光取向用曝光装置制造方法及图纸

一种用于体现预倾角而进行倾斜曝光的光取向用曝光装置，其能够使用廉价的散射光源即体积光源，并且以紧凑的方式获得均匀的照度分布。通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理的光取向用曝光装置(1)，其具备：光源(2)，朝向被照射面(10S)射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出紫外线；及照射角度限制部件(4)，在从光学滤波器(3)射出的光中选择性地射出相对于扫描方向倾斜照射的光，在照射角度限制部件(4)中，使平板状的光方向限制板(40)相对于被照射面(10S)以一定角度倾斜并沿扫描方向按设定间隔平行排列多个。

Exposure device for optical orientation

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光取向用曝光装置
本专利技术涉及一种为了进行液晶的光取向而使用的曝光装置。
技术介绍
在推进液晶显示器(LCD)的高精细化的问题上，LCD的制造中不可或缺的液晶取向处理中的预倾角的稳定化成为重要的课题。所谓预倾角是沿液晶取向轴的液晶分子的长轴与取向面所成的角度，极大地影响LCD的显示特性。因此，为了实现LCD的高显示品质，必须稳定地体现预倾角。光取向处理在通过非接触处理来消除因取向膜上的灰尘造成的污染和对TFT基板造成的静电损伤，并且能够进行更均匀的取向处理这一点上，作为代替摩擦处理的处理方法而普及。作为通过该光取向处理来体现预倾角的曝光方法，已知有一种倾斜曝光。倾斜曝光在成为取向膜的被照射膜上，从膜的法线方向以规定的角度照射偏光紫外线，以往，用于进行倾斜曝光的曝光装置具备使用定向性高的光源并经由多个反射板来设定相对于被照射膜的照射角度的照射部(参考下述专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-175025号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题...

【技术保护点】
1.一种光取向用曝光装置，其通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理，该光取向用曝光装置的特征在于，具备：/n光源，朝向所述被照射面射出散射光；/n光学滤波器，在从所述光源射出的光中选择性地射出紫外线；及/n照射角度限制部件，在从所述光学滤波器射出的光中选择性地射出相对于所述扫描方向倾斜照射的光，/n在所述照射角度限制部件中，使平板状的光方向限制板相对于所述被照射面以一定角度倾斜并沿所述扫描方向按设定间隔平行排列多个。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170809 JP 2017-1544091.一种光取向用曝光装置，其通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理，该光取向用曝光装置的特征在于，具备：
光源，朝向所述被照射面射出散射光；
光学滤波器，在从所述光源射出的光中选择性地射出紫外线；及
照射角度限制部件，在从所述光学滤波器射出的光中选择性地射出相对于所述扫描方向倾斜照射的光，
在所述照射角度限制部件中，使平板状的光方向限制板相对于所述被照射面以一定角度倾斜并沿所述扫描方向按设定间隔平行排列多个。


2.根据权利要求1所述的光取向用曝光装置，其特征在于，
所述平板状的光方向限制板的表背两面形成有...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田祐治，池田聪，新井敏成，三宅敢，片山崇，平井明，
申请(专利权)人：株式会社V技术，夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP