衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。其技术问题在于，提高每个衬底的处理均匀性。为此，所提供的技术具有：处理执行部，其基于程序处理衬底；第1控制部，其对程序进行处理；和第2控制部，其基于从第1控制部接收到的数据控制处理执行部，第1控制部进行设于其他衬底处理装置的第1控制部的运转数据的判定，当判定出在其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，能够执行设于其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质
本专利技术涉及衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。
技术介绍
作为半导体器件的制造工序中使用的衬底处理装置的一个方式，有例如具备具有反应室的模块的装置。在这样的衬底处理装置中，将装置运转信息等显示到由显示器等构成的输入输出装置上，从而装置管理者能够进行确认。(例如，参照专利文献1)现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2017-103356号公报
技术实现思路
本专利技术提供对衬底处理装置实现高效管理的技术。根据一个方式，提供以如下方式构成的技术，具有：处理执行部，其基于程序处理衬底；第1控制部，其对程序进行处理；和第2控制部，其基于从第1控制部接收到的数据控制处理执行部，第1控制部进行设于其他衬底处理装置的第1控制部的运转数据的判定，在判定为设于其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，能够执行设于其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制。专利技术效果根据本专利技术的技术，能够对衬底处理装置进行高效管理。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，具有：/n处理执行部，其基于程序处理衬底；/n第1控制部，其处理所述程序；和/n第2控制部，其基于从所述第1控制部接收到的数据，控制所述处理执行部，/n所述第1控制部进行设于其他衬底处理装置的第1控制部的运转数据的判定，/n在判定为所述其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，能够执行设于所述其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制。/n

【技术特征摘要】
20181105 JP 2018-2081381.一种衬底处理装置，具有：
处理执行部，其基于程序处理衬底；
第1控制部，其处理所述程序；和
第2控制部，其基于从所述第1控制部接收到的数据，控制所述处理执行部，
所述第1控制部进行设于其他衬底处理装置的第1控制部的运转数据的判定，
在判定为所述其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，能够执行设于所述其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制。


2.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部具有输入输出装置，
所述第1控制部构成为，在判定为设于所述其他衬底处理装置的第1控制部中发生了不良情况时，向所述输入输出装置报知所述其他衬底处理装置的控制请求。


3.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部具有存储部，
所述第1控制部构成为，将所述其他衬底处理装置的第1控制部所具有的装置数据定期地记录到所述存储部中。


4.如权利要求2所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部具有存储部，
所述第1控制部构成为，将所述其他衬底处理装置的第1控制部所具有的装置数据定期地记录到所述存储部中。


5.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部构成为，在设于所述其他衬底处理装置的第1控制部的替代控制的执行过程中，接收与所述其他衬底处理装置相关的最新信息数据。


6.如权利要求5所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部构成为，在设于所述其他衬底处理装置的第1控制部回归至正常状态时，向设于所述其他衬底处理装置的第1控制部发送所述最新信息数据。


7.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，
在所述替代控制中，所述第1控制部构成为，进行设于所述其他衬底处理装置的第2控制部的控制。


8.如权利要求2所述的衬底处理装置，其中，
在所述替代控制中，所述第1控制部构成为，进行设于所述其他衬底处理装置的第2控制部的控制。


9.如权利要求3所述的衬底处理装置，其中，
在所述替代控制中，所述第1控制部构成为，进行设于所述其他衬底处理装置的第2控制部的控制。


10.如权利要求5所述的衬底处理装置，其中，
在所述替代控制中，所述第1控制部构成为，进行设于所述其他衬底处理装置的第2控制部的控制。


11.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，
所述第1控制部构成为，在无法进行所述其他衬底处理装置的所述第1控制部的替代控制时，进一步向不同的衬底...

【专利技术属性】
技术研发人员：水口靖裕，松井俊，
申请(专利权)人：株式会社国际电气，
类型：发明
国别省市：日本;JP