【技术实现步骤摘要】
一种显示面板蚀刻装置和显示面板蚀刻方法
本专利技术属于显示面板工艺设备
，涉及一种显示面板蚀刻装置，还涉及一种显示面板蚀刻方法。
技术介绍
阳极蚀刻作为AMOLED（Active-matrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体）制程中关键的一个环节，其一次通过率将会影响整体产品的良品率。蚀刻是将前制程所产生的光阻图案转印到光阻下的材质下形成光刻定义成的图形。蚀刻性能主要体现在：蚀刻均一性，蚀刻后膜层坡度角以及蚀刻后双边条宽损失。
技术实现思路
本专利技术的目的是要提供一种显示面板蚀刻装置，能够提高蚀刻均一性。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：本专利技术提供了一种显示面板蚀刻装置，它包括蚀刻单元，所述蚀刻单元包括：输送组件，所述显示面板设置于所述输送组件上，所述显示面板所在的平面与水平面呈锐角，所述输送组件的传输速度为可调节设置；喷淋组件，所述喷淋组件用于向所述显示面板上表面喷淋蚀刻液。...
【技术保护点】
1.一种显示面板蚀刻装置，它包括蚀刻单元（5），其特征在于，所述蚀刻单元（5）包括：/n输送组件（9），所述显示面板设置于所述输送组件（9）上，所述显示面板所在的平面与水平面呈锐角，所述输送组件（9）的传输速度为可调节设置；/n喷淋组件（10），所述喷淋组件（10）用于向所述显示面板上表面喷淋蚀刻液。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板蚀刻装置，它包括蚀刻单元（5），其特征在于，所述蚀刻单元（5）包括：
输送组件（9），所述显示面板设置于所述输送组件（9）上，所述显示面板所在的平面与水平面呈锐角，所述输送组件（9）的传输速度为可调节设置；
喷淋组件（10），所述喷淋组件（10）用于向所述显示面板上表面喷淋蚀刻液。
2.根据权利要求1所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于：所述锐角为10°以下。
3.根据权利要求1所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋组件（10）包括喷嘴（11）、储液槽以及泵机构，所述喷嘴（11）为圆形喷嘴，所述储液槽用于存放蚀刻液，所述泵机构连接在所述喷嘴（11）和所述储液槽之间。
4.根据权利要求1所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋组件（10）包括多个喷嘴（11），多个所述喷嘴（11）根据喷淋范围被划分为多个区域，单个所述区域的所述喷嘴（11）的喷洒参数被单独控制。
5.根据权利要求1所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于：它还包括设置在所述蚀刻单元（5）前序的传送单元（2），所述传送单元（2）...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋新，李晓波，施利君，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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