多工位双面处理系统技术方案

本实用新型专利技术揭示了一种多工位双面处理系统，包括移载装置、处理装置，移载装置包括移载工位组及防尘罩，防尘罩环绕移载工位组设置，移载工位组至少包括沿第一方向依次排列的入料工位、第一等待工位、第二等待工位及出料工位，处理装置包括处理工位组，处理工位组包括沿第一方向依次排列的第一处理工位及第二处理工位，第一处理工位连接第一等待工位，第二处理工位连接第二等待工位。本实用新型专利技术通过设置防尘罩而使得移载工位组被限制在有限空间内，可有效控制移载工位组的周边环境，避免外界空气中的杂质影响工件的处理过程。

Multi station double side processing system

【技术实现步骤摘要】
多工位双面处理系统
本技术涉及加工设备领域，尤其涉及一种多工位双面处理系统。
技术介绍
目前，在很多领域都涉及工件的双面处理，例如，在PCB(PrintedCircuitBoard)生产工艺的曝光工序中，需要在PCB板的双面进行曝光处理，以形成具有双面印刷线路的电路板。现有技术中，为了实现PCB板的双面曝光，需要通过移载装置来实现PCB板的翻转、输送等，现有的移载装置为开放结构，PCB板的整个操作流程通常暴露在周边空气中，外界空气中的杂质会影响PCB板的处理过程。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种多工位双面处理系统，其可以提高工件处理质量。为实现上述技术目的之一，本技术一实施方式提供一种多工位双面处理系统，包括移载装置、处理装置，所述移载装置包括移载工位组及防尘罩，所述防尘罩环绕所述移载工位组设置，所述移载工位组至少包括沿第一方向依次排列的入料工位、第一等待工位、第二等待工位及出料工位，所述处理装置包括处理工位组，所述处理工位组包括沿第一方向依次排列的第一处理工位及第二处理工位，所述第一处理工位连接所述第一等待工位，所述第二处理工位连接所述第二等待工位。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述第一处理工位与所述第一等待工位之间设有第一传输部，所述第二处理工位与所述第二等待工位之间设有第二传输部，所述第一传输部及所述第二传输部的传送方向垂直于第一方向。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述防尘罩形成一半封闭容纳腔，所述防尘罩包括对应入料工位的进料口、对应出料工位的出料口及观察窗口，所述观察窗口位于所述移载工位组远离所述处理工位组的一侧。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述移载装置还包括连通所述容纳腔的风机过滤机组，所述防尘罩还包括出风口。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述风机过滤机组设置于所述防尘罩的顶部，所述出风口位于所述防尘罩的下方。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述处理装置还包括环绕所述处理工位组设置的罩体，所述防尘罩与所述罩体相连。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述移载装置还包括机械手组，所述机械手组位于所述防尘罩内。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述处理系统用于处理工件，所述工件包括相对设置的第一待处理面及第二待处理面，所述入料工位用于输入工件，所述第一等待工位用于放置第一待处理面朝上的工件，所述第二等待工位用于放置第二待处理面朝上的工件，所述出料工位用于输出工件，所述机械手组包括至少两个机械手，所述机械手组用于工件的翻转及工件在多个工位之间的移动，且任一机械手的最大位移量为两个相邻工位。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述处理系统为曝光系统、光学检测系统或喷印系统。作为本技术一实施方式的进一步改进，所述处理系统为曝光系统，所述处理装置还包括曝光机头，所述曝光机头在第一处理工位及第二处理工位之间移动。与现有技术相比，本技术的有益效果在于：本技术一实施方式通过设置防尘罩而使得移载工位组被限制在有限空间内，可有效控制移载工位组的周边环境，避免外界空气中的杂质影响工件的处理过程。附图说明图1是本技术一实施方式的移载装置立体图；图2是本技术一实施方式的移载装置俯视透视图；图3a-图3m是本技术第一具体实施例的步骤示意图；图4a-图4o是本技术第二具体实施例的步骤示意图；图5a-图5n是本技术第三具体实施例的步骤示意图；图6是本技术一实施方式的处理系统立体图；图7是本技术一实施方式的处理系统俯视透视图；图8是本技术第一示例的曝光系统的处理流程；图9是本技术第二示例的曝光系统的处理流程。具体实施方式以下将结合附图所示的具体实施方式对本技术进行详细描述。但这些实施方式并不限制本技术，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本技术的保护范围内。在本技术的各个图示中，为了便于图示，结构或部分的某些尺寸会相对于其它结构或部分夸大，因此，仅用于图示本技术的主题的基本结构。另外，本文使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向)，并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。结合图1及图2，为本技术一实施方式的多工位双面移载装置100的示意图。本实施方式的移载装置100用于处理工件S，工件S包括相对设置的第一待处理面Sa及第二待处理面Sb。这里，移载装置100用于实现工件S在多个工位之间的移动、翻转等操作，以实现工件S的双面处理。移载装置100包括移载工位组10及机械手组20。移载工位组10至少包括入料工位11、第一等待工位12、第二等待工位13及出料工位14。这里，入料工位11、第一等待工位12、第二等待工位13及出料工位14依次呈直线分布，当然，在其他实施方式中，入料工位11、第一等待工位12、第二等待工位13及出料工位14也可以呈其他排布方式，另外，也可为其他数量的工位，可根据实际情况而定。入料工位11用于输入工件S。这里，入料工位11可连接传输带、输送滚轮等设备而实现工件S的输入。第一等待工位12用于放置第一待处理面Sa朝上的工件S。第二等待工位13用于放置第二待处理面Sb朝上的工件S。这里，第一等待工位12和第二等待工位13用于放置待处理的工件S以及处理完成的工件S，且置于第一等待工位12的工件S的第一待处理面Sa朝上，而置于第二等待工位13的工件S的第二待处理面Sb朝上，如此，可以实现第一待处理面Sa及第二待处理面Sb的处理，即实现了工件S的双面处理。需要说明的是，第一等待工位12和第二等待工位13可以是相互独立且连续设置的两个工位，或者，第一等待工位12和第二等待工位13可以是相互独立但间隔设置的两个工位，即此时第一等待工位12和第二等待工位13之间还设有其他工位，又或者，第一等待工位12和第二等待工位13为同一个工位等等。出料工位14用于输出工件S。这里，出料工位14可连接传输带、输送滚轮等设备而实现工件S的输出。机械手组20包括至少两个机械手H，机械手组20用于工件S的翻转及工件S在多个工位之间的移动，且任一机械手H的最大位移量P为两个相邻工位。这里，“任一机械手H的最大位移量P为两个相邻工位”是指任一机本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多工位双面处理系统，其特征在于，包括移载装置、处理装置，所述移载装置包括移载工位组及防尘罩，所述防尘罩环绕所述移载工位组设置，所述移载工位组至少包括沿第一方向依次排列的入料工位、第一等待工位、第二等待工位及出料工位，所述处理装置包括处理工位组，所述处理工位组包括沿第一方向依次排列的第一处理工位及第二处理工位，所述第一处理工位连接所述第一等待工位，所述第二处理工位连接所述第二等待工位。/n

【技术特征摘要】
1.一种多工位双面处理系统，其特征在于，包括移载装置、处理装置，所述移载装置包括移载工位组及防尘罩，所述防尘罩环绕所述移载工位组设置，所述移载工位组至少包括沿第一方向依次排列的入料工位、第一等待工位、第二等待工位及出料工位，所述处理装置包括处理工位组，所述处理工位组包括沿第一方向依次排列的第一处理工位及第二处理工位，所述第一处理工位连接所述第一等待工位，所述第二处理工位连接所述第二等待工位。


2.根据权利要求1所述的多工位双面处理系统，其特征在于，所述第一处理工位与所述第一等待工位之间设有第一传输部，所述第二处理工位与所述第二等待工位之间设有第二传输部，所述第一传输部及所述第二传输部的传送方向垂直于第一方向。


3.根据权利要求1所述的多工位双面处理系统，其特征在于，所述防尘罩形成一半封闭容纳腔，所述防尘罩包括对应入料工位的进料口、对应出料工位的出料口及观察窗口，所述观察窗口位于所述移载工位组远离所述处理工位组的一侧。


4.根据权利要求3所述的多工位双面处理系统，其特征在于，所述移载装置还包括连通所述容纳腔的风机过滤机组，所述防尘罩还包括出风口。


5.根据权利要求4所述的多工位双面处理系统，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志国，江俊龙，
申请(专利权)人：苏州微影激光技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32