一种视轴稳定装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种视轴稳定装置，包括底板、支撑座、放大框以及转轴。系统工作时，根据外部目标的运动速度，给压电陶瓷两端加上相应的电压信号驱动其产生微小位移，经放大框放大后推动转轴转动，使转轴上方的反射镜达到与目标同步的目的。支撑座通过其上端开的沉孔与底板底面的螺孔来实现二者的固联。本发明专利技术提供一种利用压电陶瓷微小位移来实现视轴稳定的装置，其克服了现有的视轴稳定装置精度高的成本高、成本低的精度低，结构复杂，装配误差大的缺点。

A kind of stabilization device of visual axis

【技术实现步骤摘要】
一种视轴稳定装置
本专利技术涉及无人机技术、航空测绘、航空摄影等领域内广泛使用的视轴稳定装置。
技术介绍
现有的视轴稳定主要采用被动减振隔离和主动稳定补偿。被动减振隔离只能隔离高频低幅度振动，误差较大并且精度难以提高，多用于光学吊舱；主动稳定补偿能实现较高的精度控制，但成本较高，难以推广。另外传统航拍器视轴稳定装置一般采用力矩陀螺和阻尼减震相结合的稳定平台，这种装置价格低廉且使用方便，但不能进行全景快速扫描拍摄，并且精度不可控，具有一定的误差。而高精度的稳定系统，如捷联式稳定平台，多用于军事领域的导弹头，其成本较高，在民用上不适用。而在现有的视轴稳定技术中，专利技术专利《一种光轴稳定装置》(申请号为CN201710458371.8)可以达到视轴稳定的功能，但是结构复杂，零部件多，系统装配误差大。
技术实现思路
本专利技术针对
技术介绍
中存在的技术问题，提出了一种视轴稳定装置。技术方案：一种视轴稳定装置，它包括底板、支撑座、放大框、转轴，其中：支撑座设置支撑座预留沉孔，底板设置底板预留螺孔，螺栓穿过该支撑座预留沉孔、底板预留螺孔将支撑座固定在底板上；支撑座的两侧设置支撑座预留沉槽，所述放大框包括上部的放大框预留沉槽、中部的压电陶瓷放置腔、下部的转轴接触板，螺栓顺次穿过放大框预留沉槽、支撑座预留沉槽后由螺母限位，基于该结构放大框相对于支撑座固定且与底板不接触；放大框的中部的两侧为内凹的弹性壁，压电陶瓷放置腔底部设置支撑柱，压电陶瓷放置腔顶部设置放大框预留螺孔，固紧螺栓穿过放大框预留螺孔将压电陶瓷横向限位在压电陶瓷放置腔中，压电陶瓷的两端与内凹的弹性壁顶点相抵；转轴设置在底板上的底板预留大通孔中，放大框的转轴接触板与转轴相切，转轴的顶部设置转轴预留凹槽，反射镜放置在转轴预留凹槽上用于成像；压电陶瓷受电产生形变后，放大框的弹性壁随之形变，转轴接触板随之产生位移，并带动转轴旋转，反射镜随之旋转实现视轴稳定同步。优选的，所述放大框的上部、中部、下部一体成型，结构更紧凑，有效的避免了装配误差，提高了系统精度。优选的，所述底板的四角设置4个通孔，且均匀分布。优选的，支撑座预留沉孔和底板预留螺孔为两组匹配设置。优选的，所述放大框的中部的两侧为内凹的弹性壁，具体设计为两个对V型反向设置结构。优选的，转轴为阶梯转轴，包括底端半径小的转轴和顶部半径大的转轴，底端半径小的转轴通过轴承与底板预留大通孔实现紧配合。优选的，转轴与转轴接触板的接触面设置为棘轮结构，实现单向驱动防止逆转。本专利技术的有益效果1、本专利技术所述的视轴稳定装置，采用压电陶瓷堆叠执行器来实现摩擦传动，具有成本低、可控性好、精度较高等优点。2、本专利技术所述的视轴稳定装置，具有结构紧凑、加工精度高、组装部件少、生产成本低等优点；附图说明图1为本专利技术的结构示意图图2为本专利技术的正视图图3为本专利技术的俯视图图4为本专利技术的左视图图5为本专利技术的放大框结构示意图图中附图标记说明：1—底板预留通孔；2—底板；3—支撑座；4—支撑座预留沉槽；5—支撑座预留沉孔；6—转轴；7—转轴预留凹槽；8—放大框；9—放大框预留螺孔；10—放大框预留沉槽；11-底板预留螺孔；12—底板预留大通孔；13—压电陶瓷放置腔；14—转轴接触板；15—支撑柱；16—固紧螺栓；17—压电陶瓷。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步说明，但本专利技术的保护范围不限于此：结合图1－图5，一种视轴稳定装置，它包括底板2、支撑座3、放大框8、转轴6，其中：支撑座3设置支撑座预留沉孔5，底板2设置底板预留螺孔11，螺栓穿过该支撑座预留沉孔5、底板预留螺孔11将支撑座3固定在底板2上；支撑座3的两侧设置支撑座预留沉槽4，所述放大框8包括上部的放大框预留沉槽10、中部的压电陶瓷放置腔13、下部的转轴接触板14，螺栓顺次穿过放大框预留沉槽10、支撑座预留沉槽4后由螺母限位，基于该结构放大框8相对于支撑座3固定且与底板2不接触；放大框8的中部的两侧为内凹的弹性壁，压电陶瓷放置腔13底部设置支撑柱15，压电陶瓷放置腔13顶部设置放大框预留螺孔9，固紧螺栓16穿过放大框预留螺孔9将压电陶瓷17横向限位在压电陶瓷放置腔13中，压电陶瓷17的两端与内凹的弹性壁顶点相抵；转轴6设置在底板2上的底板预留大通孔12中，放大框8的转轴接触板14与转轴6相切，转轴6的顶部设置转轴预留凹槽7，反射镜放置在转轴预留凹槽7上用于成像；系统工作时，根据外部目标的运动速度，给压电陶瓷17两端加上相应的电压信号驱动其产生微小位移，放大框8的弹性壁随之形变，转轴接触板14随之产生放大位移，并带动转轴6旋转，使转轴上方的反射镜达到与目标同步的目的。优选的，所述放大框8的上部、中部、下部一体成型，结构更紧凑，有效的避免了装配误差，提高了系统精度。优选的，所述底板2的四角设置4个通孔，且均匀分布。优选的，支撑座预留沉孔5和底板预留螺孔11为两组匹配设置。优选的，所述放大框8的中部的两侧为内凹的弹性壁，具体设计为两个对V型反向设置结构。优选的，转轴6为阶梯转轴，包括底端半径小的转轴和顶部半径大的转轴，底端半径小的转轴通过轴承与底板预留大通孔12实现紧配合，保证转轴6的垂直度。优选的，转轴6与转轴接触板14的接触面设置为棘轮结构，实现单向驱动防止逆转。本文中所描述的具体实施例仅仅是对本专利技术精神做举例说明。本专利技术所属
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本专利技术的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种视轴稳定装置，其特征在于：它包括底板(2)、支撑座(3)、放大框(8)、转轴(6)，其中：/n支撑座(3)设置支撑座预留沉孔(5)，底板(2)设置底板预留螺孔(11)，螺栓穿过该支撑座预留沉孔(5)、底板预留螺孔(11)将支撑座(3)固定在底板(2)上；/n支撑座(3)的两侧设置支撑座预留沉槽(4)，所述放大框(8)包括上部的放大框预留沉槽(10)、中部的压电陶瓷放置腔(13)、下部的转轴接触板(14)，螺栓顺次穿过放大框预留沉槽(10)、支撑座预留沉槽(4)后由螺母限位；/n放大框(8)的中部的两侧为内凹的弹性壁，压电陶瓷放置腔(13)底部设置支撑柱(15)，压电陶瓷放置腔(13)顶部设置放大框预留螺孔(9)，固紧螺栓(16)穿过放大框预留螺孔(9)将压电陶瓷(17)横向限位在压电陶瓷放置腔(13)中，压电陶瓷(17)的两端与内凹的弹性壁顶点相抵；/n转轴(6)设置在底板(2)上的底板预留大通孔(12)中，放大框(8)的转轴接触板(14)与转轴(6)相切，转轴(6)的顶部设置转轴预留凹槽(7)。/n

【技术特征摘要】
1.一种视轴稳定装置，其特征在于：它包括底板(2)、支撑座(3)、放大框(8)、转轴(6)，其中：
支撑座(3)设置支撑座预留沉孔(5)，底板(2)设置底板预留螺孔(11)，螺栓穿过该支撑座预留沉孔(5)、底板预留螺孔(11)将支撑座(3)固定在底板(2)上；
支撑座(3)的两侧设置支撑座预留沉槽(4)，所述放大框(8)包括上部的放大框预留沉槽(10)、中部的压电陶瓷放置腔(13)、下部的转轴接触板(14)，螺栓顺次穿过放大框预留沉槽(10)、支撑座预留沉槽(4)后由螺母限位；
放大框(8)的中部的两侧为内凹的弹性壁，压电陶瓷放置腔(13)底部设置支撑柱(15)，压电陶瓷放置腔(13)顶部设置放大框预留螺孔(9)，固紧螺栓(16)穿过放大框预留螺孔(9)将压电陶瓷(17)横向限位在压电陶瓷放置腔(13)中，压电陶瓷(17)的两端与内凹的弹性壁顶点相抵；
转轴(6)设置在底板(2)上的底板预留大通孔(12)中，放大框(8)的转轴接触板(14)与转轴(6)相切，转轴(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：张春熹，戴敏鹏，潘雄，刘海霞，施佳良，
申请(专利权)人：南京申威光电技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32