阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示技术领域，提出一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。该阵列基板的制备方法包括提供一基板；在基板之上形成第一电极层；在第一电极层的背离基板的一面形成导体层；对导体层进行图案化处理形成导体图案；对第一电极层进行图案化处理形成第一电极。形成导体图案之前，第一电极层仍保持全面覆盖，排除因对第一电极层进行图案化处理产生的应力释放点固定造成的应力不均；在形成导体层之前，没有对第一电极层进行任何处理，避免带入异物，使第一电极层和导体层之间没有异物，因此消除异物对导体层的影响。

Array substrate and its preparation method, display panel and display device

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及阵列基板的制备方法、安装有该阵列基板的显示面板、安装有该显示面板的显示装置。
技术介绍
现有的阵列基板中，为了降低能耗，在公共电极往往采取搭配金属层来降低公共电极的电阻，以满足成品的低功耗要求。但是，目前的工艺流程生产的金属层容易发生鼓包，严重时还会发生金属层的膜层脱落，无法保证产品品质。因此，有必要研究一种新的阵列基板及阵列基板的制备方法、安装有该阵列基板的显示面板、安装有该显示面板的显示装置。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的容易鼓包的不足，提供一种不容易鼓包的阵列基板及阵列基板的制备方法、安装有该阵列基板的显示面板、安装有该显示面板的显示装置。本专利技术的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显然，或者可以通过本专利技术的实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：/n提供一基板；/n在所述基板之上形成第一电极层；/n在所述第一电极层的背离所述基板的一面形成导体层；/n对所述导体层进行图案化处理形成导体图案；/n对所述第一电极层进行图案化处理形成第一电极。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一基板；
在所述基板之上形成第一电极层；
在所述第一电极层的背离所述基板的一面形成导体层；
对所述导体层进行图案化处理形成导体图案；
对所述第一电极层进行图案化处理形成第一电极。


2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在对所述导体层进行图案化处理形成导体图案之后，所述制备方法还包括：
在所述导体图案的背离所述基板的一面形成第二电极层，对所述第二电极层进行图案化处理形成第二电极，所述导体图案在所述基板上的正投影位于所述第二电极在所述基板上的正投影内。


3.根据权利要求2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，对所述第一电极层进行图案化处理和对所述第二电极层进行图案化处理通过同一次光刻工艺完成。


4.根据权利要求2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极层和所述第二电极层的材质是氧化铟锡，所述导体层的材质是金属。


5.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，通过半透式掩膜板完成对所述导体层的图案化处理和对所述第一电极层的图案化处理。


6.根据权利要求5所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述导体层的背离所述基板的一面形成光刻胶；
在所述光刻胶之上覆盖所述半透式掩膜板，其中，所述半透式掩膜板的半透光区域对应所述第一电极层的第一区域，所述半透式掩膜板的遮挡区域对应所述第一电极层的第二区域；
对所述光刻胶进行曝光和显影以去除全透光区域的所述光刻胶；
对所述全透光区域的所述导体层进行刻蚀；
对所述光刻胶进行灰化处理以去除所述第一区域对应的光刻胶...

【专利技术属性】
技术研发人员：马涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11