【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法
本申请涉及显示
，尤其涉及显示面板及其制备方法。
技术介绍
随着信息传输技术与电子产品的发展，有机电致发光二极管(OLED)显示器得到越来越广泛的应用，因为其优点突出，包括亮度高，响应快，能耗低，成本低等。目前全面屏为一大发展趋势，为实现更高的屏占比，目前的方案有刘海屏、水滴屏、挖孔屏、升降式摄像头乃至屏下摄像头；其中挖孔屏以其开孔小，摄像头与屏幕一体性好的优势，使得屏幕看起来更为完整，视觉冲击感更强，是一种广泛应用的全面屏方案。但是传统的屏幕挖孔方式采用一种切割的方法，在切割工段过程中，容易会产生裂纹，使得水汽和氧气则会透过裂纹渗透到器件内部，对发光材料造成侵蚀，使显示屏寿命下降。
技术实现思路
本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，通过采用蚀刻的方式除去功能区内的多层级，由于该蚀刻方式相较于传统的切割工艺更加温和，不易对无机材料层产生裂纹，因此有效的防止了水氧对面板内部元器件的损害，从而提高了显示面板的良品率，节约成本。第一方面，本申请实施例提供一种显示面...
【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括功能区，所述方法包括：/n在衬底上制备阵列功能层；/n在所述阵列功能层上制备封装层；/n对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，形成一凹槽。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括功能区，所述方法包括：
在衬底上制备阵列功能层；
在所述阵列功能层上制备封装层；
对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，形成一凹槽。
2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，包括：
对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻。
3.如权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻，包括：
通过掩膜版覆盖所述封装层，其中，所述掩膜版对应所述功能区的位置镂空。
4.如权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻，包括：
通过氟化物气体对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻。
5.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵恒，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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