阵列基板制造技术

本发明专利技术提供一种阵列基板，该阵列基板在弯曲区内包括：衬底；无机层，形成于衬底上，无机层内设置有挖空区域，挖空区域内无填充或为有机物填充；金属层，形成于无机层上，通过挖空区域包围的过孔，与无机层下侧的膜层相连接。通过在无机层内设置挖空区域，挖空区域内无填充或有机物填充，在柔性显示面板弯曲时，挖空区域为无机层内的应力释放提供了良好通道，避免了无机层由于应力无法及时释放，而断裂或产生裂痕，进而导致整个面板的结构受损的问题，提高了柔性显示面板的弯曲性能。

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【技术实现步骤摘要】
阵列基板
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板。
技术介绍
柔性显示面板由于其具有的柔韧性、可弯折、易穿戴等特性，已经成为新一代显示技术。然而，目前柔性显示面板的技术中，耐弯折性能较差的无机膜层较多，想要实现动态折叠，无机膜层中的应力释放较为困难，在弯折的过程中容易断裂或产生裂缝，裂缝易沿着无机膜层延伸，导致整个面板的结构受损，带来显示的不良。因此，现有柔性显示面板存在弯折可靠性差的问题，需要解决。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板，以缓解现有柔性显示面板存在弯折可靠性差的问题。为解决以上问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种阵列基板，所述阵列基板在弯曲区内包括：衬底；无机层，形成于所述衬底上，所述无机层内设置有挖空区域，所述挖空区域内无填充或为有机物填充；金属层，形成于所述无机层上，通过所述挖空区域包围的过孔，与所述无机层下侧的膜层连接。在本专利技术提供的阵列基板中，所述无机层仅包括一层。在本专利技术提供的阵列基板中，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板在弯曲区内包括：/n衬底；/n无机层，形成于所述衬底上，所述无机层内设置有挖空区域，所述挖空区域内无填充或为有机物填充；/n金属层，形成于所述无机层上，通过所述挖空区域包围的过孔，与所述无机层下侧的膜层相连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板在弯曲区内包括：
衬底；
无机层，形成于所述衬底上，所述无机层内设置有挖空区域，所述挖空区域内无填充或为有机物填充；
金属层，形成于所述无机层上，通过所述挖空区域包围的过孔，与所述无机层下侧的膜层相连接。


2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层仅包括一层。


3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层为第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层、层间绝缘层中的任意一层，所述金属层为源漏极层。


4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层为钝化层，所述金属层为像素电极层。


5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层包括至少两层。


6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层包括第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层、层间绝缘层中的任意两层，所述金属层为源漏极层。


7.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述无机层包括第一无机层和第二无机层，所述金属层包括第一金属层和第二金属层；所述第一金属层、所述第二无机层和所述第二金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴绍静，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42