特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜技术方案

本发明专利技术涉及一种反射镜，特别是微光刻投射曝光系统的反射镜，其包括反射镜基板(12、32、52)。该反射镜具有：反射层堆叠体(21、41、61)，用于将照射光学有效表面(11、31、51)的工作波长的电磁辐射反射；以及至少一个压电层(16、36、56)，其布置在反射镜基板和反射层堆叠体之间，且可以通过第一电极布置和第二电极布置向该至少一个压电层施加产生局部可变形变的电场，该第一电极布置(20、40、60)位于压电层的面向反射层堆叠体的一侧，并且该第二电极布置(14、34、54)位于压电层的面向反射镜基板的一侧。根据一个方面，提供支撑层(98)，该支撑层(98)与没有支撑层的类似设计相比，伴随着施加电场来减少压电层(96)到反射镜基板(92)中的下沉，并且因此增加了压电层(96)的有效挠曲。

Especially for the mirror used in the projection exposure system of microlithography

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜本申请要求于2017年8月9日提交的德国专利申请DE102017213900.5的优先权。该德国申请的内容还通过引用并入本申请文本中。专利技术背景专利
本专利技术涉及反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜，及其制造方法。现有技术微光刻用于制造微结构部件，例如集成电路或LCD。微光刻过程在所谓的投射曝光设备中进行，该设备包括照明装置和投射镜头。在此，将通过照明装置照明的掩模(＝掩模母版)的像通过投射镜头投射到基板(例如硅晶片)上，该基板涂覆有感光层(光刻胶)且设置在投射镜头的像平面中，以便将掩模结构转印到基板的感光涂层上。在针对EUV范围(即，在例如约13nm或约7nm的波长处)设计的投射镜头中，由于缺乏可用的适当光透射的折射材料，因而使用反射镜作为成像过程的光学部件。在这种情况下，已知的是，EUV系统中的一个或多个反射镜被配置为具有由压电材料构成的致动器层的自适应反射镜，其中，通过将电压施加到关于压电层的两侧上布置的电极，在该压电层之上生成具有局部变化强度的电场。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反射镜，其中，所述反射镜具有光学有效表面(11、31)，包括：/n反射镜基板(92)；/n反射层堆叠体(101)，用于反射在所述光学有效表面上入射的具有操作波长的电磁辐射；/n至少一个压电层(96)，所述至少一个压电层布置在所述反射镜基板(92)和所述反射层堆叠体(101)之间，并且能够通过第一电极布置(99)和第二电极布置(94)向所述至少一个压电层施加产生局部可变形变的电场，所述第一电极布置(99)位于所述压电层(96)的面向所述反射层堆叠体(101)的一侧，并且所述第二电极布置(94)位于所述压电层(96)的面向所述反射镜基板(92)的一侧；以及/n支撑层(98)，与没有所述支撑...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170809 DE 102017213900.51.一种反射镜，其中，所述反射镜具有光学有效表面(11、31)，包括：
反射镜基板(92)；
反射层堆叠体(101)，用于反射在所述光学有效表面上入射的具有操作波长的电磁辐射；
至少一个压电层(96)，所述至少一个压电层布置在所述反射镜基板(92)和所述反射层堆叠体(101)之间，并且能够通过第一电极布置(99)和第二电极布置(94)向所述至少一个压电层施加产生局部可变形变的电场，所述第一电极布置(99)位于所述压电层(96)的面向所述反射层堆叠体(101)的一侧，并且所述第二电极布置(94)位于所述压电层(96)的面向所述反射镜基板(92)的一侧；以及
支撑层(98)，与没有所述支撑层的类似结构相比，伴随着施加电场，所述支撑层(98)减少所述压电层(96)到所述反射镜基板(92)中的下沉，并且因此增加了所述压电层(96)的有效挠曲。


2.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述支撑层(98)包括石英玻璃(SiO2)。


3.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，所述支撑层(98)的厚度为至少10μm，更特别地为至少15μm，且更特别地为至少30μm。


4.根据权利要求1至3中的任一项所述的反射镜，其特征在于，提供了多功能层系统(18、38、58)，所述多功能层系统在所述第一电极布置嵌入的情况下使得能够进行平滑表面处理，并且附加地，对于具有测试波长的电磁辐射，所述多功能层系统的透射率小于10-6，以便能够进行表面干涉测量。


5.一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面(11、31、51)，包括：
反射镜基板(12、32、52)；
反射层堆叠体(21、41、61)，用于反射在所述光有效表面(11、31、51)上入射的具有操作波长的电磁辐射；以及
至少一个压电层(16、36、56)，所述至少一个压电层布置在所述反射镜基板(12、32、52)和所述反射层堆叠体(21、41、61)之间，且能够通过第一电极布置(20、40、60)和第二电极布置(14、34、54)向所述至少一个压电层施加产生局部可变形变的电场，所述第一电极布置(20、40、60)位于所述压电层(16、36、56)的面向所述反射层堆叠体(21、41、61)的一侧，并且所述第二电极布置(14、34、54)位于所述压电层(16、36、56)的面向所述反射镜基板(12、32、52)的一侧；
其中，提供多功能层系统(18、38、58)，所述多功能层系统在所述第一电极布置嵌入的情况下能够进行平滑表面处理，并且附加地，对于具有测试波长的电磁辐射，所述多功能层系统的透射率小于10-6，以便能够进行表面干涉测量。


6.根据权利要求4或5所述的反射镜，其特征在于，对于具有所述测试波长的电磁辐射，所述多功能层系统(18、38、58)的透射率小于10-7，特别是小于10-8，更特别是小于10-9。


7.根据权利要求4至...

【专利技术属性】
技术研发人员：B威利范艾尔德，F比杰柯克，K希尔德，T格鲁纳，S舒尔特，S韦勒，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE