【技术实现步骤摘要】
一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置
本技术涉及光伏电池制作
,尤其涉及一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置。
技术介绍
太阳能电池作为绿色、环保的新能源受到全世界的广泛关注。全球光伏产业发展非常迅速,国内的光伏产业不断发展壮大。随着行业的不断发展,客户对电池片的外观要求也越来越高。湿法刻蚀是电池生产环节过程中一个关键步骤,湿法刻蚀过程控制不好,就会产生刻蚀边表面,影响电池片外观。目前行业里湿法刻蚀普遍使用Schmid与Rena两种设备,Schmid湿法刻蚀设备设计安装水膜装置,很好保护硅片表面外观,稳定性较高,但这种设备比较贵,而且耗酸量大,生产成本相对较高,很多厂家不愿意选择该种设备进行生产;Rena湿法刻蚀设备未设计安装水膜装置,设备相对便宜,而且耗酸量小,但由于缺失水膜装置,容易产生大量刻蚀边表面,严重影响电池片外观。厂家后续也开发设计出自己的水膜装置,但是价格比较贵,售价昂贵,不适用于中小企业。因此,亟需本领域技术员针对现有的RENA刻蚀设备研发一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术提供了一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,来解决现有技术中存在的问题,具体方案如下:一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,包括滚轮,硅片进口位置处设有水膜装置,所述水膜装置包括设置在所述滚轮上方的喷水管,以及与所述喷水管连通的进水管,以及所述喷水管上设置的多个喷水孔,所述喷水孔正对所述滚轮上方通过的硅片喷射。 >具体的,所述进水管上还连接有流量控制装置以及压力控制装置。具体的,所述喷水管还连接有动力旋转装置,所述动力旋转装置可以控制所述喷水管转动,以此来控制所述喷水孔喷射出来的水喷射到所述硅片上表面。具体的,还包括沿所述硅片的入料方向设置在所述喷水管后方的挤水辊。具体的,所述挤水辊的中部直径D2与两端直径D1的差值不小于所述硅片的厚度。具体的,所述挤水辊中部直径D2为30.92mm,所述挤水辊两端直径D1为32mm,所述挤水辊传动轴直径d为9mm,所述挤水辊的两端直径D1的长度L为25mm。具体的,所述喷水管与所述挤水辊之间的距离为20-40cm。具体的,所述硅片出口位置处还设有挡板,所述挡板距离通过的所述硅片上方的垂直距离距离D为0.8-1.2cm。具体的,所述喷水孔的孔径为1mm,孔间距为1-2mm。具体的,本装置适用于RENA刻蚀设备。本技术提供的光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置具有以下有益效果:在现有刻蚀设备的基础上进行改造,改造成本低,可以有效提高刻蚀过程的A级品率,为企业减少生产成本。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1本技术提供的水膜装置结构示意图。图2为压板工作状态示意图。图3为挤水辊结构示意图。图中:10、滚轮20、喷水管21、进水管22、喷水孔30、挤水辊40、硅片50、挡板。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。图1为本技术提供的水膜装置结构示意图,图2为压板工作状态示意图,图3为挤水辊结构示意图。参照图1-3所示,本技术一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,包括滚轮10,硅片进口位置(硅片的入料方向在图1和图2中参见箭头所示)处设有水膜装置,所述水膜装置包括设置在所述滚轮10上方的喷水管20,以及与所述喷水管20连通的进水管21,以及所述喷水管20上设置的多个喷水孔22,所述喷水孔22正对所述滚轮10上方通过的硅片40喷射。具体的,所述进水管21上还连接有流量控制装置(未图示)及压力控制装置(未图示),来控制喷水管20的喷水量和喷水压力,因其为现有技术的一部分,故未做图示意。具体的,所述喷水管20还连接有动力旋转装置,所述动力旋转装置可以控制所述喷水管20转动,以此来控制所述喷水孔22喷射出来的水的喷射角度,保证可以喷射到所述硅片40上表面。具体的,还包括沿所述硅片40的入料方向设置在所述喷水管20后方的挤水辊30,硅片通过挤水辊后,挤水辊30可以使硅片表面的水珠附着均匀。具体的,所述挤水辊30的中部直径D2与两端直径D1的差值不小于所述硅片40的厚度。具体的,所述挤水辊30中部直径D2为30.92mm,所述挤水辊30两端直径D1为32mm,所述挤水辊30传动轴直径d为9mm,所述挤水辊30的两端直径D1的长度L为25mm。具体的,所述喷水管20与所述挤水辊30之间的距离为20-40cm。具体的,所述硅片40出口位置处还设有挡板50,所述挡板50距离通过的所述硅片40上方的垂直距离距离D为0.8-1.2cm。具体的,所述喷水孔22的孔径为1mm,孔间距为1-2mm。具体的,本装置适用于RENA刻蚀设备。上面结合附图对本技术的实施例进行了描述,但是本技术并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本技术的启示下,在不脱离本技术宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,这些均属于本技术的保护之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,包括滚轮(10),其特征在于:硅片进口位置处设有水膜装置,所述水膜装置包括设置在所述滚轮(10)上方的喷水管(20),以及与所述喷水管(20)连通的进水管(21),以及所述喷水管(20)上设置的多个喷水孔(22),所述喷水孔(22)正对所述滚轮(10)上方通过的硅片(40)喷射。/n
【技术特征摘要】
1.一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,包括滚轮(10),其特征在于:硅片进口位置处设有水膜装置,所述水膜装置包括设置在所述滚轮(10)上方的喷水管(20),以及与所述喷水管(20)连通的进水管(21),以及所述喷水管(20)上设置的多个喷水孔(22),所述喷水孔(22)正对所述滚轮(10)上方通过的硅片(40)喷射。
2.根据权利要求1所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,其特征在于:所述进水管(21)上还连接有流量控制装置以及压力控制装置。
3.根据权利要求2所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,其特征在于:所述喷水管(20)还连接有动力旋转装置,所述动力旋转装置可以控制所述喷水管(20)转动,以此来控制所述喷水孔(22)喷射出来的水喷射到所述硅片(40)上表面。
4.根据权利要求3所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,其特征在于:还包括沿所述硅片(40)的入料方向设置在所述喷水管(20)后方的挤水辊(30)。
5.根据权利要求4所述的一种光伏太阳能电池湿法刻蚀简易水膜装置,其特征在于:所述挤水辊(3...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾德栋,鲍亚平,陈议文,崔红云,韩锦明,
申请(专利权)人:海南英利新能源有限公司,
类型:新型
国别省市:海南;46
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