【技术实现步骤摘要】
硅基粉末的杂质的洗涤装置以及方法
本专利技术涉及一种硅基粉末的杂质的洗涤装置以及方法，尤其涉及一种用于洗涤硅基粉末的表面所形成的污染物并去除污染物的硅基粉末的杂质的洗涤装置以及方法。
技术介绍
近来对使用于光通信领域、半导体产业等的石英玻璃制品的纯度执行着非常严格的管理。对此类高纯度的石英玻璃，正在使用如下的制造玻璃制品的材料的方法：粉碎天然石英而获得的沙状天然石英粉末(或者称为石英砂(Sand))作为原料使用，从而制备玻璃制品的材料；以及使用蒸汽块制备玻璃制品的材料的方法，所述蒸汽块通过使四氯化硅的在氢氧焰中的分解而产生的蒸汽贴附于基板并在基板上生长而获得。所述硅基粉末具有超过1000度的耐热性及耐化学性，从而在半导体业界中作为坩埚、洗涤水槽、治具、光纤维、光学材料的原料广泛地使用。其中随着半导体产品的高集成化的进行，对杂质的要求水准也在逐渐提高，从而硅基粉末的杂质管理标准也变得逐渐严格，因此，现状为，关于能够去除杂质的洗涤方法的研究正在进行中。据此，通常的技术人员目前使用氢氟酸洗涤法、热卤素(氯气...
【技术保护点】
1.一种硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，包括：/n第一洗涤器，在外壳内部设置有第一容器，向所述第一容器内部投入硅基粉末、氧气以及酸洗净液，并在所述第一容器的外表面设置有第一加热单元，从而加热所述第一容器，设置于所述外壳的搅拌器搅拌收纳在所述第一容器内部的溶液，从而对所述硅基粉末进行1次洗涤；/n第二洗涤器，在外壳内部设置有第二容器，在所述第二容器内部投入在所述第一洗涤器中洗涤过的所述硅基粉末，在所述第二容器的外表面设置有第二加热单元而对所述硅基粉末进行2次洗涤；/n空气净化器，通过对投入于所述第一洗涤器的氧气进行过滤而生成污染物被去除的氧气；以及/n洗净塔，接收从所述...
【技术特征摘要】
20180918 KR 10-2018-01114881.一种硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，包括：
第一洗涤器，在外壳内部设置有第一容器，向所述第一容器内部投入硅基粉末、氧气以及酸洗净液，并在所述第一容器的外表面设置有第一加热单元，从而加热所述第一容器，设置于所述外壳的搅拌器搅拌收纳在所述第一容器内部的溶液，从而对所述硅基粉末进行1次洗涤；
第二洗涤器，在外壳内部设置有第二容器，在所述第二容器内部投入在所述第一洗涤器中洗涤过的所述硅基粉末，在所述第二容器的外表面设置有第二加热单元而对所述硅基粉末进行2次洗涤；
空气净化器，通过对投入于所述第一洗涤器的氧气进行过滤而生成污染物被去除的氧气；以及
洗净塔，接收从所述第一洗涤器或者第二洗涤器产生的废气并处理废气中含有的氧化物。
2.如权利要求1所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，
所述第一加热单元包括陶瓷带式加热器。
3.如权利要求1所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，
所述第二加热单元包括超声波发生器。
4.如权利要求1所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，
所述搅拌器在所述第一洗涤器的壳体设置有马达壳体，所述搅拌器还包括：
马达，配备于所述马达壳体的内部并生成动力；
搅拌棒，从所述马达延伸而设置，并延伸至所述第一容器的内部，利用从所述马达接收的动力进行旋转；
搅拌翼，设置于所述搅拌棒的端部并搅拌收纳在所述第一容器的物质。
5.如权利要求4所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，
所述搅拌棒在内侧设置有折叠部，从而所述搅拌棒被配备成折叠式。
6.如权利要求1所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，还包括：
第一软管，回收积累在所述第一容器的废液，并由PFA材料构成；
第二软管，回收经1次洗涤的所述硅基粉末，并由PFA材料构成。
7.如权利要求1所述的硅基粉末的杂质的洗涤装置，其特征在于，
所述第一洗涤器还包括：测温部，与所述第一容器相邻而设置，测定第一容器的外部温度。
8.一种硅基粉末的杂质洗涤方法，其特征在于，包括如下步骤：
(a)向第一容器注...
【专利技术属性】
技术研发人员：金胤秀，朴锺乐，
申请(专利权)人：三S韩国株式会社，三S材料株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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