一种光刻机的挡光板装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及集成电路生产设备技术领域，具体公开了一种光刻机的挡光板装置，包括两块前挡光板，前挡光板上端前后两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一上导轨连接，上导轨内设有一滚珠丝杠，前挡光板下方对应设有两块后挡光板，且后挡光板下端左右两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一下导轨连接，下导轨内设有一滚珠丝杠。本发明专利技术通过上导轨内的滚珠丝杠来带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过下导轨内的滚珠丝杠来带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而通过后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个透光口，结构简单，解决了现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。

A light barrier device of lithography machine

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机的挡光板装置
本专利技术涉及集成电路生产设备
，具体是一种光刻机的挡光板装置。
技术介绍
光刻机（MaskAligner)又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，作为半导体集成电路制造中经常使用的一种设备（即生产大规模集成电路的核心设备），它一般是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜，进而方便后续通过纯水洗净残留在晶圆表面的杂质来生产集成电路（生产集成电路的简要步骤一般包括以下三个步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜；将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路；用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质）。但是，现有的光刻机光路系统中的挡光板一般有四块板，且为依次前后竖直排列，上述的技术方案在实际使用时还存在以下不足：现有的光刻机的挡光板装置大都结构较为复杂，且空间占用率较高。因此，设计一种光刻机的挡光板装置，成为目前亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光刻机的挡光板装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种光刻机的挡光板装置，包括平行设置的两块前挡光板，所述前挡光板上端前后两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一上导轨连接，所述上导轨内设有用于驱动所述前挡光板左右移动的一滚珠丝杠，所述前挡光板下方对应设有两块后挡光板，且所述后挡光板下端左右两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一下导轨连接，所述下导轨内设有用于驱动所述后挡光板前后移动的一滚珠丝杠；通过两个上导轨内的对应的滚珠丝杠来带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过两个下导轨内的对应的滚珠丝杠来带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而可以通过相互垂直设置的后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个透光口，结构简单，在保证挡光板装置正常工作的同时有效提高了空间利用率。作为本专利技术进一步的方案：所述第一滑块上对应设有用于与所述滚珠丝杠配合的螺纹。作为本专利技术再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板均通过多个内六角螺钉与对应的第一滑块与第二滑块进行固定连接。作为本专利技术再进一步的方案：所述滚珠丝杠端部设有用于安装电机的轴承座，且所述轴承座通过多个内六角螺钉固定在对应的上导轨或下导轨上。作为本专利技术再进一步的方案：所述上导轨内部和下导轨内部均设有用于安装滚珠丝杠的通孔，且所述通孔的直径大小大于所述滚珠丝杠的直径大小。作为本专利技术再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板的间距为5-15mm。作为本专利技术再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板的间距为10mm。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术设置了上导轨、滚珠丝杠、前挡光板、下导轨与后挡光板，通过两个上导轨内的对应的滚珠丝杠的工作，进而可以带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过两个下导轨内的对应的滚珠丝杠的工作，进而可以带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而可以通过相互垂直设置的后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个用于提供空间对掩膜版上的电路图进行光刻的透光口，结构简单，在保证挡光板装置正常工作的同时有效提高了空间利用率，解决了现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例。图1为本专利技术一实施例光刻机的挡光板装置的结构示意图。图2为本专利技术一实施例光刻机的挡光板装置的俯视图。图3为本专利技术一实施例光刻机的挡光板装置的仰视图。图4为本专利技术另一实施例光刻机的挡光板装置工作状态的示意图。图中：1-内六角螺钉，2-第一滑块，3-上导轨，4-前挡光板，5-第二滑块，6-滚珠丝杠，7-轴承座，8-后挡光板，9-下导轨。具体实施方式为了使本专利技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。请参阅图1-3，本专利技术提供的一个实施例中，一种光刻机的挡光板装置，包括平行设置的两块前挡光板4，具体的，所述前挡光板4的形状为矩形，通过将前挡光板4设置为矩形结构，可以保证两块前挡光板4在端面接触时能够构成一个整体的矩形结构，当然，也可以根据需要将前挡光板4设置为其他的形状，例如，可以是半圆形、梯形、多边形等，具体根据需求进行选择，这里并不作限定。进一步的，在本专利技术实施例中，所述前挡光板4上端前后两侧分别通过一第一滑块2与一第二滑块5和对应的一上导轨3连接，所述上导轨3内设有用于驱动所述前挡光板4左右移动的一滚珠丝杠6，具体的，所述两块前挡光板4处于同一水平面位置，且为平行设置，即在水平方向左右位置设置两块前挡光板4，在两块前挡光板4上方对应的平行设置两个上导轨3，所述前挡光板4可以在水平方向进行左右移动，以右边位置的前挡光板4为例，该前挡光板4上端前侧设有一第一滑块2，该第一滑块2上端与对应的一上导轨3右部连接，该前挡光板4上端后侧设有一第二滑块5，该一第二滑块5上端与对应的另一上导轨3的右部连接，通过两个上导轨3内的对应的滚珠丝杠6的工作，进而可以带动前挡光板4在水平方向进行左右移动。进一步的，在本专利技术实施例中，所述前挡光板4下方对应设有两块后挡光板8，且所述后挡光板8下端左右两侧分别通过一第一滑块2与一第二滑块5和对应的一下导轨9连接，具体的，所述两块后挡光板8处于同一水平面位置，且为平行设置，即在水平方向前后位置设置两块后挡光板8，在两块后挡光板8下方对应的平行设置两个下导轨9，所述后挡光板8可以在水平方向进行前后移动，以前面位置的后挡光板8为例，该后挡光板8下端右侧设有一第一滑块2，该第一滑块2下端与对应的一下导轨9前部连接，该后挡光板8下端左侧设有一第二滑块5，该一第二滑块5下端与对应的另一下导轨9的前部连接。进一步的，在本专利技术实施例中，所述下导轨9内设有用于驱动所述后挡光板8前后移动的一滚珠丝杠6，通过两个下导轨9内的对应的滚珠丝杠6的工作，进而可以带动后挡光板8在水平方向进行前后移动，具体的，所述后挡光板8与所述前挡光板4的位置为相互垂直设置，即若前挡光板4为竖向放置，则后挡光板8为横向设置，若前挡光板4为横向设置，则后挡光板8为竖向放置；使用时，通过将两个前挡光板4在水平方向进行左右移动，同时将两个后挡光板8在水平方向进行前后移动，进而可以通过相互垂直设置的后挡光板8与前挡光板4的配合使用来构成一个透光口，从而可以用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻机的挡光板装置，包括平行设置的两块前挡光板（4），其特征在于，所述前挡光板（4）上端前后两侧分别通过一第一滑块（2）与一第二滑块（5）和对应的一上导轨（3）连接，所述上导轨（3）内设有用于驱动所述前挡光板（4）左右移动的一滚珠丝杠（6）；所述前挡光板（4）下方对应设有两块后挡光板（8），且所述后挡光板（8）下端左右两侧分别通过一第一滑块（2）与一第二滑块（5）和对应的一下导轨（9）连接，所述下导轨（9）内设有用于驱动所述后挡光板（8）前后移动的一滚珠丝杠（6）。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机的挡光板装置，包括平行设置的两块前挡光板（4），其特征在于，所述前挡光板（4）上端前后两侧分别通过一第一滑块（2）与一第二滑块（5）和对应的一上导轨（3）连接，所述上导轨（3）内设有用于驱动所述前挡光板（4）左右移动的一滚珠丝杠（6）；所述前挡光板（4）下方对应设有两块后挡光板（8），且所述后挡光板（8）下端左右两侧分别通过一第一滑块（2）与一第二滑块（5）和对应的一下导轨（9）连接，所述下导轨（9）内设有用于驱动所述后挡光板（8）前后移动的一滚珠丝杠（6）。2.根据权利要求1所述的光刻机的挡光板装置，其特征在于，所述第一滑块（2）上对应设有用于与所述滚珠丝杠（6）配合的螺纹。3.根据权利要求2所述的光刻机的挡光板装置，其特征在于，所述前挡光板（4）和后挡光板（8...

【专利技术属性】
技术研发人员：郎小虎，
申请(专利权)人：上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31