【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一直对基板进行处理的基板处理装置。基板可举出例如半导体基板、fpd(flat panel display)用的基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。fpd可举出例如液晶显示装置、有机el(electroluminescence)显示装置等。
技术介绍
1、作为现有的基板处理装置，具有混合式的基板处理装置，其具备对多张基板一并进行处理的批量式处理模块(批量处理部)和对由批量式处理模块处理过的基板逐张进行处理的单片式处理模块(单片处理部)(例如参照日本国：特表2016-502275号公报以及日本国：特开2021-064652号公报)。由批量式处理模块处理过的多张基板在变换成水平姿势后，由搬送机器人逐张搬送到单片式处理模块。
2、此外，日本国：实公平03－006581号公报中公开了一种液中装载机，其具备：液槽；悬臂，其载置收纳多个薄板材的匣盒(托架)；升降装置，其使悬臂升降；以及推杆(推出部件)，其将薄板材从匣盒向输送机推出。液中装载机使载置于悬臂的匣盒没入液中。在使用薄板材时，液中装载机使上层侧的薄板材逐张露出到液面上，并利用推杆将露出在液面上的薄板材推出到输送机。推出的薄板材被输送到下一处理装置。
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、但是，现有的基板处理装置具有以下问题。由批量式处理模块处理过的多张基板需要从设置批量式处理模块的批量处理区域搬送到设置单片式处理模块的单片处理区域。如果在该搬送中基板
3、本专利技术鉴于这种情况而作成，目的在于提供一种基板处理装置，在从批量处理区域到单片处理区域的基板搬送中，能够防止基板的干燥。
4、用于解决问题的方案
5、本专利技术为了实现这种目的而采取以下结构。即，本专利技术的基板处理装置连续进行将多张基板一并处理的批量处理和将基板逐张处理的单片处理，该基板处理装置的特征在于，具备：托架载置架，其载置将多张基板以水平姿势空开预定间隔沿铅垂方向收纳的托架；移载块，其与所述托架载置架相邻；以及处理块，其与所述移载块相邻，所述移载块具备：第一姿势变换机构，其将从所述托架取出的所述多张基板从水平姿势变换为铅垂姿势；以及基板操作机构，其从载置于所述托架载置架的所述托架一并取出所述多张基板并搬送到所述第一姿势变换机构，而且使进行了所述单片处理的基板返回载置于所述托架载置架的所述托架，所述处理块具备：批量处理区域，其沿从所述移载块离开的方向延伸；批量基板搬送区域，其沿着所述批量处理区域设置，且一端侧延伸至所述移载块，另一端侧沿从所述移载块离开的方向延伸；单片基板搬送区域，其沿从所述移载块离开的方向延伸；单片处理区域，其沿着所述单片基板搬送区域设置；以及濡湿搬送区域，其与所述批量处理区域及所述单片基板搬送区域相邻，在所述批量处理区域沿该区域延伸的方向排列有对多张基板一并进行浸渍处理的多个批量处理槽，在所述濡湿搬送区域设有：设于所述多个批量处理槽的列的延长线上，且将进行了所述浸渍处理的所述多张基板从铅垂姿势变换为水平姿势的第二姿势变换机构；从所述第二姿势变换机构逐张接收水平姿势的基板并搬送到所述单片基板搬送区域的带式输送机机构；以及为了使由所述带式输送机机构搬送的基板濡湿而供给液体的液体供给部，在所述单片处理区域沿该区域延伸的方向排列有将基板逐张处理的多个单片处理室，在所述单片基板搬送区域设有单片基板搬送机构，该单片基板搬送机构能够接收由所述带式输送机机构搬送来的水平姿势的基板并搬送到所述单片处理室，且搬出在所述单片处理室进行了处理的基板，在所述批量基板搬送区域设有批量基板搬送机构，该批量基板搬送机构在确定于所述移载块内的基板交接位置、所述多个批量处理槽以及所述第二姿势变换机构之间将多张基板一并搬送。
6、根据本专利技术的基板处理装置，濡湿搬送区域与批量处理区域及单片基板搬送区域相邻。在濡湿搬送区域设置有第二姿势变换机构、带式输送机机构以及液体供给部。第二姿势变换机构设于多个批量处理槽的列的延长线上，且将进行了浸渍处理的多张基板从铅垂姿势变换为水平姿势。带式输送机机构从第二姿势变换机构逐张接收水平姿势的基板并搬送到单片基板搬送区域。液体供给部为了使由带式输送机机构输送的基板濡湿而供给液体。带式输送机机构将被液体供给部濡湿的基板从第二姿势变换机构向单片基板搬送区域侧搬送。单片基板搬送区域的单片基板搬送机构接收由带式输送机机构搬送来的水平姿势的基板并搬送到单片处理室。因此，在从批量处理区域向单片处理区域的基板搬送中，能够防止基板的干燥。
7、另外，即使单片基板搬送区域从批量处理区域分离，由于带式输送机机构搬送基板，因此单片基板搬送机构也容易接收基板。另外，带式输送机机构及液体供给部能够防止基板的干燥。因此，能够延长输送路径，由此，能够增加批量处理区域和单片处理区域的配置的自由度。
8、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，所述单片基板搬送区域介于所述批量处理区域与所述单片处理区域之间。由此，移载块、批量处理区域以及单片处理区域能够以单片基板搬送区域为中心配置。
9、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，在所述单片处理区域设有第一单片处理室和第二单片处理室作为所述多个单片处理室，且还设有在两室之间搬送基板的第二单片基板搬送机构，所述单片基板搬送机构接收由所述带式输送机机构搬送来的水平姿势的基板并搬送到所述第一单片处理室，且将在所述第二单片处理室进行了处理的基板搬出。由此，基板由两台单片基板搬送机构搬送，因此能够提高吞吐量。
10、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，所述单片处理区域介于所述批量处理区域与所述单片基板搬送区域之间。由此，能够隔着单片基板搬送区域将单片处理区域的相反侧的区域用作第二单片处理区域，因此能够配置大量的单片处理室。
11、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，所述濡湿搬送区域设于所述批量处理区域的一端侧且与设置有所述移载块的侧相反的侧，在由于介有所述单片处理区域而不能够从所述第二姿势变换机构向所述单片基板搬送区域以直线状搬送基板的情况下，所述带式输送机机构在俯视下设置成绕过所述单片处理区域。带式输送机机构能够一边绕过障碍物一边搬送基板，因此能够提高单片处理区域等的配置的自由度。
12、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，所述濡湿搬送区域介于所述移载块与所述批量处理区域之间。由此，濡湿搬送区域配置于移载块的附近。因此，单片基板搬送机构能够以移载块侧为基点搬送基板。另外，能够将药液处理槽放置于从移载块离开的位置，因此能够抑制移载块的基板操作机构等机构被药液气氛腐蚀等不良影响。
13、另外，在上述的基板处理装置中，优选的是，在所述单片处理区域设有第一单片处理室和第二单片处理室作为所述多个单片处理室，且还设有配置于两室之间的第二单片基板搬送区域，所述濡湿搬送区域设于所述批量处理区域的一端侧且与设置有所述移载块的侧相反的侧，所述单片基板搬送区域具有所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其连续进行将多张基板一并处理的批量处理和将基板逐张处理的单片处理，该基板处理装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其连续进行将多张基板一并处理的批量处理和将基板逐张处理的单片处理，该基板处理装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的基板...
【专利技术属性】
技术研发人员：天久贤治，谷口进一，岩崎旭纮，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。