减压干燥装置及减压干燥方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种减压干燥装置，在通过减压使基板上的处理液干燥时，能够减少处理液中的干燥不均的发生。在腔室(10)内的底面(100)设置有凹部(12)，在该凹部(12)的底面(120)设置有排气口(14)。在容纳空间(10S)中的Z轴方向(凹部(12)的深度方向)上与排气口(14)重叠的位置设置有第一整流板(30)。在Z轴方向(凹部(12)的深度方向)上与第一整流板(30)的端部(‑X侧端部(32a)或者+X侧端部(32b))及凹部(12)的内缘部(‑X侧缘部(124a)或者+X侧缘部(124b))重叠的位置设置有第二整流板(40)。多个保持部(52)在第一整流板(30)及第二整流板(40)的上方的位置(上位置(L1)或者下位置(L2))保持基板(9)。

Vacuum drying device and method

The invention provides a decompression drying device, which can reduce the occurrence of uneven drying in the treatment liquid when the treatment liquid on the substrate is dried by decompression. A recess (12) is arranged on the bottom surface (100) in the chamber (10), and an exhaust port (14) is arranged on the bottom surface (120) of the recess (12). A first rectifying plate (30) is arranged at a position overlapped with the exhaust port (14) in the z-axis direction (the depth direction of the recess (12) in the accommodation space (10s). A second rectifying plate (40) is arranged at the position where the z-axis direction (the depth direction of the concave part (12)) overlaps the end of the first rectifying plate (30) (the end of the \u2011 x side (32a) or the end of the + X side (32b)) and the inner edge of the concave part (12) (the edge of the \u2011 x side (124a) or the edge of the + X side (124b)). A plurality of holding parts (52) hold a base plate (9) at a position (upper position (L1) or lower position (L2)) above the first rectifier plate (30) and the second rectifier plate (40).

【技术实现步骤摘要】
减压干燥装置及减压干燥方法
本专利技术涉及一种减压干燥装置及减压干燥方法，特别地，涉及使涂敷在基板上的处理液干燥的技术。作为处理对象的基板包括例如半导体基板、液晶显示装置以及有机电致发光(EL：Electroluminescence)显示装置等平板显示器(FPD：FlatPanelDisplay)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板、印刷基板等。
技术介绍
以往，已知在基板处理装置(例如，液晶面板制造装置等)中，对表面涂敷有处理液的基板实施减压干燥处理的减压干燥装置。例如，在光刻工序中，为了在预烘干之前使涂敷于玻璃基板等被处理基板上的抗蚀剂液的涂敷膜适当地干燥，有时使用会使用减压干燥装置。以往的具有代表性的减压干燥装置，例如，如专利文献1所记载的那样，在配置在可开闭的腔室中的适当高度的基板支撑构件上将基板水平地载置后，关闭腔室来进行减压干燥处理(例如，参照专利文献1、2)。在这种减压干燥处理中，首先，通过设置于腔室内的排气口，利用外部的真空泵，进行腔室内的真空排气。通过该真空排气本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种减压干燥装置，通过减压使在具有第一主面及第二主面的基板的所述第一主面上存在的处理液干燥，其中，/n所述减压干燥装置具有：/n框体，具有能够容纳所述基板的容纳空间，并且具有面对所述容纳空间的第一面；/n凹部，设置于所述第一面；/n排气口，设置于所述凹部的深度方向的底面；/n抽吸机构，经由所述排气口抽吸所述容纳空间的气体；/n第一构件，配置在所述容纳空间中的在所述深度方向上与所述排气口重叠的位置；/n第二构件，配置在特定位置，该特定位置即是所述容纳空间中的在所述深度方向上与所述第一构件的端部及所述凹部的内缘部隔开间隔的位置，又是在所述深度方向上与所述端部及所述内缘部重叠的位置；/n基板保持...

【技术特征摘要】
20180531 JP 2018-1048411.一种减压干燥装置，通过减压使在具有第一主面及第二主面的基板的所述第一主面上存在的处理液干燥，其中，
所述减压干燥装置具有：
框体，具有能够容纳所述基板的容纳空间，并且具有面对所述容纳空间的第一面；
凹部，设置于所述第一面；
排气口，设置于所述凹部的深度方向的底面；
抽吸机构，经由所述排气口抽吸所述容纳空间的气体；
第一构件，配置在所述容纳空间中的在所述深度方向上与所述排气口重叠的位置；
第二构件，配置在特定位置，该特定位置即是所述容纳空间中的在所述深度方向上与所述第一构件的端部及所述凹部的内缘部隔开间隔的位置，又是在所述深度方向上与所述端部及所述内缘部重叠的位置；
基板保持部，在所述容纳空间中的相对于所述第一构件及所述第二构件位于与所述排气口相反一侧的位置保持所述基板。


2.根据权利要求1所述的减压干燥装置，其中，
所述基板保持部包括支撑所述基板的所述第二主面的多个销。


3.根据权利要求2所述的减压干燥装置，其中，
所述多个销包括：
多个第一销，在第一方向上排列；
多个第二销，在与所述第一方向正交的第二方向上与所述多个第一销隔开间隔地在所述第一方向上排列，
所述第二构件配置在所述多个第一销与所述多个第二销之间。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的减压干燥装置，其中，
还包括移动驱动部，该移动驱动部通过使所述多个销在所述深度方向上移动，使所述基板在第一基板位置与第二基板位置之间移动，所述第二基板位置比所述第一基板位置更靠所述排气口。


5.根据权利要求4所述的减压干燥装置，其中，
在所述抽吸机构经由所述排气口开...

【专利技术属性】
技术研发人员：富藤幸雄，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP