4经由所述贯穿槽31而呈矩阵式排列于该电路板2上，所述导光板5呈矩阵式排列于该反射片3上。在其他实施例中，所述发光二极管4也可以不采用矩阵式排列，而是以灯条方式条状排列，所述导光板5也可以因应而同样以条状排列。其中，每一个导光板5具有上表面51及下表面52，该下表面52具有凹槽521，所述导光板5以该凹槽521覆盖于相对应的发光二极管4上，且该发光二极管4不与该导光板5接触。每一个导光板5的上表面51及下表面52皆形成有微结构53，且所述微结构53以该发光二极管4为中心C呈同心圆排列，且所述微结构53于邻近该发光二极管4的分布较疏，而远离该发光二极管4的分布较密。要说明的是，位于该下表面52的微结构53用以破坏全反射，位于该上表面51的微结构53用以控制出光效果，两者互相配合能使出光效果更为均匀。另外，所述微结构53于邻近该发光二极管4的分布较疏，而远离该发光二极管4的分布较密，是因为在邻近该发光二极管4的位置光线较强，而远离该发光二极管4的位置光线相对较弱，前述设计将有助调整出光强度，进而达成整面出光强度均匀的目的。参阅图1，所述调光单元7分别对应位于所述发光二极管4的正上方，其中，每一个调光单元7包括一片遮光组件71，及设置于该遮光组件71上方的透光组件72，且该透光组件72的光线穿透效率大于该遮光组件71的光线穿透效率。该遮光组件71具有至少一个贯穿孔711，以使下方的发光二极管4的光线能由该贯穿孔711向上发散，再穿过该透光组件72进行出光。其中，该遮光组件71可以如图3所示，具有位于该发光二极管4正上方的中心C，而所述贯穿孔711位于该中心C。该遮光组件71也可以如图4至图6所示，具有位于该发光二极管4正上方的中心C，及复数间隔排列的贯穿孔711，而所述贯穿孔711围绕于该中心C呈环状排列。通过改变所述贯穿孔711的孔径大小、数量，及排列方式，能进行光线的调节。参阅图7，于该背光模块上设置显示面板8，即成为显示设备。由于本专利技术为直下式背光模块的型态，而在整体结构薄型化的趋势下，该显示面板与发光二极管4之间的距离会缩小，因此在发光二极管4的正上方会有很高的能量密度，容本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发光机构，其特征在于包括：/n发光二极管；/n导光板，具有上表面及下表面，所述下表面具有凹槽，所述导光板是以所述凹槽覆盖于所述发光二极管上，且所述发光二极管不与所述导光板接触；及/n调光单元，设置于所述导光板的上表面，且对应位于所述发光二极管的正上方，其中，所述调光单元包括一片遮光组件，所述遮光组件具有至少一个贯穿孔，以使下方的发光二极管的光线能由所述贯穿孔向上出光。/n

【技术特征摘要】
1.一种发光机构，其特征在于包括：
发光二极管；
导光板，具有上表面及下表面，所述下表面具有凹槽，所述导光板是以所述凹槽覆盖于所述发光二极管上，且所述发光二极管不与所述导光板接触；及
调光单元，设置于所述导光板的上表面，且对应位于所述发光二极管的正上方，其中，所述调光单元包括一片遮光组件，所述遮光组件具有至少一个贯穿孔，以使下方的发光二极管的光线能由所述贯穿孔向上出光。


2.根据权利要求1所述的发光机构，其特征在于，所述遮光组件具有位于所述发光二极管正上方的中心，及复数间隔排列的贯穿孔，其中，所述贯穿孔围绕于所述中心呈环状排列。


3.根据权利要求1所述的发光机构，其特征在于，所述遮光组件具有位于所述发光二极管正上方的中心，其中，所述贯穿孔位于所述中心位置。


4.根据权利要求1所述的发光机构，其特征在于，所述调光单元还包括设置于所述遮光组件上方且覆盖所述贯穿孔的透光组件，且所述透光组件的光线穿透效率大于所述遮光组件的光线穿透效率。


5.根据权利要求1所述的发光机构，其特征在于，所述导光板的上表面及下表面形成有微结构。


6.根据权利要求5所述的发光机构，其特征在于，所述微结构以所述发光二极管为中心呈同心圆排列，且所述微结构于邻近所述发光二极管的分布较疏，而远离所述发光二极管的分布较密。


7.一种背光模块，其特征在于包括：
复数发光二极管；
复数导光板，彼此不接触，其中，每一个导光板具有上表面及下表面，所述下表面具有凹槽，所述导光板以所述凹槽覆盖于相对应的发光二极管上，且所述发光二极管不与所述导光板接触；

【专利技术属性】
技术研发人员：陈蔚轩，戴忠勇，
申请(专利权)人：瑞仪广州光电子器件有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44