一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统技术方案

本发明专利技术是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其结构包括摆动轴和安装在摆动轴顶端的刷臂，刷臂传动连接刷洗本体，刷洗本体下方为真空吸盘，真空吸盘底面连接旋转马达活动端，真空吸盘顶面上放置晶元，控制器分别与刷臂、刷洗本体及旋转马达信号连接。本发明专利技术的优点：结构合计合理，工作时，电磁线圈通过控制器得电产生磁力，称重模块获取压力，并反馈给控制器，控制器通过预设算法控制电磁线圈磁体电流强度，使刷头得到一个设定的压力。实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制，提高了生产质量，改善了电磁式晶元刷洗机的使用效果。

A brush pressure control system of electromagnetic crystal element brush

【技术实现步骤摘要】
一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统
本专利技术涉及的是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统。
技术介绍
在半导体晶元生产过程中，无法避免会有生产环境中的小灰尘或是工艺反应物掉落在晶元上，如果不及时清除，会使晶元良率降低，影响产品质量稳定性。现有技术中一般使用的清除方法是通过低发尘的发泡刷子在晶元表面刷洗去掉灰尘。这种清除方法中，刷头压力对刷洗效果的影响尤为重要，压力过小会导致清除不干净，压力过大则会使晶元表面产生刮伤。现有技术无法有效对其压力进行有效稳定控制，影响生产使用效果。
技术实现思路
本专利技术提出的是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其目的旨在克服现有技术存在的上述缺陷，实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制，提高生产质量。本专利技术的技术解决方案：一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其结构包括摆动轴和安装在摆动轴顶端的刷臂，刷臂传动连接刷洗本体，刷洗本体下方为真空吸盘，真空吸盘底面连接旋转马达活动端，真空吸盘顶面上放置晶元，控制器分别与刷臂、刷洗本体及旋转马达信号连接。...

【技术保护点】
1.一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其特征包括摆动轴(1)和安装在摆动轴(1)顶端的刷臂(5)，刷臂(5)传动连接刷洗本体(8)，刷洗本体(8)下方为真空吸盘(16)，真空吸盘(16)底面连接旋转马达(17)活动端，真空吸盘(16)顶面上放置晶元(15)，控制器(11)分别与刷臂(5)、刷洗本体(8)及旋转马达(17)信号连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其特征包括摆动轴(1)和安装在摆动轴(1)顶端的刷臂(5)，刷臂(5)传动连接刷洗本体(8)，刷洗本体(8)下方为真空吸盘(16)，真空吸盘(16)底面连接旋转马达(17)活动端，真空吸盘(16)顶面上放置晶元(15)，控制器(11)分别与刷臂(5)、刷洗本体(8)及旋转马达(17)信号连接。


2.如权利要求1所述的一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其特征是所述的刷臂(5)包括安装在刷臂本体上的称重模块(2)、马达(3)、同步带(4)和同步轮(6)，刷洗本体(8)包括旋转轴(7)、电磁线圈(9)、永磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏俊东，莫科伟，谭金辉，
申请(专利权)人：吉姆西半导体科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32