【技术实现步骤摘要】
一种用于表面镀膜的平面阴极
本技术涉及一种用于表面镀膜的平面阴极。
技术介绍
真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，尤其对磁场的均匀性要求要求更高。目前现有的阴极平台往往中部的磁场强度远大于两端的磁场强度，这样会造成镀膜不均以及靶材使用不均的情况，往往会浪费大量的靶材。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决以上现有技术的不足，提出了一种用于表面镀膜的平面阴极。一种用于表面镀膜的平面阴极，包括底板；所述底板上表面的中部设有呈长条形的主磁体，所述主磁体的两侧均设有辅磁体，所述的辅磁体与底板的上表面相连，辅磁体的外侧均连有导磁板组，所述的导磁板组包括两块相对设置的导磁板，所述的导磁板紧贴在辅磁体的外侧壁上，导磁板的高度沿辅磁体的端部向中心处逐渐减小。优选...
【技术保护点】
1.一种用于表面镀膜的平面阴极，其特征在于，包括底板；所述底板上表面的中部设有呈长条形的主磁体，所述主磁体的两侧均设有辅磁体，所述的辅磁体与底板的上表面相连，辅磁体的外侧均连有导磁板组，所述的导磁板组包括两块相对设置的导磁板，所述的导磁板紧贴在辅磁体的外侧壁上，导磁板的高度沿辅磁体的端部向中心处逐渐减小。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于表面镀膜的平面阴极，其特征在于，包括底板；所述底板上表面的中部设有呈长条形的主磁体，所述主磁体的两侧均设有辅磁体，所述的辅磁体与底板的上表面相连，辅磁体的外侧均连有导磁板组，所述的导磁板组包括两块相对设置的导磁板，所述的导磁板紧贴在辅磁体的外侧壁上，导磁板的高度沿辅磁体的端部向中心处逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的一种用于表面镀膜的平面阴极，其特征在于，所述的主磁体与辅磁体均由若干个长条形磁铁首尾相连组成。
3.根据权利要求1所述的一种用于表面镀膜的平面阴极，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：匡国庆，
申请(专利权)人：镇江市德利克真空设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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