一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺制造技术

本发明专利技术提供一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺，所述玻璃包括：玻璃基片；由下至上层叠设置于所述玻璃基片面层上的Si

【技术实现步骤摘要】
一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺
本专利技术属于玻璃生产
，具体地，涉及一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺。
技术介绍
玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的。它的主要成分为二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化学组成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸盐复盐，是一种无规则结构的非晶态固体。广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。另有混入了某些金属的氧化物或者盐类而显现出颜色的有色玻璃，和通过物理或者化学的方法制得的钢化玻璃等。有时把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也称作有机玻璃。公开号为CN2702996的中国专利公开了一种浮法在线自清洁杀菌玻璃，它包括有浮法玻璃板，在玻璃板的上表面，采用于浮法玻璃生产线退火窑内的在线加工方法，先附镀气相SiO2或硅溶胶，形成防扩散层，再在扩散层上附镀钛的化合物，形成光催化层。由于在玻璃板与光催化层之间设置了防扩散层，有效解决了自洁玻璃光催化功能递减的问题，而使产品的自清洁和杀菌功能长期得到保证。然而，该专利所提供的自清洁杀菌玻璃，其防紫外能力较弱，且生产制造成本高。
技术实现思路
为解决上述存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种杀菌自洁玻璃及其生产工艺，所述玻璃在玻璃基片面层上层叠设置Si3N4层、SnOx层以及TiOx层，其中的TiOx层通过N2、O2以及Ar气的三种气体混合作为反应气体，在玻璃基片表面磁控溅射形成TiOx层，使得所述玻璃具有良好的杀菌、自清洁能力，玻璃面层由于TiOx层的设置，在阳光照射下，可对有机物形成的细菌进行分解，增强杀菌效果，所述玻璃可见光透过率高，生产制造成本低，经济效益好。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是：一种杀菌自洁玻璃，所述玻璃包括：玻璃基片；由下至上层叠设置于所述玻璃基片面层上的Si3N4层、SnOx层以及TiOx层。进一步地，所述杀菌自洁玻璃的可见光透过率≤80。进一步地，所述Si3N4层的厚度为40~45nm。进一步地，所述SnOx层的厚度为20~25nm。进一步地，所述TiOx层厚度为40~50nm。同时，本专利技术还提供一种杀菌自洁玻璃的生产工艺，所述生产工艺包括如下步骤：1)取玻璃基片，送至送入磁控溅射镀膜室内，采用直流电源，以N2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内N2和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在玻璃基片的面层上磁控溅射Si3N4层；2)采用直流电源，以O2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O2和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在Si3N4层远离玻璃基片一面磁控溅射SnOx层；3)采用直流电源，以O2、N2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O2、N2和Ar的比例为40：40：20，反应气体的气压为2.0mt，在所述SnOx层远离Si3N4层一面磁控溅射TiOx层，得到所述杀菌自洁玻璃。本专利技术的有益效果在于：所述玻璃在玻璃基片面层上层叠设置Si3N4层、SnOx层以及TiOx层，其中的TiOx层通过N2、O2以及Ar气的三种气体混合作为反应气体，在玻璃基片表面磁控溅射形成TiOx层，使得所述玻璃具有良好的杀菌、自清洁能力，玻璃面层由于TiOx层的设置，在阳光照射下，可对有机物形成的细菌进行分解，增强杀菌效果，所述玻璃可见光透过率高，生产制造成本低，经济效益好。附图说明图1为本专利技术所提供的一种杀菌自洁玻璃的结构示意图。具体实施方式参照图1，本专利技术所述的一种杀菌自洁玻璃，所述玻璃包括：玻璃基片1；由下至上层叠设置于所述玻璃基片1面层上的Si3N4层2、SnOx层3以及TiOx层4。进一步地，所述杀菌自洁玻璃的可见光透过率≤80。进一步地，所述Si3N4层2的厚度为40~45nm。进一步地，所述SnOx层3的厚度为20~25nm。进一步地，所述TiOx层4厚度为40~50nm。同时，本专利技术还提供一种杀菌自洁玻璃的生产工艺，所述生产工艺包括如下步骤：1)取玻璃基片1，送至送入磁控溅射镀膜室内，采用直流电源，以N2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内N2和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在玻璃基片的面层上磁控溅射Si3N4层2；2)采用直流电源，以O2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O2和Ar的比例为80：20，反应气体的气压为2.0mt，在Si3N4层2远离玻璃基片1一面磁控溅射SnOx层3；3)采用直流电源，以O2、N2和Ar气的混合气体作为反应气体，所述混合气体内O2、N2和Ar的比例为40：40：20，反应气体的气压为2.0mt，在所述SnOx层3远离Si3N4层2一面磁控溅射TiOx层4，得到所述杀菌自洁玻璃。本专利技术所述的一种杀菌自洁玻璃，在玻璃基片面层上层叠设置Si3N4层、SnOx层以及TiOx层，其中的TiOx层通过N2、O2以及Ar气的三种气体混合作为反应气体，在玻璃基片表面磁控溅射形成TiOx层，使得所述玻璃具有良好的杀菌、自清洁能力，玻璃面层由于TiOx层的设置，在阳光照射下，可对有机物形成的细菌进行分解，增强杀菌效果，所述玻璃可见光透过率高，生产制造成本低，经济效益好。说明的是，以上实施例仅用以说明本专利技术的技术方案而非限制。尽管参照较佳实施例对本专利技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对专利技术的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本专利技术技术方案的范围，其均应涵盖在本专利技术的权利要求范围中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述玻璃包括：/n玻璃基片；/n由下至上层叠设置于所述玻璃基片面层上的Si

【技术特征摘要】
1.一种杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述玻璃包括：
玻璃基片；
由下至上层叠设置于所述玻璃基片面层上的Si3N4层、SnOx层以及TiOx层。


2.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述杀菌自洁玻璃的可见光透过率≤80。


3.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述Si3N4层的厚度为40~45nm。


4.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述SnOx层的厚度为20~25nm。


5.根据权利要求1所述的杀菌自洁玻璃，其特征在于，所述TiOx层厚度为40~50nm。


6.一种如权利要求1~5中任一项所述的杀菌自洁玻璃的生...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩君晖，
申请(专利权)人：太仓耀华玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32