一种倒装LED芯片及其制作方法技术

技术编号:23402815 阅读:26 留言:0更新日期:2020-02-22 14:48
本发明专利技术公开了一种倒装LED芯片及其制作方法,所述芯片包括外延层、透明导电层、反射层、阻挡层、第一钝化层、钝化支撑层、连接电极和焊接电极,所述钝化支撑层结合在连接电极和第一钝化层上,所述焊接电极结合在钝化支撑层上并与连接电极导电连接;所述钝化支撑层由SiO

A flip LED chip and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
一种倒装LED芯片及其制作方法
本专利技术涉及发光二极管
,尤其涉及一种倒装LED芯片及其制作方法。
技术介绍
倒装LED芯片是近几年新型态的LED,主要功能在于无封装制程,大幅节省生产效能,可应用在大电流上,更可以实现超微小mini型态的LED。参见图1,传统的倒装LED芯片包括依次设于衬底10上的AlN层11、缓冲层12、外延层20、透明导电层30、反射层40、阻挡层50、钝化层60、第一电极71和第二电极72,传统倒装LED芯片的出光面为衬底一侧,现有的衬底一般为蓝宝石衬底,外延层材料为氮化镓材料,为了减少蓝宝石衬底和外延层之间的晶格失配,在形成外延层之前,需要在蓝宝石衬底上形成AlN层、缓冲层等结构,上述结构统称为大量体材料,这些大量体材料会吸收外延层发出的光,从而降低芯片的出光效率。此外,现有的LED背光显示器,由多颗倒装LED芯片拼接而成,由于倒装LED芯片的出光面集中在衬底一侧出射,应倒装LED芯片,背光显示器若要出光均匀,相邻LED芯片之间的距离要足够小,这就需要大量的倒装LED芯片来进行组装,成本较高。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种倒装LED芯片,其特征在于,包括:外延层、透明导电层、反射层、阻挡层、第一钝化层、钝化支撑层、连接电极和焊接电极,所述透明导电层结合在外延层的正面上,所述反射层结合在透明导电层上,所述阻挡层结合在反射层上,所述第一钝化层结合在阻挡层上,所述连接电极结合在第一钝化层上并与外延层导电连接,所述钝化支撑层结合在连接电极和第一钝化层上,所述焊接电极结合在钝化支撑层上并与连接电极导电连接;/n所述钝化支撑层由SiO

【技术特征摘要】
1.一种倒装LED芯片,其特征在于,包括:外延层、透明导电层、反射层、阻挡层、第一钝化层、钝化支撑层、连接电极和焊接电极,所述透明导电层结合在外延层的正面上,所述反射层结合在透明导电层上,所述阻挡层结合在反射层上,所述第一钝化层结合在阻挡层上,所述连接电极结合在第一钝化层上并与外延层导电连接,所述钝化支撑层结合在连接电极和第一钝化层上,所述焊接电极结合在钝化支撑层上并与连接电极导电连接;
所述钝化支撑层由SiO2、Al2O3和SiNx中的一种或几种制成,厚度为120~170μm,所述钝化支撑层用于支撑芯片并起绝缘的作用;
所述外延层发出的光经过反射层反射后,直接从外延层的背面出射。


2.如权利要求1所述的倒装LED芯片,其特征在于,所述外延层包括第一半导体层、有源层和第二半导体层,所述透明导电层设置在第二半导体层和反射层之间,有源层的出光从第一半导体层的背面出射;
所述第一半导体层的背面设有粗化结构,其中,粗化深度为0.8~1.2μm。


3.如权利要求2所述的倒装LED芯片,其特征在于,所述连接电极包括第一连接电极和第二连接电极,其中,第一连接电极贯穿第一钝化层、阻挡层、金属反射层和透明导电层,并与第一半导体层连接;所述第二连接电极贯穿第一钝化层和阻挡层,并与金属反射层连接。


4.如权利要求3所述的倒装LED芯片,其特征在于,所述第一钝化层由SiO2、Al2O3和SiNx中的一种或几种制成,厚度为6000~10000埃。


5.如权利要求1所述的倒装LED芯片,其特征在于,所述反射层由Ag或Al制成,厚度为1000~30...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔永进庄家铭
申请(专利权)人:佛山市国星半导体技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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