【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及描绘系统及描绘方法。[相关申请的参照]本申请主张2022年9月21日申请的日本专利申请jp2022-149684的优先权的利益，将该申请的全部公开引入本申请。
技术介绍
1、近年来，在不使用掩模的情况下在印刷基板等基板上的感光材料上描绘图案的描绘装置(直接描绘装置)被实用化。在利用描绘装置的制造工序中，有时与其他工序同样地发生故障。该故障主要有两种，一种是由描绘装置自身的错误引起的动作的停止。另一种是在图案的描绘正常结束后发现的基板上的图案不良。
2、此外，在日本特开2011-66340号公报(文献1)中，提出了一种迅速查明半导体产品的制造工序中发生的不良原因的方法。在该方法中，将qfp(quad flat package：四面扁平封装)的各制造工序中的制造条件和qfp的识别号码相关联地存储在主服务器中，并且将与识别号码相对应的二维条形码刻印在qfp的表面。由此，在qfp发生不良的情况下，通过读取qfp的二维条形码来确定识别号码，并跟踪存储在主服务器的qfp的制造条件。
3、然而，在上述两种故障中，针对描绘装置自身的错误，通过读取显示器的画面上显示的错误消息，能够进行描绘装置的修复、故障排除。但是，针对感光材料的膜的剥离、描绘时的变形校正的异常、图案的位置精度和线宽精度的不良等基板上的图案不良，往往难以排除故障。作为原因可以举出，由于在描绘动作本身正常结束并显影后发现不良的情况较多，因此从开始描绘经过了一段时间而导致无法判定描绘时的条件，或者，获取与该基板相关联的描绘动作的日志信息花费时间等
4、在利用描绘装置的制造工序中，也可以与上述文献1同样，读取赋予基板的标识符，并将描绘时的各种条件与该标识符相关联地存储在服务器中。但是，在该情况下，在描绘图案时，需要读取赋予基板的标识符，从而处理变得繁琐。因此，需要一种能够容易且在短时间内获取对基板上的图案不良的故障排除有用的信息的新的方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于，容易且在短时间内获取对基板上的图案不良的故障排除有用的信息。
2、本专利技术的第一技术方案，一种描绘系统，具有：描绘单元，对基板进行描绘；以及控制部，通过控制所述描绘单元，使所述描绘单元执行对对象基板的图案的描绘以及与所述图案的描绘相关的描绘相关信息向所述对象基板上的规定位置的描绘。
3、根据本专利技术，通过参照基板上的描绘相关信息，能够容易且在短时间内获取对基板上的图案不良的故障排除有用的信息。
4、本专利技术的第二技术方案，在第一技术方案的描绘系统中，所述描绘系统还具有存储部，所述描绘系统针对通过所述描绘单元执行的对各基板的图案的描绘动作分配日志标识符，并将基于对所述各基板的所述描绘动作获取的日志信息与所述日志标识符相关联地存储在所述存储部，所述描绘相关信息包括对所述对象基板的所述描绘动作的所述日志标识符。
5、本专利技术的第三技术方案，在第一技术方案或第二技术方案的描绘系统中，所述描绘相关信息包括对所述对象基板描绘所述图案的日期和时间、描绘所述图案时参照的所述对象基板的伸缩率、用于描绘所述图案的图案数据名、所述对象基板上的感光材料的信息、以及所述对象基板的种类信息中的至少一种。
6、本专利技术的第四技术方案，在第一技术方案或第二技术方案(也可以是第一技术方案至第三技术方案中的任一个)的描绘系统中，所述描绘系统具有包含所述描绘单元的多个描绘单元，所述描绘相关信息包括对所述对象基板进行所述图案的描绘的所述描绘单元的标识符。
7、本专利技术的第五技术方案，在第一技术方案或第二技术方案(也可以是第一技术方案至第四技术方案中的任一个)的描绘系统中，所述描绘单元具有分别保持基板的多个载物台，所述描绘相关信息包括在描绘所述图案时保持所述对象基板的载物台的标识符。
8、本专利技术的第六技术方案，在第一技术方案或第二技术方案(也可以是第一技术方案至第五技术方案中的任一个)的描绘系统中，所述描绘相关信息的至少一部分以二维码描绘在所述对象基板上。
9、本专利技术的第七技术方案，一种描绘方法，包括：将对象基板搬入至对基板进行描绘的描绘单元的工序；以及使所述描绘单元执行对所述对象基板的图案的描绘、以及与所述图案的描绘相关的描绘相关信息向所述对象基板上的规定位置的描绘的工序。
10、上述的目的及其他目的、特征、方式以及优点，通过参照附图在以下进行的本专利技术的详细说明，更加明确。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种描绘系统，其中，
2.根据权利要求1所述的描绘系统，其中，
3.根据权利要求1或2所述的描绘系统，其中，
4.根据权利要求1或2所述的描绘系统，其中，
5.根据权利要求1或2所述的描绘系统，其中，
6.根据权利要求1或2所述的描绘系统，其中，
7.一种描绘方法，其中，
【技术特征摘要】
1.一种描绘系统，其中，
2.根据权利要求1所述的描绘系统，其中，
3.根据权利要求1或2所述的描绘系统，其中，
4.根据权利要求1或2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：中津智史，八坂智，渡边孝嗣，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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